JPS6159628B2 - - Google Patents
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- JPS6159628B2 JPS6159628B2 JP54099359A JP9935979A JPS6159628B2 JP S6159628 B2 JPS6159628 B2 JP S6159628B2 JP 54099359 A JP54099359 A JP 54099359A JP 9935979 A JP9935979 A JP 9935979A JP S6159628 B2 JPS6159628 B2 JP S6159628B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
- C07D263/52—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D263/54—Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles
- C07D263/56—Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 2
- C07D263/57—Aryl or substituted aryl radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C201/00—Preparation of esters of nitric or nitrous acid or of compounds containing nitro or nitroso groups bound to a carbon skeleton
- C07C201/06—Preparation of nitro compounds
- C07C201/12—Preparation of nitro compounds by reactions not involving the formation of nitro groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/04—Formation of amino groups in compounds containing carboxyl groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次の一般式
（式中のＸはＨ，Cl，Br，Ｆまたは１〜６個
の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐鎖アルキル
基を示す）で表わされるベンゾオキサゾールプロ
ピオン酸融導体の製造方法に関するものである。
の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐鎖アルキル
基を示す）で表わされるベンゾオキサゾールプロ
ピオン酸融導体の製造方法に関するものである。
上記式中星印で示す炭素原子は不斉炭素原子で
あるので、一般式１で示されるすべての化合物
は、右旋性および左旋性形態並びにラセミ混合物
の形態で存在する。一般式１の化合物は既知で
（J.Medic.Chem.1975、第18巻、No.１第53〜58
頁）、フエニルブタゾンより著しく強力である良
好な耐炎症性を有し且つ毒性が弱いことが知られ
ている。
あるので、一般式１で示されるすべての化合物
は、右旋性および左旋性形態並びにラセミ混合物
の形態で存在する。一般式１の化合物は既知で
（J.Medic.Chem.1975、第18巻、No.１第53〜58
頁）、フエニルブタゾンより著しく強力である良
好な耐炎症性を有し且つ毒性が弱いことが知られ
ている。
前記文献にはまた１式の化合物の製造方法が記
載されている。この方法は、出発物質として４−
ヒドロキシ−３−ニトロフエニル−α−メチルア
セトニトリルを使用し、主として次の工程で示さ
れる。
載されている。この方法は、出発物質として４−
ヒドロキシ−３−ニトロフエニル−α−メチルア
セトニトリルを使用し、主として次の工程で示さ
れる。
工程(a)においては４−ヒドロキシ−３−ニトロ
フエニル−α−メチルアセトニトリルを、10％
Pdを炭素に担持して成る触媒を使用し、周囲温
度で水素により対応するアミノ化合物に還元す
る。この工程に対し公表されている収率は100％
である。
フエニル−α−メチルアセトニトリルを、10％
Pdを炭素に担持して成る触媒を使用し、周囲温
度で水素により対応するアミノ化合物に還元す
る。この工程に対し公表されている収率は100％
である。
工程(b)は２種の試薬の混合物をピリジン中で最
初100℃で１時間次いで200℃で加熱することによ
り実施する。この行程で得られる収率は約63％で
ある。
初100℃で１時間次いで200℃で加熱することによ
り実施する。この行程で得られる収率は約63％で
