JPS6157532B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は複合加熱調理器に関するものであ
る。

高周波加熱手段を内蔵した従来の加熱調理器
は、食品にこげ目がつかないという問題があつた
ため、近年電熱加熱手段を併設した複合加熱調理
器が開発され、この電熱加熱手段により食品にこ
げ目をつけることができるようになつた。

しかし、この複合加熱調理器は、従来よりもこ
げ目を付ける時間だけ加熱時間が長くなり効率が
悪いといつた欠点があつた。

したがつて、この発明の目的は、加熱時間を短
縮でき、効率よく電熱加熱をすることができる複
合加熱調理器を提供することである。

この発明の一実施例を第１図ないし第３図に示
す。すなわち、この複合加熱調理器は、本体１の
内部に被加熱物２を収納する加熱室３を側方に開
口するように形成し、本体１の内部で加熱室３の
外部にマグネトロン４およびその駆動電源５を配
設し、マグネトロン４の発生した高周波を導波管
６を通して、加熱室３の上壁７の一部に設けた開
口８に導びき、これにより加熱室３内の被加熱物
２の高周波加熱を可能としている。

一方、加熱室上壁７の加熱室側の一部には、前
記高周波の侵入を防ぐカバー９に覆われた電熱加
熱手段１０が配設され、この電熱加熱手段１０に
通電することにより被加熱物２に対し電熱加熱を
可能とする。このカバー９はマイクロ波を通過さ
せずにヒータ９の熱を通過させる多数の小孔を金
属板に設けたもので、適当な形状に成形して加熱
室上壁７に取付けている。また電熱加熱手段１０
は、第２図に示すように、第１の特徴として発熱
線１１の表面にAl₂O₃，TiO₂等を含有するセラミ
ツク１２を数十μの厚みに溶射して形成してい
る。これはつぎのことに基づいている。すなわ
ち、被加熱物２の輻射熱エネルギーの吸収度合は
熱エネルギーのスペクトル分布の状態に左右され
ることが知られている。食品等の場合、その最適
値は２〜５μ、６〜９μ等の遠赤外線である。と
ころが一般の金属発熱体が効率良く発生する輻射
熱エネルギーのスペクトルの分布の中心は１μ以
下であるため、仮に入力電力を増加させて発熱エ
ネルギーを増大させてもそれ程加熱時間は短縮で
きず、加熱効率が悪い。この対応として発熱体の
外部を石英ガラス管のパイプ等で包み込み、この
石英管を加熱して石英ガラス管の発する熱エネル
ギーにより食品を加熱するようにすると加熱効率
はよくなるが、石英ガラス管を適当な温度まで加
熱するための時間が必要となり、結果的に被加熱
物２の加熱時間は十分に短縮できない。そこで、
直接発熱線１１の表面にセラミツクを溶着させる
と、前記石英ガラス管に比べて熱容量が大幅に減
少するから、被加熱物２に対して適当なスペクト
ルをもつ熱エネルギーを発するまでのいわゆる立
上り時間は大幅に短縮でき、殆ど発熱線自体の立
上り時間と（もちろん石英ガラスのスペクトルに
よるエネルギー量として）同等となる。その結
果、前記石英ガラス管に比べて立上りの部分にお
ける加熱時間を短縮することができる。

電熱加熱手段１０の第２の特徴として、発熱線
１１をコイル状に形成し、そのコイルピツチを従
来のものに比べてより狭くしていることである。
これは通常発熱線１１のピツチを小さくすると、
線間の絶縁を確保できなくなるのである程度以下
にはできないが、この実施例は表面にセラミツク
の層を設けているため、極端な場合コイルのとな
り合う線は接触していてもその絶縁は確保でき
る。このため、同一長さの電熱加熱手段１０とし
て形成した場合、加熱電力を大きくすることがで
き、その結果被加熱物２の加熱時間は大幅に短縮
することができる。

電熱加熱手段の第３の特徴は、セラミツク１２
を表面に溶射しコイル状に形成した発熱線１１
を、外周表面に複数個のリブ１３を有するセラミ
ツクのパイプ１４に通し、このパイプ１４の両端
を加熱室側壁１５に設けた貫通口１６に固定され
たがいし１７により支持することである。セラミ
ツク１２のパイプ１４にリブ１３を設けて発熱線
１１を支持することにより、パイプ１４に直接発
熱線が接する部分を限定し接触率を少なくするの
で、このセラミツクパイプ１４への伝熱を極力押
えることができ、電熱加熱手段１０の立上りを早
くすることに寄与している。

