JPS6161871B2 - - Google Patents

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JPS6161871B2
JPS6161871B2 JP56038775A JP3877581A JPS6161871B2 JP S6161871 B2 JPS6161871 B2 JP S6161871B2 JP 56038775 A JP56038775 A JP 56038775A JP 3877581 A JP3877581 A JP 3877581A JP S6161871 B2 JPS6161871 B2 JP S6161871B2
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JP
Japan
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strip
surface treatment
roll
treatment agent
gas
Prior art date
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Expired
Application number
JP56038775A
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English (en)
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JPS57153759A (en
Inventor
Saburo Ito
Masahiro Shoji
Naoki Gunji
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Kokan Ltd filed Critical Nippon Kokan Ltd
Priority to JP3877581A priority Critical patent/JPS57153759A/ja
Publication of JPS57153759A publication Critical patent/JPS57153759A/ja
Publication of JPS6161871B2 publication Critical patent/JPS6161871B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、鋼ストリツプなどの帯状材料(以
下ストリツプという)に、溶融金属鍍金、化成処
理、あるいは塗装などの表面処理を連続的に施す
に当り、ストリツプの表面に付着した余剰の表面
処理剤を気体絞り法によつて吹拭する際におけ
る、ストリツプの幅方向に対する表面処理被膜厚
さを均一ならしめるための、帯状材料の表面処理
剤付着量調節装置に関するものである。
一般に、ストリツプに表面処理を施すには、ス
トリツプを、表面処理液中に浸漬通過せしめる
か、あるいは、進行中のストリツプの表面に、表
面処理液をスプレー、噴射、またはロール塗布等
の方法を用いて付着せしめている。
上記のような方法で表面処理されたストリツプ
の表面には、所定の被膜厚さ以上の表面処理剤が
付着しているため、余剰の表面処理剤は、ロール
あるいは気体絞り等の方法によつて除去すること
が行なわれており、特に近年、表面処理の高速化
にともない、気体絞りによる除去が広く用いられ
ている。
表面処理の施されたストリツプは、付着された
表面処理剤が、凝固、乾燥して固化するまでの間
は、ロール等の支持物に接触すると、表面処理剤
の付着表面が損傷するため、ストリツプがロール
等の支持物と接触しても、表面処理剤の付着表面
が悪影響を受けなくなるまでの時間、すなわち、
ストリツプがその時間を経過するまでの間は、ロ
ール等の支持物と接触させることは出来ない。
しかも、気体絞り法においては、ロールでの絞
り法とは異なり、気体絞りの時点において、スト
リツプをロールが支持していないため、支持ロー
ル間の距離、すなわち表面処理剤付着前の支持ロ
ールから、付着後の支持ロールまでの距離が長く
なる。
支持ロール間の距離が小さい時は、その間にあ
るストリツプは、中央そり等の変形が起り難く、
平面を保ちやすいが、支持ロール間の距離が大き
くなるほど、支持ロール間にあるストリツプは、
中央そり等の変形を生じ易く、また振動しやすく
なる。その結果、気体絞りノズルの先端とストリ
ツプとの間隔に変化を生じ、表面処理剤の付着厚
さが不均一となる。
気体絞り法において、表面処理剤の均一な付着
厚さ、特に、ストリツプの幅方向における付着厚
さを均一に保つためには、まず第一に、気体絞り
ノズル先端を通過する際のストリツプが、必ず正
しい平面となつており、さらに、気体絞りノズル
とストリツプとの間隔が一定であることが必要で
ある。
この気体絞り時におけるストリツプの平面状態
を確保し、ストリツプと気体絞りノズル間の距離
を一定に保つ手段について従来から種々の考案が
なされている。
例えば、特開昭50―3926には、溶融亜鉛鍍金に
おける気体絞りの際、ストリツプの支持間隔を短
かくすることを目的として、気体絞りノズルの上
方に冷却されたタツチロールを設けた装置が開示
されており、その概要は、第1図および第2図に
示すごとくである。
即ち、第1図において、図示されていない前処
理装置を経てきたストリツプ1は、表面処理剤で
ある溶融金属浴2に入り、浴中のシンクロール3
