JPS6166354U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6166354U JPS6166354U JP1984149959U JP14995984U JPS6166354U JP S6166354 U JPS6166354 U JP S6166354U JP 1984149959 U JP1984149959 U JP 1984149959U JP 14995984 U JP14995984 U JP 14995984U JP S6166354 U JPS6166354 U JP S6166354U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion beam
- mask
- shape
- vram
- ion
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図は本考案実施例の装置概略図、第2図は
パターン表示用VRAMのCRT像、第3図、第4図
はビーム制御用VRAMのCRT像を示す図である。 1……イオン源、2……イオンビーム、3……
マスク、4……2次イオン、5……2次イオン検
出器、6……2値化回路、7……CPU、8……
パターン表示用VRAM、9……DAコンバータ、1
0……XYデフレクター、11……ビーム制御用
VRAM、12……インバータ、13……ビームブラ
ンキング電極、20……マスク欠陥、21……指
定領域、22……修正領域。
パターン表示用VRAMのCRT像、第3図、第4図
はビーム制御用VRAMのCRT像を示す図である。 1……イオン源、2……イオンビーム、3……
マスク、4……2次イオン、5……2次イオン検
出器、6……2値化回路、7……CPU、8……
パターン表示用VRAM、9……DAコンバータ、1
0……XYデフレクター、11……ビーム制御用
VRAM、12……インバータ、13……ビームブラ
ンキング電極、20……マスク欠陥、21……指
定領域、22……修正領域。
Claims (1)
- イオンビームマスクリペア装置において、マス
ク欠陥部近辺の2次イオン像を2値化してVRA
Mへ取り込みCRTへ表示する機構と、イオンビ
ーム走査と同期してVRAMのドツトの1,0に対応
してビームをブランキングする機構を備えること
により、任意形状のマスク欠陥を修正できること
を特徴とする、任意形状修正可能なイオンビーム
マスクリペア装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1984149959U JPS6312347Y2 (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1984149959U JPS6312347Y2 (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6166354U true JPS6166354U (ja) | 1986-05-07 |
JPS6312347Y2 JPS6312347Y2 (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=30708123
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1984149959U Expired JPS6312347Y2 (ja) | 1984-10-03 | 1984-10-03 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6312347Y2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5856332A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-04 | Hitachi Ltd | マスクの欠陥修正方法 |
JPS58196020A (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-15 | Hitachi Ltd | マスクの欠陥検査・修正方法およびその装置 |
-
1984
- 1984-10-03 JP JP1984149959U patent/JPS6312347Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5856332A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-04 | Hitachi Ltd | マスクの欠陥修正方法 |
JPS58196020A (ja) * | 1982-05-12 | 1983-11-15 | Hitachi Ltd | マスクの欠陥検査・修正方法およびその装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6312347Y2 (ja) | 1988-04-08 |
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