ある。
最後に工程(c)では、ニトリルを還流下で濃塩化
水素酸を使用し加水分解して酸を得る。収率は89
％である。
水素酸を使用し加水分解して酸を得る。収率は89
％である。
従つて上記既知方法は全収率が約56％であると
記載されている。実際にはＸが種々の意味を有す
るベンゾイルクロリドの誘導体を用いて行つた多
数の試験では収率が常に著しく低かつた。１式の
ラセミ生成物を分解して生成物を構成する光学的
対掌体にする方法は今日まで見出されていないこ
とも知られている。
記載されている。実際にはＸが種々の意味を有す
るベンゾイルクロリドの誘導体を用いて行つた多
数の試験では収率が常に著しく低かつた。１式の
ラセミ生成物を分解して生成物を構成する光学的
対掌体にする方法は今日まで見出されていないこ
とも知られている。
本発明の方法によると、１式のラセミ化合物と
個々の光学的対掌体の両者を、既知方法と同じ出
発物質から始めて既知方法より著しく大なる収率
で直接製造し得ることを確かめた。
個々の光学的対掌体の両者を、既知方法と同じ出
発物質から始めて既知方法より著しく大なる収率
で直接製造し得ることを確かめた。
このことは工業的規模で明らかな経済的利点で
ある。
ある。
既知方法では純粋な光学的対掌体を得ることは
決してできないが、本発明の新規な方法によると
実際に100％の純度で２種の光学的に活性な化合
物のいずれかを選択的に直接得ることができるこ
とは極めて重要で全く予期し得ないことである。
決してできないが、本発明の新規な方法によると
実際に100％の純度で２種の光学的に活性な化合
物のいずれかを選択的に直接得ることができるこ
とは極めて重要で全く予期し得ないことである。
本発明の新規な方法は、次に化学反応式で示す
処理段階からなる： 但し上記式中のＸは前記のものと同じものを示
す。
処理段階からなる： 但し上記式中のＸは前記のものと同じものを示
す。
本発明の新規な方法の工程(A)においては、３−
ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−α−メチル−
アセトニトリルを還流下で濃塩化水素酸と一緒に
加熱することにより加水分解して対応する酸を生
成する。この加水分解は85〜90％の収率で行われ
る。
ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−α−メチル−
アセトニトリルを還流下で濃塩化水素酸と一緒に
加熱することにより加水分解して対応する酸を生
成する。この加水分解は85〜90％の収率で行われ
る。
工程(B)において３−ニトロ−４−ヒドロキシフ
エニル−α−メチル酢酸を、Pdを炭素上に担持
して成る触媒の存在下20〜50℃の温度で水素でニ
トロ基を還元することにより対応する３−アミノ
酸誘導体に還元する。この水素化工程の収率は90
〜95％である。
エニル−α−メチル酢酸を、Pdを炭素上に担持
して成る触媒の存在下20〜50℃の温度で水素でニ
トロ基を還元することにより対応する３−アミノ
酸誘導体に還元する。この水素化工程の収率は90
〜95％である。
複素環を形成する最終工程(C)は３−アミノ−４
−ヒドロキシフエニル−α−メチル酢酸から出発
して中間体生成物を分離することなく直接ベンゾ
オキサゾリルプロピオン酸誘導体が直接得られる
点で単一工程であるが、２つの連続する期間で実
施しなければならない。
−ヒドロキシフエニル−α−メチル酢酸から出発
して中間体生成物を分離することなく直接ベンゾ
オキサゾリルプロピオン酸誘導体が直接得られる
点で単一工程であるが、２つの連続する期間で実
施しなければならない。
これに関して、先ず３−アミノ−４−ヒドロキ
シフエニル−α−メチル酢酸を、塩化ベンゾイル
またはそのｐ−置換誘導体の１つと無水エチルエ
ーテル中で強アルカリ塩基の存在下で最初に氷で
冷却し、次いで４時間周囲温度でかきまぜ乍ら反
応させる。塩基は約１：１のモル比で添加する。
シフエニル−α−メチル酢酸を、塩化ベンゾイル
またはそのｐ−置換誘導体の１つと無水エチルエ
ーテル中で強アルカリ塩基の存在下で最初に氷で
冷却し、次いで４時間周囲温度でかきまぜ乍ら反
応させる。塩基は約１：１のモル比で添加する。
この期間の後、85％H3HO4を、好ましくは
１：10の容量比で添加し、混合物を100〜150℃で
２時間加熱する。
１：10の容量比で添加し、混合物を100〜150℃で
２時間加熱する。
次いで混合物を冷却し、冷水を添加することに
より環化した結晶化合物を沈澱させる。この工程
(C)の全収率は常に約90％である。ベンゾオキサゾ
リルプロピオン酸を、水溶性のアンモニウム塩を
製造し、該酸を酢酸で再沈澱させることにより精
製する。
より環化した結晶化合物を沈澱させる。この工程
(C)の全収率は常に約90％である。ベンゾオキサゾ
リルプロピオン酸を、水溶性のアンモニウム塩を
製造し、該酸を酢酸で再沈澱させることにより精
製する。
前記より明らかな如く、本発明の新規な方法