により方向を転じて浴面に向い、その間に鍍金が
施された後、ほぼ浴面に設けられた一対のピンチ
ロール4を経て浴面上に出、一対の気体絞りノズ
ル5により過剰鍍金が除去され、気体絞りノズル
5の上方に設けられた一対のタツチロール6,
6′を経て、トツプロール8に至り、進行方向を
変えて次工程へと進行する。
この際、ストリツプ1は、浴面に配設されたピ
ンチロール4と、気体絞りノズル5の上方に設け
られたタツチロール6,6′とによつて支持され
る。
第2図は、第1図における一対のタツチロール
6を改良し、タツチロール7,7′間を、ストリ
ツプ1がS字状に移動通過するように配置したも
のである。
しかしながら、上記のタツチロールは、いずれ
も、ロールを水冷して、ストリツプとの接触によ
つて生ずるロール表面の温度上昇を防止してはい
るが、溶融金属が未凝固状態のストリツプがタツ
チロール7,7′に接触すると、前記溶融金属が
ロール表面に付着し、その結果鍍金表面に疵を発
生せしめる危険が大きく、また溶融金属が多くな
ると、ロールによる絞りむらが発生し、外観を著
しく損う。従つて溶融金属の付着防止のために
は、気体絞りノズルからタツチロールまでの距離
を十分に大きくとることが必要となり、ときには
完全に乾燥後にタツする必要が生じ、タツチロー
ルを気体絞りノズルに近接して設置することは出
来ない。更に、ミニマムスパングル鍍金製品やガ
ルバニールされた鍍金製品を製造する場合のよう
に、気体絞りノズルの直上に必要な設備が設けら
れる場合は、上記タツチロールは更に上方へ離し
て設けなければばならず浴面のピンチロール4か
らの距離は一段と長くなつて、ストリツプ1の平
面確保、振動防止は益々困難となる。
上述の例からわかる様に、気体絞りノズルの前
面において、通過するストリツプが平面に保たれ
るためには、気体絞りノズルに出来るだけ近接し
た位置にタツチロールを設けることが設けること
が望ましく、気体絞りノズルに近いほどその効果
は格段に優れてくるにもかかわらず、気体絞りノ
ズルの直上にこれを設けることは極めて困難であ
る。
さらに浴面のピンチロールは、ドロスの付着防
止等の点から、浴面より上方に設けることは出来
ない。
気体絞りノズルの下方にサポートロールを配置
した装置も知られているが、前記サポートロール
の圧下が強いと、サポートロールによつてストリ
ツプの表面に付着した溶融状態の表面処理剤が絞
られ、ロールマークが発生する上、気体絞りノズ
ルによる絞り効果が無くなる。また、前記サポー
トロールの圧下を弱くすると、気体絞りノズルに
よつて絞られた過剰の表面処理剤がサポートロー
ル上に落下してサポートロール上にメニスカスを
形成且つスプラツシユが飛散して操業不能となる
問題が生ずる。
この発明は、上述の問題点を解決するためにな
されたものであつて、帯状材料に付着した表面処
理剤の付着量を調節するための気体絞りノズル
が、表面処理浴上方の帯状材料進行位置に設けら
れ、前記気体絞りノズルの下方の表面処理浴の浴
面に1対のピンチロールが設けられている、帯状
材料の表面処理剤付着量調節装置において、 前記気体絞りノズルと前記ピンチロールとの間
の、前記気体絞りノズルに近接した直下に、その
軸方向に複数のデイスクまたは円周溝が間隔をお
いて形成されている1対のサポートロールを設
け、前記気体絞りノズルによつて吹き落された余
剰の表面処理剤を、前記記サポートロールに形成
された溝を通して下方に落下せしめるようにした
ことに特徴を有するものである。
次にこの発明を、実施例により図面と共に説明
する。
第3図には、この発明装置を説明するための鍍
金装置全体の略図が、第4図には、本発明に使用
されるサポートロールの1実施例としてデイスク
ロールが正面図により示されている。
第3図において、従来装置と同一部分は同一番
号で説明する。この発明装置においても、第1
図、第2図において説明したと同様、図示されて
いない前処理装置を経てきたストリツプ1は、表
面処理剤である溶融金属浴2に入り、浴中のシン
クロール3により方向を転じて浴面に向い、その
間に鍍金が施された後、ほゞ浴面に設けられた一
対のピンチロール4を経て浴面上に出、一対の気
体絞りノズル5により過剰の鍍金金属が除去さ
れ、トツプロール8に至り進行方向を変えて次工
程に移動する。
この発明の装置においては、上述の鍍金装置に
おいて、気体絞りノズル5とピンチロール4との
間の、気体絞りノズル5の直下に、一対のサポー
トロール9が配設されている。
一般に、気体絞りノズル5は、鍍金浴の浴面か
ら200〜600mm離れた上方の位置に設けられてい
る。
この発明において用いられるサポートロール9
は、気体絞りノズル5の直下、すなわち、気体絞
りノズル5の下端から、20〜200mmの位置に設け
ることが好ましい。
第4図には、サポートロール9の一例が正面図
により示されている。このサポートロール9には
ロール軸10にドーナツ型の複数個のデイスク1
1が、複数個のスペーサー12を介して間隔を置
いて列設され、ストツパー13、ナツト14によ
りロール軸10上に固定されている。
なお、前記サポートロールは、上述の構造に限
られるものではなく、軸とデイスクとが一体に成
型されているデイスクロール、あるいは、円周溝
付ロール等を使用することも出来、いずれにおい
ても、気体絞りノズルの直下で、ストリツプを平
坦に支持し、しかも気体絞りノズルで吹き落され
た余剰の表面処理剤を、上記ロールの溝を通し
て、下方へ支障なく円滑に落下せしめうる構造で
