JPS6153584B2 - - Google Patents
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- JPS6153584B2 JPS6153584B2 JP53162962A JP16296278A JPS6153584B2 JP S6153584 B2 JPS6153584 B2 JP S6153584B2 JP 53162962 A JP53162962 A JP 53162962A JP 16296278 A JP16296278 A JP 16296278A JP S6153584 B2 JPS6153584 B2 JP S6153584B2
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- Safety Valves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は流量急変時のサージ圧力を抑制するリ
リーフ弁に関するものである。
リーフ弁に関するものである。
第３図に示す如き従来の一般的なリリーフ弁
は、ポペツト１の受圧面積Ａに作用する圧力P1
が、スプリング２の力SFに打ち勝つたとき、前
記ポペツト１が変位して圧力P1を制御するように
なつているが、流量急変時、特に弁体閉鎖状態か
らリリーフ状態に入るとき前記ポペツト１には作
動遅れがあるためサージ圧力（圧力オーバシユー
ト）の発生は必然である。また該リリーフ弁は例
えば調整ねじ３を操作するなどして設定圧力を調
整する場合、スプリング２の荷重が直接、前記ね
じ３などに作用するため、大きな操作力が必要で
ある。
は、ポペツト１の受圧面積Ａに作用する圧力P1
が、スプリング２の力SFに打ち勝つたとき、前
記ポペツト１が変位して圧力P1を制御するように
なつているが、流量急変時、特に弁体閉鎖状態か
らリリーフ状態に入るとき前記ポペツト１には作
動遅れがあるためサージ圧力（圧力オーバシユー
ト）の発生は必然である。また該リリーフ弁は例
えば調整ねじ３を操作するなどして設定圧力を調
整する場合、スプリング２の荷重が直接、前記ね
じ３などに作用するため、大きな操作力が必要で
ある。
本発明は上記の点に鑑み発明したもので、目的
はポペツトの作動タイミングを早くすることによ
り、サージ圧力を低減せしめる一方、圧力調整用
の操作力を軽減する点にある。
はポペツトの作動タイミングを早くすることによ
り、サージ圧力を低減せしめる一方、圧力調整用
の操作力を軽減する点にある。
この目的を達成するために本発明は、弁本体１
に形成した小径孔４ａと大径孔４ｂとからなる段
付ピストン室４に、前記小径孔４ａに嵌合する小
径部５ａ及び大径孔４ｂに嵌合する大径部５ｂを
有する可動弁座体５を往復動自由に挿嵌して、前
記大径孔４ｂにおける大径部５ｂの小径部側に液
圧室４ｃを、反小径部側に弁室６をそれぞれ形成
し、前記可動弁座体５の大径部５ｂに弁孔７を設
け、該弁孔７を前記弁室６側へ開口し、該弁孔７
を開閉するポペツト１３と、該ポペツト１３を可
動弁座体５側へ押圧して弁孔７を閉鎖する第１ス
プリング１２と、前記可動弁座体５の大径部端面
に当接し、この弁座体５を前記液圧室４ｃ側へ押
圧する第２スプリング１４とを前記弁室６に介装
し、前記可動弁座体５の小径部端面に比例電磁石
２のプツシユロツド１８を当接して、該比例電磁
石２の吸引力で前記可動弁座体５をポペツト１３
側へ押圧する一方、前記弁孔７と液圧室４ｃとを
可動弁座体５の通路８を介して連通し、かつ前記
弁孔７と弁本体１の１次ポート９とを可動弁座体
５の通路１０を介して連通すると共に、前記弁室
６を弁本体１のタンクポート１６に連通する一
方、前記第１スプリング１２力に対して第２スプ
リング１４力を小の関係に設定し、前記弁孔７に
おける受圧面積A1と液圧室４ｂにおける受圧面
積A2とを同一に設定したリリーフ弁であつて、
ポペツト１３を押圧する第１スプリング１２の初