は、既知方法と同じ出発物質から出発し、同数の
工程を用いるが、ｐ−置換塩化ベンゾイルにおけ
るＸの意味より73〜82％の全収率を与える点で工
業的に極めて有利である。
は、既知方法と同じ出発物質から出発し、同数の
工程を用いるが、ｐ−置換塩化ベンゾイルにおけ
るＸの意味より73〜82％の全収率を与える点で工
業的に極めて有利である。
最初に記載したように、本発明方法の極めて重
要で驚くべき観点は、１式のラセミ化合物を構成
する個々の光学的対掌体を直接製造するのが容易
なことである。
要で驚くべき観点は、１式のラセミ化合物を構成
する個々の光学的対掌体を直接製造するのが容易
なことである。
次式
で表わされる右旋性化合物を製造しなければなら
ない場合には、この際使用する出発物質は、次式 で示される左旋性３−ニトロ−４−ヒドロキシフ
エニル−α−メチルアセトニトリルである。この
理由は酸加水分解工程(A)において、回転力の反転
があり、次式 で表わされる右旋性３−ニトロ−４−ヒドロキシ
フエニル−α−メチル酢酸が形成されるからであ
る。
ない場合には、この際使用する出発物質は、次式 で示される左旋性３−ニトロ−４−ヒドロキシフ
エニル−α−メチルアセトニトリルである。この
理由は酸加水分解工程(A)において、回転力の反転
があり、次式 で表わされる右旋性３−ニトロ−４−ヒドロキシ
フエニル−α−メチル酢酸が形成されるからであ
る。
次の工程ＢおよびＣにおいて、光学活性の形態
は変らないので、右旋性アミノ酸が得られ、最後
にベンゾオキサゾリルプロピオン酸誘導体が得ら
れる。同様に次式 で表わされ左旋性化合物を得ることが必要である
場合には、使用すべき出発物質は、次式 で表わされる右旋性ニトリルである。この理由は
この物質を酸加水分解して対応する酸を得る場合
には、光学的活性の反転を受けるからである。然
し左旋性光学的活性は最終生成物まで引続く工程
中そのまま変化しない。個々の工程中得られる生
成物は光学的純度100％である。本発明の方法を
実施し得るということは、多くの化学工程、実施
する際の温度および酸性度またはアルカリ度の条
件が厳密であるために、種々の中間体および／ま
たは最終生成物が、処理中ラセミ化しない、即ち
除去し得ない著しい分量の他の対掌体を少くとも
形成しない点で真に驚くべきことである。
は変らないので、右旋性アミノ酸が得られ、最後
にベンゾオキサゾリルプロピオン酸誘導体が得ら
れる。同様に次式 で表わされ左旋性化合物を得ることが必要である
場合には、使用すべき出発物質は、次式 で表わされる右旋性ニトリルである。この理由は
この物質を酸加水分解して対応する酸を得る場合
には、光学的活性の反転を受けるからである。然
し左旋性光学的活性は最終生成物まで引続く工程
中そのまま変化しない。個々の工程中得られる生
成物は光学的純度100％である。本発明の方法を
実施し得るということは、多くの化学工程、実施
する際の温度および酸性度またはアルカリ度の条
件が厳密であるために、種々の中間体および／ま
たは最終生成物が、処理中ラセミ化しない、即ち
除去し得ない著しい分量の他の対掌体を少くとも
形成しない点で真に驚くべきことである。
次式
で表わされる３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニ
ル−α−メチルアセトニトリルを、高温条件下で
Ｌ−エフエドリンで塩化し、２種の鏡像異性体を
99％エタノール、クロロホルムまたは酢酸エチル
から分別結晶により分離することによりその光学
的対掌体に分解する。
ル−α−メチルアセトニトリルを、高温条件下で
Ｌ−エフエドリンで塩化し、２種の鏡像異性体を
99％エタノール、クロロホルムまたは酢酸エチル
から分別結晶により分離することによりその光学
的対掌体に分解する。
使用するＬ−エフエドリンの分量は、化学量論
的分量とその50％の間で、収率に大きい変化を与
えることなく決定することができる。光学的に活
性なニトリルは、そのエフエドリン塩から好まし
くは50〜70℃で酢酸を用いて酸加水分解すること
により回収することができる。
的分量とその50％の間で、収率に大きい変化を与
えることなく決定することができる。光学的に活
性なニトリルは、そのエフエドリン塩から好まし
くは50〜70℃で酢酸を用いて酸加水分解すること
により回収することができる。
次に本発明を実施例につき説明する。
実施例 １
（＋）３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸の製造 25ｇの（−）３−ニトロ−４−ヒドロキシフエ
ニル−α−メチルアセトニトリル（0.13M）を
210mlの濃塩化水素酸に注入した。生成した混合
物を還流下2.5時間加熱し、次いで冷却し、氷中
に注入した。次の特性を有する黄色結晶生成物24
ｇを分離した。
α−メチル酢酸の製造 25ｇの（−）３−ニトロ−４−ヒドロキシフエ
ニル−α−メチルアセトニトリル（0.13M）を