あればよい。
したがつて、デイスクロールのデイスクの形
状、寸法、あるいは溝付ロールの溝の形状寸法
は、表面処理剤、表面処理条件に応じて適宜選定
すればよく、材質も、金属、セラミツク等適宜の
ものを使用しうる。
本発明者等の経験によれば、デイスクロールの
場合、デイスクの寸法は、厚さ5〜50mm、デイス
ク間隔5〜100mm、デイスク間の溝の深さ10〜50
mm程度に構成することが実用的である。
また、円周溝付ロールの場合、円周溝の形状は
U型、V型等各種のものを用いうるが、V型の場
合は、溝の深さを、U型の場合の約1.5倍の深さ
にすることが望ましい。
次に、本発明を第3図に示す設備によつて連続
式溶融亜鉛鍍金に適用した場合の実施例について
説明する。
実施例 幅1220mm、厚さ1mmの鋼ストリツプによる溶融
亜鉛鍍金浴での鍍金に際し、気体絞りノズル5の
下面から100mm下方にその上面が位置するよう、
直径100mm、厚さ20mm、溝の深さ25mmのセラミツ
ク製デイスクが20mm間隔で30個とりつけられたサ
ポートロール9を設け、ピンチロール4から送り
出された鋼ストリツプ1をサポートロール9によ
り支持せしめた。
気体絞りノズル5の前面を通過する鋼ストリツ
プの中央そりは、従来10mm以内と大きかつたのに
対し、この装置の場合は2mm以内であつた。
したがつて、目付量60/60g/m2におけるスト
リツプ幅方向の目付量バラツキは、従来では表と
裏で最大30g/m2であつたのに対し、本発明の場
合は、最大5g/m2と極めて小さくなつた。
上述の実施例は、溶融亜鉛鍍金について説明し
たが、同様な他の溶融金属鍍金は勿論、化成処理
その他の表面処理における気体絞り装置に用いて
も同様の効果を上げることが出来る。上記実施例
では気体絞りノズルに比較的近い位置に浴面のピ
ンチロールが設けられているが、このようなピン
チロールが存在しない場合にこの発明装置を使用
すれば特にすぐれた効果が発揮される。
さらに、本発明装置によれば、気体絞りによつ
て絞られ、流下する表面処理剤は、サポートロー
ルの溝を通つてすべて下方の浴中へ落下するため
表面処理剤がロール軸方向に飛散することがな
く、作業環境をそこねることがない。
本発明の場合サポートロールは、表面処理浴の
浴面よりも上方に配設されるため、浴中におかれ
たロールのように、軸受に特別の配慮をする必要
がなく、ベアリング等を用いて軸受積度の向上が
はかれるので、ストリツプの振動も極端に小さく
なり、また耐久性も向上する。さらに、ベアリン
グ等を用いた軸受を使用できるため、回転がスム
ースで駆動装置を用いる必要はなくアイドラーで
使用できるという利点もある。
上述のように、この発明の装置によれば、スト
リツプの表面処理における気体絞り装置におい
て、従来問題とされていた気体絞りノズル前面に
おけるストリツプの平坦度を極めて良好に保ちう
るばかりでなく、振動をも極端に減少せしめ得
て、気体絞り法による製品の品質を向上せしめる
と共に、さらに高速化への技術的障害を除去しう
るという優れた効果がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、従来の連続溶融亜鉛鍍
金装置の説明図、第3図は、本発明の装置を1実
施例として連続溶融亜鉛鍍金に用いた場合の説明
図、第4図は、本発明装置に用いられるサポート
ロールの1実施例を示す正面図である。図面にお
いて、 1……ストリツプ、2……溶融金属浴、3……
シンクロール、4……ピンチロール、5……気体
絞りノズル、6,6′,7,7′……タツチロー
ル、8……トツプロール、9……サポートロー
ル、10……ロール軸、11……デイスク、12
……スペーサー、13……ストツパー、14……
ナツト。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 帯状材料に付着した表面処理剤の付着量を調
    節するための気体絞りノズルが、表面処理浴上方
    の帯状材料進行位置に設けられ、前記気体絞りノ
    ズルの下方の表面処理浴の浴面に1対のピンチロ
    ールが設けられている、帯状材料の表面処理剤付
    着量調節装置において、 前記気体絞りノズルと前記ピンチロールとの間
    の、前記気体絞りノズルに近接した直下に、その
    軸方向に複数のデイスクまたは円周溝が間隔をお
    いて形成されている1対のサポートロールを設
    け、前記気体絞りノズルによつて吹き落された余
    剰の表面処理剤を、前記サポートロールに形成さ
    れた溝を通して下方に落下せしめるようにしたこ
    とを特徴とする、帯状材料の表面処理剤付着量調
    節装置。
JP3877581A 1981-03-19 1981-03-19 Controller for amount of surface-treating agent adhering to strip material Granted JPS57153759A (en)

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JPS57153759A JPS57153759A (en) 1982-09-22
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Cited By (1)

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