期荷重が小さい状態から１次ポート９の圧力が上
昇するとポペツト１３は弁孔７を開放する方向に
移動し、過渡的には１次ポート９の流体がタンク
ポート１６にリークするが、このポペツト１３に
追従して可動弁座体５が移動して弁孔７を閉鎖す
るので、１次ポート９の圧力が上昇する。可動弁
座体５に作用する第２スプリング１４力と比例電
磁石２の吸引力とが平衡するまで上記の動作を繰
返すのである。
に形成した小径孔４ａと大径孔４ｂとからなる段
付ピストン室４に、前記小径孔４ａに嵌合する小
径部５ａ及び大径孔４ｂに嵌合する大径部５ｂを
有する可動弁座体５を往復動自由に挿嵌して、前
記大径孔４ｂにおける大径部５ｂの小径部側に液
圧室４ｃを、反小径部側に弁室６をそれぞれ形成
し、前記可動弁座体５の大径部５ｂに弁孔７を設
け、該弁孔７を前記弁室６側へ開口し、該弁孔７
を開閉するポペツト１３と、該ポペツト１３を可
動弁座体５側へ押圧して弁孔７を閉鎖する第１ス
プリング１２と、前記可動弁座体５の大径部端面
に当接し、この弁座体５を前記液圧室４ｃ側へ押
圧する第２スプリング１４とを前記弁室６に介装
し、前記可動弁座体５の小径部端面に比例電磁石
２のプツシユロツド１８を当接して、該比例電磁
石２の吸引力で前記可動弁座体５をポペツト１３
側へ押圧する一方、前記弁孔７と液圧室４ｃとを
可動弁座体５の通路８を介して連通し、かつ前記
弁孔７と弁本体１の１次ポート９とを可動弁座体
５の通路１０を介して連通すると共に、前記弁室
６を弁本体１のタンクポート１６に連通する一
方、前記第１スプリング１２力に対して第２スプ
リング１４力を小の関係に設定し、前記弁孔７に
おける受圧面積A1と液圧室４ｂにおける受圧面
積A2とを同一に設定したリリーフ弁であつて、
ポペツト１３を押圧する第１スプリング１２の初
期荷重が小さい状態から１次ポート９の圧力が上
昇するとポペツト１３は弁孔７を開放する方向に
移動し、過渡的には１次ポート９の流体がタンク
ポート１６にリークするが、このポペツト１３に
追従して可動弁座体５が移動して弁孔７を閉鎖す
るので、１次ポート９の圧力が上昇する。可動弁
座体５に作用する第２スプリング１４力と比例電
磁石２の吸引力とが平衡するまで上記の動作を繰
返すのである。
そして比例電磁石２の吸引力と第２スプリング
１４力とが平衡する位置で可動弁座体５が停止す
る。この可動弁座体５の停止位置からポペツト１
３が第１スプリング１２力に抗して移動し、弁孔
７を全開にして１次ポート９の流体をタンクポー
ト１６へリリーフするのである。このように可動
弁座体５の停止位置からポペツト１３を開弁する
ことによりリリーフ圧力が得られるのであり、こ
のリリーフ圧力は第１スプリング１２力により設
定され、この第２スプリング１２力は可動弁座体
５の停止位置を変えることによつて任意に設定で
きる。
１４力とが平衡する位置で可動弁座体５が停止す
る。この可動弁座体５の停止位置からポペツト１
３が第１スプリング１２力に抗して移動し、弁孔
７を全開にして１次ポート９の流体をタンクポー
ト１６へリリーフするのである。このように可動
弁座体５の停止位置からポペツト１３を開弁する
ことによりリリーフ圧力が得られるのであり、こ
のリリーフ圧力は第１スプリング１２力により設
定され、この第２スプリング１２力は可動弁座体
５の停止位置を変えることによつて任意に設定で
きる。
つまりリリーフ圧力を設定する場合第１スプリ
ング１２力を直接調整することなく、比例電磁石
２の吸引力を適宜変化させるだけでリリーフ圧力
の設定を可変可能としたもので、今この関係を下
記の関係式に基づいて説明する。
ング１２力を直接調整することなく、比例電磁石
２の吸引力を適宜変化させるだけでリリーフ圧力
の設定を可変可能としたもので、今この関係を下
記の関係式に基づいて説明する。
リリーフ状態で比例電磁石２の吸引力と第２ス
プリング１４力及び弁孔７の圧力によるポペツト
１３への作用力と第１スプリング１２力が静的に