210mlの濃塩化水素酸に注入した。生成した混合
物を還流下2.5時間加熱し、次いで冷却し、氷中
に注入した。次の特性を有する黄色結晶生成物24
ｇを分離した。
融点 113〜114℃
〔α〕２０ Ｄ＝＋40゜（メタノール中Ｃ＝２％）
収率 87.3％
（＋）３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸の製造 24ｇの（＋）３−ニトロ−４−ヒドロキシフエ
ニル−α−メチル酢酸（0.114M）を、500mlの無
水エタノールに溶解し、次いで５％Pdを炭素に
担持した触媒１ｇを添加し、混合物を大気圧下35
〜40℃で水素添加した。
α−メチル酢酸の製造 24ｇの（＋）３−ニトロ−４−ヒドロキシフエ
ニル−α−メチル酢酸（0.114M）を、500mlの無
水エタノールに溶解し、次いで５％Pdを炭素に
担持した触媒１ｇを添加し、混合物を大気圧下35
〜40℃で水素添加した。
理論量の水素を消費（約7.5）し、触媒を
別し、液を真空下蒸発させた。
別し、液を真空下蒸発させた。
残留物をエチルエーテルに溶解した。19ｇの
（＋）３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−α
−メチル酢酸を得、これは92.2％の収率に等しか
つた。
（＋）３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−α
−メチル酢酸を得、これは92.2％の収率に等しか
つた。
融点 162℃
〔α〕２０ Ｄ＝＋50〜55゜（メタノール中Ｃ＝２
％） （＋）２（ｐ−フルオルフエニル）−α−メチル
−５−ベンゾオキサゾール酢酸の製造 19ｇの（＋）３−アミノ−４−ヒドロキシフエ
ニル−α−メチル酢酸（0.105）を211mlのＮ／
2NAOH（0.105M）に溶解した。次いで190mlの
エチルエーテルに添加し、生成した混合物を氷で
冷却した。
％） （＋）２（ｐ−フルオルフエニル）−α−メチル
−５−ベンゾオキサゾール酢酸の製造 19ｇの（＋）３−アミノ−４−ヒドロキシフエ
ニル−α−メチル酢酸（0.105）を211mlのＮ／
2NAOH（0.105M）に溶解した。次いで190mlの
エチルエーテルに添加し、生成した混合物を氷で
冷却した。
ｐ−フルオルベンゾイルクロリド16.65ｇ
（0.105M）を35mlの無水エチルエーテルに溶解し
たエーテル溶液を上記溶液にかきまぜ乍ら添加し
た。混合物を周囲温度で４時間かきまぜ、沈澱を
別した。生成した固体を220mlの85％H3PO4に
かきまぜ乍ら添加した。混合物を120℃で２時間
加熱し、冷却し、結晶が析出するまで水を緩徐に
添加した。生成物を別し、乾燥した。最終生成
物27ｇを収率90％で得た。
（0.105M）を35mlの無水エチルエーテルに溶解し
たエーテル溶液を上記溶液にかきまぜ乍ら添加し
た。混合物を周囲温度で４時間かきまぜ、沈澱を
別した。生成した固体を220mlの85％H3PO4に
かきまぜ乍ら添加した。混合物を120℃で２時間
加熱し、冷却し、結晶が析出するまで水を緩徐に
添加した。生成物を別し、乾燥した。最終生成
物27ｇを収率90％で得た。
融点 146〜150℃
〔α〕２０ Ｄ＝＋50゜（DMF中Ｃ＝２％）
アンモニウム塩を水溶液中で調製し、セライト
を介して過し、酢酸で再沈澱させることにより
更に精製した後、乾燥生成物は次の特性を有し
た。
を介して過し、酢酸で再沈澱させることにより
更に精製した後、乾燥生成物は次の特性を有し
た。
融点 162〜164℃
〔α〕２０ Ｄ＝＋50゜（DMF中Ｃ＝２％）
元素分析（％） Ｃ Ｈ Ｎ
計 算 値 67.37 4.21 4.94
実 験 値 67.25 4.23 4.85
実施例 ２
ラセミ３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸の製造 ３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−α−メ
チル−アセトニトリル35ｇ（0.182M）を300mlの
濃塩化水素酸に注入した。混合物を還流下３時間
加熱し、冷却し、氷水中に注入した。34.5ｇの結
晶生成物が析出した。
α−メチル酢酸の製造 ３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−α−メ
チル−アセトニトリル35ｇ（0.182M）を300mlの
濃塩化水素酸に注入した。混合物を還流下３時間
加熱し、冷却し、氷水中に注入した。34.5ｇの結
晶生成物が析出した。
融点 111〜113℃
収率 90％
ラセミ３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸の製造 30ｇの３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸を500mlの無水エタノールに溶解
