JPS6166354U - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6166354U
JPS6166354U JP1984149959U JP14995984U JPS6166354U JP S6166354 U JPS6166354 U JP S6166354U JP 1984149959 U JP1984149959 U JP 1984149959U JP 14995984 U JP14995984 U JP 14995984U JP S6166354 U JPS6166354 U JP S6166354U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion beam
mask
shape
vram
ion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1984149959U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6312347Y2 (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1984149959U priority Critical patent/JPS6312347Y2/ja
Publication of JPS6166354U publication Critical patent/JPS6166354U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6312347Y2 publication Critical patent/JPS6312347Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案実施例の装置概略図、第2図は
パターン表示用VRAMのCRT像、第3図、第4図
はビーム制御用VRAMのCRT像を示す図である。 1……イオン源、2……イオンビーム、3……
マスク、4……2次イオン、5……2次イオン検
出器、6……2値化回路、7……CPU、8……
パターン表示用VRAM、9……DAコンバータ、1
0……XYデフレクター、11……ビーム制御用
VRAM、12……インバータ、13……ビームブラ
ンキング電極、20……マスク欠陥、21……指
定領域、22……修正領域。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオンビームマスクリペア装置において、マス
    ク欠陥部近辺の2次イオン像を2値化してVRA
    Mへ取り込みCRTへ表示する機構と、イオンビ
    ーム走査と同期してVRAMのドツトの1,0に対応
    してビームをブランキングする機構を備えること
    により、任意形状のマスク欠陥を修正できること
    を特徴とする、任意形状修正可能なイオンビーム
    マスクリペア装置。
JP1984149959U 1984-10-03 1984-10-03 Expired JPS6312347Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984149959U JPS6312347Y2 (ja) 1984-10-03 1984-10-03

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984149959U JPS6312347Y2 (ja) 1984-10-03 1984-10-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6166354U true JPS6166354U (ja) 1986-05-07
JPS6312347Y2 JPS6312347Y2 (ja) 1988-04-08

Family

ID=30708123

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1984149959U Expired JPS6312347Y2 (ja) 1984-10-03 1984-10-03

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6312347Y2 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5856332A (ja) * 1981-09-30 1983-04-04 Hitachi Ltd マスクの欠陥修正方法
JPS58196020A (ja) * 1982-05-12 1983-11-15 Hitachi Ltd マスクの欠陥検査・修正方法およびその装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5856332A (ja) * 1981-09-30 1983-04-04 Hitachi Ltd マスクの欠陥修正方法
JPS58196020A (ja) * 1982-05-12 1983-11-15 Hitachi Ltd マスクの欠陥検査・修正方法およびその装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6312347Y2 (ja) 1988-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02231510A (ja) 基板検査装置
JPH01282410A (ja) 曲面性状検査装置
JPS6166354U (ja)
JPH0814824A (ja) レーザ光を利用したスペックルパターンによる被計測物の移動量の修正方法ならびにその装置
JPS6312348Y2 (ja)
JPH02213711A (ja) 部品検査装置
JPH02216408A (ja) 基板検査装置
JPS6166349U (ja)
JP2664141B2 (ja) 実装基板検査装置
JPS5863747U (ja) 電子ビ−ムを用いるパタ−ン検査装置
SE8403283D0 (sv) Pseudo-raster weather display apparatus
JPS6251651U (ja)
JPS59150155U (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0274848A (ja) 基板検査装置における教示方法
JPS62158450U (ja)
JPH0220106U (ja)
JPS62183354U (ja)
JPH01118841A (ja) 走査制御装置
JPS61140906U (ja)
JPS5921745U (ja) ヘツドライトの主光軸検査用表示装置
JPS60166485U (ja) 溶接ビード検査装置
JPS58144753U (ja) 走査電子顕微鏡
JPS64259U (ja)
JPS6381484U (ja)
JPS5985570U (ja) 電子線走査型分析装置