第４の特徴は、電熱加熱手段１０と加熱室上壁
７との間および電熱加熱手段１０の加熱室開口側
に、表面にセラミツク１２′を溶射した反射板１
８を配設していることである。従来反射板として
ステンレスステイール等を用いており、初期にお
いては高い反射効果を有するが繰返し加熱動作を
行うにつれて表面が酸化し反射率が低下する。こ
の場合、当然、反射する熱エネルギーのスペクト
ルも変化し、酸化された表面から反射する熱エネ
ルギーのスペクトルは１μ程度に中心を有するも
のであるため加熱効率が低下してくる。そこで表
面にセラミツク１２′を電熱線１１と同様に溶射
することにより、この層が常時被加熱物２として
の食品の吸収効率の高い２〜５μのスペクトルを
発するので、長期にわたり高加熱効率を維持でき
る。もちろん加熱室上壁７側へ熱が逃げるのを防
止する効果を有することはいうまでもない。

一方、加熱室３は加熱室上壁７の内表面および
カバー９の表面にセルフクリーニング層を設け掃
除の必要性をなくし使い勝手を良くしている。ま
た被加熱物２を載置するとともに、加熱により生
じるドリツプを滴下させ、さらに高周波が通過で
きるように構成されたスノコ網１９を加熱室３内
に配し、支持脚２０を設けて必要かつ十分な高さ
に被加熱物を載置し、ドリツプの受皿２１に載置
される。この受皿２１は加熱室底壁２２に設けた
ターンテーブル機構２３により回転させ、被加熱
物２が加熱される間これを回転してむらなく加熱
エネルギーを供給し、焼きむらをなくするように
している。さらに加熱室３の後壁には熱風循環式
の加熱手段２４を設けて、被加熱物２を適宜熱風
加熱できるようにしている。

第３図はこの複合加熱調理器の電気回路であ
る。すなわち、電源より取り込まれた電力はヒユ
ーズ２５を通して、加熱時間の設定にかかるタイ
ムスイツチ、扉２６の開閉に対応して動作する安
全スイツチ等を有する制御回路２７に導びかれ、
この制御回路２７により制御されながら３つのリ
レーの常開接点２８，２９，３０に導びかれる。
常開接点２８はリレーコイル３１、接点２９はリ
レーコイル３２、接点３０はリレーコイル３３に
よりそれぞれ独立して駆動される。接点２８，２
９，３０の他端は、それぞれマグネトロン４の駆
動電源５、熱風循環式加熱手段２４、電熱加熱手
段１０に接続しそれぞれ独立して入力電力の制御
を行つている。コイル３１，３２，３３は入力電
力を整流装置３４により整流し、コンデンサ３５
により平滑化された直流電力により駆動される。
直流電力の出力の１つはスイツチ３６により２つ
に分割されていずれか一方に電力を供給し、他の
１つはマグネトロン４の制御にかかる制御装置３
８に供給する。スイツチ３６のａ接点３７は、制
御装置３８の出力リレー接点３９、ダイオード４
０を通してコイル３１に接続するとともに、スイ
ツチ４１の共通端Ｃに接続され、スイツチ４１が
ａ接点４２に接続されるとダイオード４３を介し
てコイル３２が通電され、これにより接点２９が
閉じ熱風循環式加熱手段２４が動作する。同様に
スイツチ４１がｂ接点４４に接続されるとダイオ
ード４５を介してコイル３３に通電し、これによ
り接点３０が閉じ電熱加熱手段１０に電力が供給
される。これらの構成により、コイル３１にはス
イツチ３６がａ接点３７に接続されていれば、ス
イツチ４１のいかんにかかわらず直流電力が供給
されるので接点２８が閉じ、マグネトロン４が動
作して高周波が発振することになる。ただしコイ
ル３１には前述のように制御装置３８の出力接点
３９が直列に接続されており、制御装置３８の動
作に対応して高周波の断続が行われる。この制御
装置３８は、一定周期のうちスイツチ４６の選択
設定に対応して出力制御リレー接点３９をオンに
する時間を変えられる断続器等により構成してお
り、等価的に高周波出力を変化させるもので、使
用者はスイツチ４６を適当に設定することで、電
熱加熱、あるいは熱風循環による加熱により表面
にこげ目が付くまでの時間内に被加熱物２の内部
を誘電加熱の完了ができる。この結果、使用者は
スイツチ３６をａ接点３７にしスイツチ４１をｂ
接点４４に接続して、被加熱物の量に応じてスイ
ツチ４６を設定することにより被加熱物に対し、
輻射熱と高周波とのエネルギーを同時に印加し、
表面にこげ目が付いた時に加熱を終了することが
でき、加熱時間を大幅に短縮できることとなる。
もちろんスイツチ４１をａ接点４２に接続すれば
熱風と高周波の同時印加も可能であることはいう
までもない。

