JPS6157250A - 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 - Google Patents
微細金属粒の磨砕、洗浄方法Info
- Publication number
- JPS6157250A JPS6157250A JP17553183A JP17553183A JPS6157250A JP S6157250 A JPS6157250 A JP S6157250A JP 17553183 A JP17553183 A JP 17553183A JP 17553183 A JP17553183 A JP 17553183A JP S6157250 A JPS6157250 A JP S6157250A
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- Japan
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- fine metal
- metal particles
- cleaning
- grinding
- electromagnet
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Crushing And Grinding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面が酸化物その他の不純物層で覆われた微細
金属粒の磨砕、洗浄方法に感するものである。
金属粒の磨砕、洗浄方法に感するものである。
例えば各種のスラグ、ダストから回収された微細金属粒
やある期間放置されたショット等は、その表面に酸化物
その他が付着しているので該表面不純物層を除去する必
要がある。従来この種不純物層の除去方式としては、化
学的に表＠層を溶出させる方法と物理的に磨砕する方法
とがあるが、前者は処理液の選択及び処理廃液の後処理
が煩雑であると共に化学的に処理された材料表面に対し
ての後処理にも問題が残されているし、後者は対象物が
１胴を下まわる如く微細となると殆んどの従来技術では
有効に付着表面層を除去出来ていないのが現状である。
やある期間放置されたショット等は、その表面に酸化物
その他が付着しているので該表面不純物層を除去する必
要がある。従来この種不純物層の除去方式としては、化
学的に表＠層を溶出させる方法と物理的に磨砕する方法
とがあるが、前者は処理液の選択及び処理廃液の後処理
が煩雑であると共に化学的に処理された材料表面に対し
ての後処理にも問題が残されているし、後者は対象物が
１胴を下まわる如く微細となると殆んどの従来技術では
有効に付着表面層を除去出来ていないのが現状である。
本発明は上記現状を鑑み、非常に微細な対象物であって
も、その表面不純物層を十分に除去出来、かつその後引
続き磨砕によって剥離された該不純物層と金属製品とを
分別することが出来る方法を提供せんとするものであり
、その要旨は表面が酸化物やその他の不純物層で覆われ
た微細金属粒の必砕方法であって、該微細金属粒を多数
の感磁性体製メディアと共に、周囲に電磁石が配備され
、かつ回転羽根を内蔵する円筒状の収納容器内に装入せ
しめ、上記周囲の電磁石を励磁した状態下で回転羽根を
高速回転させ微細金属粒表面を覆っている不純物層を磨
砕、剥落せしめた後、収納容器の側壁下部に設けられた
洗浄液供給口から水その他の洗浄液を送給し、同上部開
口部に設けられた溢流口から洗浄液と共に剥落された不
純物層を溢流せしめることを特徴とする微細金属粒の磨
砕、洗浄方法、並びに洗浄工程中に収納容器底外部から
磁着力を作用せしめる同様な方法である。
も、その表面不純物層を十分に除去出来、かつその後引
続き磨砕によって剥離された該不純物層と金属製品とを
分別することが出来る方法を提供せんとするものであり
、その要旨は表面が酸化物やその他の不純物層で覆われ