し、炭素に５％Pdを担持した触媒1.5ｇを添加
し、水素添加を大気圧および周囲温度で実施し
た。
α−メチル酢酸の製造 30ｇの３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸を500mlの無水エタノールに溶解
し、炭素に５％Pdを担持した触媒1.5ｇを添加
し、水素添加を大気圧および周囲温度で実施し
た。
触媒を別し、液を小容量になるまで濃縮し
た。
た。
これを過し、メタノールで晶出した。ラセミ
３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−α−メチ
ル酢酸24.5ｇを収率95％で得た。融点は167゜〜
169℃であつた。
３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−α−メチ
ル酢酸24.5ｇを収率95％で得た。融点は167゜〜
169℃であつた。
ラセミ２−（ｐ−フルオルフエニル）−α−メチ
ル−５−ベンゾオキサゾール酢酸の製造 ラセミ３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸18.1ｇ（0.1M）を窒素雰囲気下
でＮ／2NaOH200mlに溶解し、150mlのエチルエ
ーテルを添加し、溶液を氷水で冷却した。この点
で15.85ｇのｐ−フルオルベンゾイルクロリドを
30mlの無水エーテルに溶解した溶液を滴下し、生
成した混合物を４時間周囲温度でかきまぜた。15
時間放置し、過した。28ｇの生成物を得、これ
は収率92.5ｇに等しかつた。融点は188〜189℃で
あつた。
ル−５−ベンゾオキサゾール酢酸の製造 ラセミ３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル酢酸18.1ｇ（0.1M）を窒素雰囲気下
でＮ／2NaOH200mlに溶解し、150mlのエチルエ
ーテルを添加し、溶液を氷水で冷却した。この点
で15.85ｇのｐ−フルオルベンゾイルクロリドを
30mlの無水エーテルに溶解した溶液を滴下し、生
成した混合物を４時間周囲温度でかきまぜた。15
時間放置し、過した。28ｇの生成物を得、これ
は収率92.5ｇに等しかつた。融点は188〜189℃で
あつた。
上記の如くして得た生成物をすべて85％燐酸
250ml中に注入した。混合物を２時間120℃で加熱
し、次いで冷却した。水を添加したところ24.3ｇ
のラセミ２−〔ｐ−フルオルフエニル）−α−メチ
ル−５−ベンゾオキサゾール酢酸が沈澱し、これ
を別した。収率は92.5％で、融点は150〜156℃
であつた。
250ml中に注入した。混合物を２時間120℃で加熱
し、次いで冷却した。水を添加したところ24.3ｇ
のラセミ２−〔ｐ−フルオルフエニル）−α−メチ
ル−５−ベンゾオキサゾール酢酸が沈澱し、これ
を別した。収率は92.5％で、融点は150〜156℃
であつた。
アンモニウム塩を形成し、酢酸で再沈澱させる
ことにより精製した後、融点162゜〜164℃を有す
る酸21.4ｇを得た。
ことにより精製した後、融点162゜〜164℃を有す
る酸21.4ｇを得た。
元素分析（％） Ｃ Ｈ Ｎ
計 算 値 67.37 4.21 4.94
実 験 値 67.30 4.11 5.02
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次の一般式 （式中のＸは、水素原子（Ｈ）、塩素原子
（Cl）、臭素原子（Br）、弗素原子（Ｆ）または１
〜６個の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐鎖ア
ルキル基を示す）で表わされるベンゾオキサゾリ
ルプロピオン酸の２−フエニル誘導体を製造する
に当り、３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−
α−メチル−アセトニトリルを強酸の存在下で加
水分解し、このようにして得た３−ニトロ−４−
ヒドロキシフエニル−α−メチル酢酸を、炭素に
担持したpdの存在下で水素添加し、誘導される
３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−α−メチ
ル酢酸を先ず塩化ベンゾイルまたはパラ置換塩化
ベンゾイルとアルカリ塩基の存在下で反応させ、
次いで85％燐酸と反応させてオキサゾリン環の形
成を完成させることを特徴とするベンゾオキサゾ
リルプロピオン酸の２−フエニル誘導体の製造方
法。 ２ ３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−α−
メチル−アセトニトリルから出発し、次式 （式中のＸはＨ，Cl，Br，Ｆまたは１〜６個
の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐鎖アルキル
基を示す）で表わされるラセミ化合物を製造する
特許請求の範囲１記載のベンゾオキサゾリルプロ