バランスしている場合、関係式は下式で表され
る。
プリング１４力及び弁孔７の圧力によるポペツト
１３への作用力と第１スプリング１２力が静的に
バランスしている場合、関係式は下式で表され
る。
ただし、A1＝A2であるから、可動弁座体５に
働く油圧による力は相殺（A1・P7＝A2・P7）され
る。
働く油圧による力は相殺（A1・P7＝A2・P7）され
る。
Ｒ・ｘ＝ｆ(i)
Ｋ・ｘ＝A1・P7
故に
P7＝Ｋ／Ｒ・ｆ(i)／Ａ１
ここに
Ｒ＝第２スプリング１４のバネ常数
Ｋ＝第１スプリング１２のバネ定数
ｘ＝スプリング１４，１２の圧縮量
ｆ(i)＝比例電磁石２の吸引力
A1＝弁孔７の受圧面積
A2＝液圧室４ｃの受圧面積
P7＝弁孔７内圧力
そしてこの場合Ｒ・Ｋ・A1の各値を一定とし
たときリリーフ圧力となる弁孔７内圧力P7は電磁
石２の吸引力ｆ(i)に比例する関係にある。このた
めリリーフ弁の設定圧力を調整する場合比例電磁
石２の吸引力を変化させるのみで良く、またその
吸引力は第１スプリング１２力より小さい第２ス
プリング１４力に相当するもので良いから、圧力
調整用としての操作力を従来に比べ軽減させるこ
とができるものである。
たときリリーフ圧力となる弁孔７内圧力P7は電磁
石２の吸引力ｆ(i)に比例する関係にある。このた
めリリーフ弁の設定圧力を調整する場合比例電磁
石２の吸引力を変化させるのみで良く、またその
吸引力は第１スプリング１２力より小さい第２ス
プリング１４力に相当するもので良いから、圧力
調整用としての操作力を従来に比べ軽減させるこ
とができるものである。
以下本発明の実施例を図面に基づき説明する。
第１図に示すリリーフ弁は電磁比例形を示し、
弁本体１にプツシユロツド１８を有する比例電磁
石２を複数のボルト３，３によつて固定して構成
している。前記弁本体１内には小径孔４ａと大径
孔４ｂとからなる段付ピストン室４を前記小径孔
４ａが比例電磁石２側に位置する如く形成すると
共に、該段付ピストン室４内に段付ピストン形の
可動弁座体５を設けている。該可動弁座体５はそ
の小径部５ａを前記小径孔４ａに、大径部５ｂを
前記大径孔４ｂ内に夫々配置し、該大径部２ｂの
左側に弁室６を形成する如くしている。また前記
可動弁座体５には前記弁室６側に開口する袋状の
弁孔７を形成し、該弁孔７と段部に形成した液圧
室４ｃとを通路８で、同弁孔７と１次ポート９と
を通路１０で夫々連通すると共に、該弁孔７の孔
縁に形成したシート部１１に背部にポペツト用第
１スプリング１２を設けたポペツト１３を対向さ
せる一方、前記弁室６内において可動弁座体５に
前ポペツト用第１スプリング１２よりもバネ常数
の小さい弁座体用第２スプリング１４を添設し、
さらに前記小径孔４ａと弁室６間に連通路１５を
設けると共に、弁室６とタンクポート１６とを連
結している。
弁本体１にプツシユロツド１８を有する比例電磁
石２を複数のボルト３，３によつて固定して構成
している。前記弁本体１内には小径孔４ａと大径
孔４ｂとからなる段付ピストン室４を前記小径孔
４ａが比例電磁石２側に位置する如く形成すると
共に、該段付ピストン室４内に段付ピストン形の
可動弁座体５を設けている。該可動弁座体５はそ
の小径部５ａを前記小径孔４ａに、大径部５ｂを
前記大径孔４ｂ内に夫々配置し、該大径部２ｂの
左側に弁室６を形成する如くしている。また前記
可動弁座体５には前記弁室６側に開口する袋状の
弁孔７を形成し、該弁孔７と段部に形成した液圧
室４ｃとを通路８で、同弁孔７と１次ポート９と
を通路１０で夫々連通すると共に、該弁孔７の孔
縁に形成したシート部１１に背部にポペツト用第
１スプリング１２を設けたポペツト１３を対向さ
せる一方、前記弁室６内において可動弁座体５に
前ポペツト用第１スプリング１２よりもバネ常数
の小さい弁座体用第２スプリング１４を添設し、
さらに前記小径孔４ａと弁室６間に連通路１５を
設けると共に、弁室６とタンクポート１６とを連
結している。
一方、前記のウエツトアマチユア形の比例電磁