た微細金属粒の必砕方法であって、該微細金属粒を多数
の感磁性体製メディアと共に、周囲に電磁石が配備され
、かつ回転羽根を内蔵する円筒状の収納容器内に装入せ
しめ、上記周囲の電磁石を励磁した状態下で回転羽根を
高速回転させ微細金属粒表面を覆っている不純物層を磨
砕、剥落せしめた後、収納容器の側壁下部に設けられた
洗浄液供給口から水その他の洗浄液を送給し、同上部開
口部に設けられた溢流口から洗浄液と共に剥落された不
純物層を溢流せしめることを特徴とする微細金属粒の磨
砕、洗浄方法、並びに洗浄工程中に収納容器底外部から
磁着力を作用せしめる同様な方法である。
以下図面を参酌し乍ら本発明方法を詳述する。
本発明で用いる装置としては、例えば第１図及び第２図
に示す様に、収納容器（１）内に挿入された回転縦軸（
２）に所要数の板状回転羽根（３）、（３）・・・・・
・が取付けられており、又上記収納容器（１）の内部に
は鋼球の如き磁性体製メディア（４）が多数装入されて
いる。そして収納容器（１）の周側には側位電磁石（５
）が配備されており、又同収納容器（１）の側壁下部に
は洗浄水供給口（６）が、上部開口部には溢流口（７）
がそれぞれ設けられている。
に示す様に、収納容器（１）内に挿入された回転縦軸（
２）に所要数の板状回転羽根（３）、（３）・・・・・
・が取付けられており、又上記収納容器（１）の内部に
は鋼球の如き磁性体製メディア（４）が多数装入されて
いる。そして収納容器（１）の周側には側位電磁石（５
）が配備されており、又同収納容器（１）の側壁下部に
は洗浄水供給口（６）が、上部開口部には溢流口（７）
がそれぞれ設けられている。
又別のタイプの装置では第３図に示す様に収納容器（１
）の底板外側（下側）には下位電磁石（８）が配設され
ている。
）の底板外側（下側）には下位電磁石（８）が配設され
ている。
この様な本発明方法では、収納容器（１）内に原料とし
ての微細金属粒Ｍを装入し、回転縦軸（２）を高速で回
転せしめる事により該微細金属粒Ｍはむ 感磁性体製メディア（４）の表面に磁着した状態で高速
回転させられる。従って微細金属粒Ｍのみを衝突させる
よりも強力な衝突力をもって微細金属同士が衝突し合う
、即ちメディア（４）のｍ景及び磁着力が加算された分
だけ強力に衝突し合う事となり微細金属粒Ｍの表面に付
着している酸化物等の表面付着層Ｆが剥落除去されるの
である。なおこの磨砕の際に乾式で行なってもよいし、
水あるいは所要の油等を適当なバルブ濃度となるべく介
在させて行なう湿式を採用してもそのいずれでもよい。
ての微細金属粒Ｍを装入し、回転縦軸（２）を高速で回
転せしめる事により該微細金属粒Ｍはむ 感磁性体製メディア（４）の表面に磁着した状態で高速
回転させられる。従って微細金属粒Ｍのみを衝突させる
よりも強力な衝突力をもって微細金属同士が衝突し合う
、即ちメディア（４）のｍ景及び磁着力が加算された分
だけ強力に衝突し合う事となり微細金属粒Ｍの表面に付
着している酸化物等の表面付着層Ｆが剥落除去されるの
である。なおこの磨砕の際に乾式で行なってもよいし、
水あるいは所要の油等を適当なバルブ濃度となるべく介
在させて行なう湿式を採用してもそのいずれでもよい。
この様に回転縦軸（２）を通じ板状回転羽根 （３）。
（３）、・・・・・・を高速回転させる磨砕工程が終れ
ば、次いで側壁下部の洗浄液供給口（６）から水又は所
要の洗浄液を送給し、上部の溢流口（７）から該洗浄液
を溢流させ、板状回転羽根（３）、（３）・・・・・・
を緩やかに回転させると軽量物ｔこる剥落した付着層の
みが溢流水と共に溢流し、重量物たる微細金属粒は収納
容器内に残留する。なおこの際板状回転羽根（３） 、
（３） 、・・・・・・を緩慢回転せしめるとせしめ
ると同時に、収納容器（１）の底板外側に配設されてい
る下位電磁石（８）に通電して励磁させることにより磁
着物たる微細金属粒Ｍは下位電磁石（８）の吸着力を受
けるので収納容器（１）の下方部に吸い寄せられつつ、