一方スイツチ３６をｂ接点４７に接続した場
合、直流電力はスイツチ４８の共通端に導びか
れ、その３つの接点はコイル３１，３２，３３に
それぞれダイオード４９，５０，５１を介して接
続され、使用者がこの接点のいずれか１つを選択
接続することにより、コイル３１，３２，３３の
いずれか１つのみに電力が供給され、それと対応
して２８，２９，３０のいずれか１つの接点が閉
じ、いずれかの加熱ができるようになる。

使用者が操作を必要とする前記スイツチ３６，
４１，４６，４８は、それぞれに対応する操作つ
まみ５２〜５５が本体１の前面の操作パネル５６
上に設けられ、しかも操作つまみ５２には「加熱
方式（同時or単独）」という表示を、つまみ５３
には「同時加熱の種類（輻射or熱風）」という表
示を、つまみ５４には「同時加熱時高周波出力」
という表示を、つまみ５５には「単独加熱の種類
（高周波、熱風、輻射加熱）」という表示をそれぞ
れ付し、もつて安全性、使い勝手を良くしてい
る。

なお、回路中M₁は熱風循環手段２４のフアン
駆動モータ、M₂はマグネトロン冷却用フアンの
駆動モータ、M₃はターンテーブル機構２３の駆
動モータ、S₁は電熱加熱手段１０の過熱制御セン
サスイツチ、S₂は熱風循環手段２４の過熱制御セ
ンサスイツチ、D₁〜D₃はリレーコイル３１〜３
３のサージ吸収用ダイオード、C₁はマグネトロ
ン用コンデンサ、D₄はマグネトロン用ダイオー
ドである。

以上の構成によりこの複合加熱調理器を用いる
と使用者は、被加熱物２に対し輻射加熱、熱風に
よる加熱、高周波加熱のそれぞれ単独加熱に加え
輻射加熱と高周波加熱、熱風加熱と高周波加熱の
同時加熱を行うことができる。

この実施例によれば、つぎのような効果があ
る。すなわち、 (1) 加熱時間を短縮でき、被加熱物の加工が能率
良くなる。

(2) 高周波加熱時に表面をすばやくメラニン化す
ることができるので、食品の保水性を保ち、か
つドリツプ量を少なく押え食品の乾燥を押える
ことで、食品のもつ風味を生かした加熱調理が
できる。

(3) 食品の加熱加工を行う食堂、レストランとい
つた業務用厨房設備の１つとすると有効であ
る。

(4) 電熱加熱手段の発熱線にセラミツク被膜を設
けたため、石英ガラス管を使用する場合に比し
て、温度の立上りが速く、加熱時間の短縮化を
図れるとともに、電熱加熱手段自体の酸化を防
ぎ結果的に寿命を長じることができる。

(5) 発熱線をコイル状にし、支持体に直接接触支
持させることなく、支持体に形成したリブに点
接触支持させたため、支持体への伝熱を抑えて
被加熱物への伝熱率を高め、温度の立上りを向
上して加熱時間の短縮が図れる。

(6) 一例として、グラタンの加熱時間は従来の1/
２以下とすることができた。

以上のように、この発明の複合加熱調理器は、
被加熱物を収納する加熱室と、この加熱室の被加
熱物を誘電加熱する高周波加熱手段と、前記被加
熱物を電熱加熱する発熱線の表面をセラミツク被
膜で密着被覆した電熱加熱手段と、前記高周波加
熱手段および電熱加熱手段を同時に動作させる手
段とを備えたため、つぎの効果がある。

すなわち、発熱線をセラミツク被膜で密着被覆
したため、被加熱物に対して適当なスペクトルを
もつ熱エネルギーを発するまでのいわゆる立上り
時間を発熱線自体の立上り時間と同等程度に大幅
に短縮でき、誘導加熱と電熱加熱を同時に行うこ
とにより好適な食品の調理ができるとともに効率
が良くなる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の断面図、第２図
はヒータ部の断面図、第３図は回路図である。 ２……被加熱物、３……加熱室、４……マグネ
トロン（高周波加熱手段）、１０……電熱加熱手
段、１１……発熱線、１２……セラミツク、１３
……リブ、１４……パイプ（支持体）、３６，４
１……スイツチ、３８……制御装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被加熱物を収納する加熱室と、この加熱室の
   被加熱物を誘電加熱する高周波加熱手段と、前記
   被加熱物を電熱加熱する発熱線の表面をセラミツ
   ク被膜で密着被覆した電熱加熱手段と、前記高周
   波加熱手段および電熱加熱手段を同時に動作させ
   る手段とを備えた複合加熱調理器。 ２ 前記電熱加熱手段の前記発熱線を棒状の支持
   体の周囲にコイル状に巻きつけ、かつ前記支持体
   の表面に形成した複数のリブによつて前記発熱線
   の内周を支持した特許請求の範囲第１項記載の複
   合加熱調理器。