ピオン酸の２−フエニル誘導体の製造方法。 ３ 左旋性３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル
−α−メチル−アセトニトリルから出発し、次式 （式中のＸは前記のものと同じものを示す）で
表わされる右旋性化合物を製造する特許請求の範
囲１記載のベンゾオキサゾリルプロピオン酸の２
−フエニル誘導体の製造方法。 ４ 右旋性３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル
−α−メチル−アセトニトリルから出発して次式 （式中のＸは前記のものと同じものを示す）で
表わさる左旋性化合物を製造する特許請求の範囲
１記載のベンゾオキサゾリルプロピオン酸の２−
フエニル誘導体の製造方法。 ５ ３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−α−
メチル−アセトニトリルを還流下濃塩化水素酸で
加熱することにより加水分解する特許請求の範囲
１〜４のいずれかに記載のベンゾオキサゾリルプ
ロピオン酸の２−フエニル誘導体の製造方法。 ６ ３−ニトロ−４−ヒドロキシフエニル−α−
メチル酢酸の水素添加を大気圧下35〜40℃の温度
で実施する特許請求の範囲１〜４のいずれかに記
載のベンゾオキサゾリルプロピオン酸の２−フエ
ニル誘導体の製造方法。 ７ ３−アミノ−４−ヒドロキシフエニル−α−
メチル酢酸と塩化ベンゾイルをエーテル中で
NaOHの存在下０〜25℃の温度で実施する特許請
求の範囲１〜４のいずれかに記載のベンゾオキサ
ゾリルプロピオン酸の２−フエニル誘導体の製造
方法。 ８ 85％H3PO4により最終環化を、120℃の温度
で加熱することにより実施する特許請求の範囲１
〜４のいずれかに記載のベンゾオキサゾリルプロ
ピオン酸の２−フエニル誘導体の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT26498/78A IT1099589B (it) | 1978-08-04 | 1978-08-04 | Processo per la preparazione di derivati dell'acido benzoxazolil propionico |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5543079A JPS5543079A (en) | 1980-03-26 |
| JPS6159628B2 true JPS6159628B2 (ja) | 1986-12-17 |
Family
ID=11219649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9935979A Granted JPS5543079A (en) | 1978-08-04 | 1979-08-03 | Manufacture of 22phenyl derivative of benzoxazolylpropionic acid |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4304918A (ja) |
| JP (1) | JPS5543079A (ja) |
| AT (1) | AT364355B (ja) |
| BE (1) | BE877887A (ja) |
| CH (1) | CH641791A5 (ja) |
| DE (1) | DE2931255A1 (ja) |
| FR (1) | FR2432512A1 (ja) |
| GB (1) | GB2029826B (ja) |
| GR (1) | GR71866B (ja) |
| IT (1) | IT1099589B (ja) |
| LU (1) | LU81552A1 (ja) |
| NL (1) | NL191059C (ja) |
| PT (1) | PT70015A (ja) |
| YU (1) | YU40848B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GR75153B (ja) * | 1981-03-27 | 1984-07-13 | Lilly Co Eli | |
| IT1157295B (it) * | 1982-07-19 | 1987-02-11 | Ravizza Spa | Processo perfezionato per la preparazione di derivati dell'acido benzoxazolil propionico |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL121733C (ja) * | 1958-09-02 | |||