一方弁磁着物あるいは弱磁着物は下位電磁石（８）の吸
着力を受けないかあるいは弱くしか受けないのでその軽
、重以上に両者は区別され剥落付若物は下方から上方へ
流れる洗浄水と共に上方へ押し上げられ最終的には上部
の溢流口（６）から溢流される。
ば、次いで側壁下部の洗浄液供給口（６）から水又は所
要の洗浄液を送給し、上部の溢流口（７）から該洗浄液
を溢流させ、板状回転羽根（３）、（３）・・・・・・
を緩やかに回転させると軽量物ｔこる剥落した付着層の
みが溢流水と共に溢流し、重量物たる微細金属粒は収納
容器内に残留する。なおこの際板状回転羽根（３） 、
（３） 、・・・・・・を緩慢回転せしめるとせしめ
ると同時に、収納容器（１）の底板外側に配設されてい
る下位電磁石（８）に通電して励磁させることにより磁
着物たる微細金属粒Ｍは下位電磁石（８）の吸着力を受
けるので収納容器（１）の下方部に吸い寄せられつつ、
一方弁磁着物あるいは弱磁着物は下位電磁石（８）の吸
着力を受けないかあるいは弱くしか受けないのでその軽
、重以上に両者は区別され剥落付若物は下方から上方へ
流れる洗浄水と共に上方へ押し上げられ最終的には上部
の溢流口（６）から溢流される。
以下本発明方法を開発するについてて行なっに一連の実
験並びにその結果を述べる。
験並びにその結果を述べる。
この実験で用いた原料たる微細金属粒は、転炉ダストか
ら極微細部分を除去したもの（以下粗粒ゲストという）
であって、その粒度分布を第１表に、又化学成分を第２
表にそれぞれ示す。
ら極微細部分を除去したもの（以下粗粒ゲストという）
であって、その粒度分布を第１表に、又化学成分を第２
表にそれぞれ示す。
第２表
（重量％）
〜第３図に示す様な装置を用いて次の如き実験を行なっ
た。なお収納容器（１）の大きさは直径１４６ｍｍ、高
さ ２２５ ｎ＋＋＋＋であり、その中（こ６ｍｍ〆の
メディアと上述の原料を６ｋｇと４ｋｇずつ装入し、原
料のパルプ濃度が各種変わる様に添加する水の量並びに
回転羽根（３）の回転速度を種々変化させて磨砕処理を
２分間行なった。
た。なお収納容器（１）の大きさは直径１４６ｍｍ、高
さ ２２５ ｎ＋＋＋＋であり、その中（こ６ｍｍ〆の
メディアと上述の原料を６ｋｇと４ｋｇずつ装入し、原
料のパルプ濃度が各種変わる様に添加する水の量並びに
回転羽根（３）の回転速度を種々変化させて磨砕処理を
２分間行なった。
この様な磨砕処理を行なった後の原料を取出し、３５０
メツシユで篩分し、該篩上物を ３００ガウスの磁選機
にかけ、該磁着物についてｈトＦ ｅ品位とＭ Ｆｅ回
収率とを求めた結果、パルプ濃度を９０％と一定にし回
転羽根（３）の回転数３００ｒｐｍ〜１２００ｒｐｍ
Ｔ： Ｍ−Ｆｅ品位は９３．９４％〜９５．３７％であ
り、又Ｍ−Ｆｅ回収率は９０．４８％〜８６．７０％で
あった。−ガロ転数を１２０゜ｒｐｍと一定にしパルプ
濃度は５０％〜１００％の範囲で変えた場合Ｍ−Ｆｅ回
収率は９４．０８％〜９、２９％であり、又Ｍ−Ｆａ回
収率は８８．２２％〜９３．１１％であった。
メツシユで篩分し、該篩上物を ３００ガウスの磁選機
にかけ、該磁着物についてｈトＦ ｅ品位とＭ Ｆｅ回
収率とを求めた結果、パルプ濃度を９０％と一定にし回
転羽根（３）の回転数３００ｒｐｍ〜１２００ｒｐｍ
Ｔ： Ｍ−Ｆｅ品位は９３．９４％〜９５．３７％であ
り、又Ｍ−Ｆｅ回収率は９０．４８％〜８６．７０％で
あった。−ガロ転数を１２０゜ｒｐｍと一定にしパルプ
濃度は５０％〜１００％の範囲で変えた場合Ｍ−Ｆｅ回
収率は９４．０８％〜９、２９％であり、又Ｍ−Ｆａ回
収率は８８．２２％〜９３．１１％であった。
次に磨砕をする際に側位電磁石（５）に励磁し、その他
は先の磨砕処理と同様に行なった結果を第３表に示す。
は先の磨砕処理と同様に行なった結果を第３表に示す。
第３表
次に上記側位電磁石（５）を無励磁状態で磨砕処理した
原料をそのまま収納容器（１）に入れたままの状態で、
電磁石（７）は無励磁即ち全く働かせずに洗浄水量を８
１７ ｍｉｎ 、とし回転羽根（３）を２０゜ｒｐｍの
低速回転とし３分間洗浄を行なった後、３００ガウスの
磁選機にかけ磁着物につきλトＦｅ品位とＭ−Ｆｅ回収
率とを求めた結果、上で述べた篩分磁選の場合に比べ、
回転数を変えた場合もパルプ濃度を変えた場合もムトＦ
ｅ品位では約、５％の上昇、Ｍ−Ｆｅ回収率では約４．
５％の低下が見られた。
原料をそのまま収納容器（１）に入れたままの状態で、
電磁石（７）は無励磁即ち全く働かせずに洗浄水量を８
１７ ｍｉｎ 、とし回転羽根（３）を２０゜ｒｐｍの
低速回転とし３分間洗浄を行なった後、３００ガウスの
磁選機にかけ磁着物につきλトＦｅ品位とＭ−Ｆｅ回収
率とを求めた結果、上で述べた篩分磁選の場合に比べ、
回転数を変えた場合もパルプ濃度を変えた場合もムトＦ
ｅ品位では約、５％の上昇、Ｍ−Ｆｅ回収率では約４．
５％の低下が見られた。
次に上記側位電磁石（５）を励磁して磨砕処理をなした
後に、下位電磁石（８）は無励磁ですぐ上に述べたと同
様の洗浄処理を施した結果を第４表に示す。
後に、下位電磁石（８）は無励磁ですぐ上に述べたと同
様の洗浄処理を施した結果を第４表に示す。
第４表
次に上記した側位電磁石（５）を励磁してｌ砕処理を行
なった原料を、引続き同一収納容器（１）内に保持し、
下位電磁石（８）を励磁して上述と同様の条件で洗浄し
た結果を第５表に示す。又その際の交流と直流との差違
を第６表（こ示す。
なった原料を、引続き同一収納容器（１）内に保持し、
下位電磁石（８）を励磁して上述と同様の条件で洗浄し
た結果を第５表に示す。又その際の交流と直流との差違
を第６表（こ示す。
第５表
＊磨砕時： １２００ｒｐｍ、 ＡＣ１０人逆通電
６表 ところで洗浄工程に於ける磁着力の影響について電磁石
に通ずる電流と、収納容器内に発生する空間磁場との関
係について述べる。第１図及び第２図のＡ、Ｂ、Ｃ，イ
２ロ、へで示す様な各点についての磁場の強さくガウス
）をコイル巻数２７６ターンの電磁石に交流電流及び直
流電流の大きさを変えて流した場合について測定した結
果を第７表（交流）及び第８表（直流）にそれぞれ示す
。
６表 ところで洗浄工程に於ける磁着力の影響について電磁石
に通ずる電流と、収納容器内に発生する空間磁場との関
係について述べる。第１図及び第２図のＡ、Ｂ、Ｃ，イ
２ロ、へで示す様な各点についての磁場の強さくガウス
）をコイル巻数２７６ターンの電磁石に交流電流及び直
流電流の大きさを変えて流した場合について測定した結
果を第７表（交流）及び第８表（直流）にそれぞれ示す
。
第７表
第８表
収納容器内の場所によって相当異なるが、交流。
直流ともに電流が大となるに従って大となっている事が
判った。
判った。
以上性べて来た如（、本発明方法によれば、従前の方法
では十分に磨砕する事が困難であった微細金属粒をメデ
ィアと共に衝突、新語させ、しかも用いるメディアを感
磁性体製とし面枠時に容器の周囲から磁場を与え上記メ
ディアを小磁石体化する事で一層磨砕効果が増し、著し
く短時間で処理が終了し、又その後の洗浄も同一容器内
で一環作業として行なえ、特にこの洗浄時に容器下方か
ら磁着力を作用せしめる方法では第５表及び第６表に示
す如（Ｍ−Ｆｅ品位を殆んど低下させることなくその収
率を大きく向上せしめ得る効果がある。
では十分に磨砕する事が困難であった微細金属粒をメデ
ィアと共に衝突、新語させ、しかも用いるメディアを感
磁性体製とし面枠時に容器の周囲から磁場を与え上記メ
ディアを小磁石体化する事で一層磨砕効果が増し、著し
く短時間で処理が終了し、又その後の洗浄も同一容器内
で一環作業として行なえ、特にこの洗浄時に容器下方か
ら磁着力を作用せしめる方法では第５表及び第６表に示
す如（Ｍ−Ｆｅ品位を殆んど低下させることなくその収
率を大きく向上せしめ得る効果がある。
第１図は本発明方法で用いる装置の一例を示す一部切欠
正面図、第２図は同平面図、第３図は他の例を示す一部