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| IL22369A (en) * | 1963-11-19 | 1968-10-24 | Merck & Co Inc | 2-heteroaryl-5 and/or 6-substituted benzazoles |
| IL37633A (en) * | 1970-09-10 | 1975-08-31 | Merck & Co Inc | 2-(4-(2-benzoxazolyl)phenyl)alkanoic acid derivatives |
| GB1435721A (en) * | 1972-05-18 | 1976-05-12 | Lilly Industries Ltd | Benzoxazole derivatives |
| GB1491863A (en) * | 1973-10-23 | 1977-11-16 | Lilly Industries Ltd | 2,5-or 2,6-disubstituted benzoxazoles |
| US4100168A (en) * | 1974-09-20 | 1978-07-11 | Lilly Industries Ltd. | 2,5 OR 2,6-Disubstituted benzoxazoles |
| GB1495488A (en) * | 1976-06-23 | 1977-12-21 | Ippco Int Pharma Patents Co Es | Optically active 2-(2-phenyl-5-benzoxazolyl)propionic acids |
| GB1590587A (en) * | 1977-06-28 | 1981-06-03 | Lilly Industries Ltd | Benoxaprofen |
-
1978
- 1978-08-04 IT IT26498/78A patent/IT1099589B/it active
-
1979
- 1979-07-25 BE BE0/196447A patent/BE877887A/xx not_active IP Right Cessation
- 1979-07-26 LU LU81552A patent/LU81552A1/xx unknown
- 1979-07-26 US US06/060,756 patent/US4304918A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-27 AT AT0521179A patent/AT364355B/de not_active IP Right Cessation
- 1979-07-30 FR FR7919511A patent/FR2432512A1/fr active Granted
- 1979-07-31 GB GB7926654A patent/GB2029826B/en not_active Expired
- 1979-07-31 YU YU1867/79A patent/YU40848B/xx unknown
- 1979-08-01 DE DE19792931255 patent/DE2931255A1/de active Granted
- 1979-08-02 GR GR59758A patent/GR71866B/el unknown
- 1979-08-02 PT PT70015A patent/PT70015A/pt unknown
- 1979-08-03 JP JP9935979A patent/JPS5543079A/ja active Granted
- 1979-08-03 CH CH716279A patent/CH641791A5/de not_active IP Right Cessation
- 1979-08-03 NL NL7905996A patent/NL191059C/xx not_active IP Right Cessation
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|---|---|
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| NL191059B (nl) | 1994-08-01 |
| YU186779A (en) | 1983-01-21 |
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| FR2432512B1 (ja) | 1983-04-22 |
| GB2029826A (en) | 1980-03-26 |
| PT70015A (en) | 1979-09-01 |
| BE877887A (fr) | 1979-11-16 |
| US4304918A (en) | 1981-12-08 |
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