切欠斜視図。 図中、（１）・収納容器 （２）二回転縦軸 （３）：板状回転羽根 （４）：感磁性体製メディア （５）：側位電磁石 （６）：洗浄水供給口 （７）：溢流口 （８）：下位電磁石
正面図、第２図は同平面図、第３図は他の例を示す一部
切欠斜視図。 図中、（１）・収納容器 （２）二回転縦軸 （３）：板状回転羽根 （４）：感磁性体製メディア （５）：側位電磁石 （６）：洗浄水供給口 （７）：溢流口 （８）：下位電磁石
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面が酸化物やその他の不純物層で覆われた微細金
属粒の磨砕方法であって、該微細金属粒を多数の感磁性
体製メディアと共に、周囲に電磁石が配備され、かつ回
転羽根を内蔵する円筒状の収納容器内に装入せしめ、上
記周囲の電磁石を励磁した状態下で回転羽根を高速回転
させ微細金属粒表面を覆っている不純物層を磨砕、剥落
せしめた後、収納容器の側壁下部に設けられた洗浄液供
給口から水その他の洗浄液を送給し、同上部開口部に設
けられた溢流口から洗浄液と共に剥落された不純物層を
溢流せしめることを特徴とする微細金属粒の磨砕、洗浄
方法。 ２、表面が酸化物やその他の不純物層で覆われた微細金
属粒の磨砕方法であって、該微細金属粒を多数の感磁性
体製メディアと共に、周囲に電磁石が配備され、かつ回
転羽根を内蔵する円筒状の収納容器内に装入せしめ、上
記周囲の電磁石を励磁した状態下で回転羽根を高速回転
させ微細金属粒表面を覆っている不純物層を磨砕、剥落
せしめた後、収納容器底外部から磁着力を作用せしめつ
つ、同収納容器の側壁下部に設けられた洗浄液供給口か
ら水その他の洗浄液を送給し、同上部開口部に設けられ
た溢流口から洗浄液と共に剥落された不純物層を溢流せ
しめることを特徴とする微細金属粒の磨砕、洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17553183A JPS6157250A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17553183A JPS6157250A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6157250A true JPS6157250A (ja) | 1986-03-24 |
| JPS6411345B2 JPS6411345B2 (ja) | 1989-02-23 |
Family
ID=15997693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17553183A Granted JPS6157250A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6157250A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009095761A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Earth Technica:Kk | 振動ミルおよびその運転方法 |
-
1983
- 1983-09-22 JP JP17553183A patent/JPS6157250A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009095761A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Earth Technica:Kk | 振動ミルおよびその運転方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6411345B2 (ja) | 1989-02-23 |
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