石２は、内部のアマチユア１７に対して印加電流
値と比例的な電磁石２の吸引力を作動させること
ができるもので、該アマチユア１７に連結したプ
ツシユロツド１８の先端を前記小径孔４ａ内にお
いて前記可動弁座体５に対向させている。
石２は、内部のアマチユア１７に対して印加電流
値と比例的な電磁石２の吸引力を作動させること
ができるもので、該アマチユア１７に連結したプ
ツシユロツド１８の先端を前記小径孔４ａ内にお
いて前記可動弁座体５に対向させている。
図示実施例は上記の如く構成するものにして、
以下作用を説明する。
以下作用を説明する。
先ず弁孔７に圧油が供給されていないときの状
態について説明する。
態について説明する。
図面上、第１及び第２スプリング１２，１４の
左端は弁室６の壁面６ａに接触、つまり固定要素
６ａに接触している。このため比例電磁石２に対
して所定値の電流を印加すると、アマチユア１７
に吸引力（以下電磁石２の吸引力という）が作用
し、可動弁座体５及びポペツト１３は第２及び第
１スプリング１４，１２を圧縮しながら左方向に
変位する。そして電磁石２の吸引力と両スプリン
グ１２，１４に発生する力とが釣合つた位置で可
動弁座体５とポペツト１３とは停止する。
左端は弁室６の壁面６ａに接触、つまり固定要素
６ａに接触している。このため比例電磁石２に対
して所定値の電流を印加すると、アマチユア１７
に吸引力（以下電磁石２の吸引力という）が作用
し、可動弁座体５及びポペツト１３は第２及び第
１スプリング１４，１２を圧縮しながら左方向に
変位する。そして電磁石２の吸引力と両スプリン
グ１２，１４に発生する力とが釣合つた位置で可
動弁座体５とポペツト１３とは停止する。
斯る状態で、１次ポート９に圧油を供給すると
この圧油は、弁孔７内においてポペツト１３の端
面と可動弁座体５の内部受圧面積A1に相当する
面、及び液圧室４ｃ内における受圧面積A2に相
当する面とにそれぞれ作用する。この場合、可動
弁座体５の両面の面積A1，A2が同一だから可動
弁座体５は流体圧力のみでは変位しない。従つて
この場合は電磁石２の吸引力と第１及び第２スプ
リング１２，１４力と弁孔７内の圧力によるポペ
ツト１３への力とで可動弁座体５の位置が決定さ
れる。そこで前記流体圧力が更に大きくなり、そ
の上昇過程において該圧力がポペツト用第１スプ
リング１２のバネ力に押し勝つてポペツト１３を
更に左方向に変位させればこれに追従して可動弁
座体５が左動し、第２スプリング１４の荷重を増
し、この第２スプリング１４力と電磁石２の吸引
力とが釣合つた位置で可動弁座体５は停止し、こ
れ以上左方向に移動しなくなる。
この圧油は、弁孔７内においてポペツト１３の端
面と可動弁座体５の内部受圧面積A1に相当する
面、及び液圧室４ｃ内における受圧面積A2に相
当する面とにそれぞれ作用する。この場合、可動
弁座体５の両面の面積A1，A2が同一だから可動
弁座体５は流体圧力のみでは変位しない。従つて
この場合は電磁石２の吸引力と第１及び第２スプ
リング１２，１４力と弁孔７内の圧力によるポペ
ツト１３への力とで可動弁座体５の位置が決定さ
れる。そこで前記流体圧力が更に大きくなり、そ
の上昇過程において該圧力がポペツト用第１スプ
リング１２のバネ力に押し勝つてポペツト１３を
更に左方向に変位させればこれに追従して可動弁
座体５が左動し、第２スプリング１４の荷重を増
し、この第２スプリング１４力と電磁石２の吸引
力とが釣合つた位置で可動弁座体５は停止し、こ
れ以上左方向に移動しなくなる。
この点を説明したのが第２図であつて、例えば
電流i1のときの電磁石２の吸引力はF1であり、こ
のF1によつて第２スプリング１４が圧縮され、
圧縮量がX1になつたときこの第２スプリング１
４力と電磁石２の吸引力F1とがａ点で釣合うの
であり、電流ｉで電磁石２の吸引力Ｆを増大させ
るとスプリング１４の圧縮量もX2、X3、X4のご
とく大きくなり、バネ荷重の増加につれて平衡点
がｂ，ｃ，ｄのごとく変位するのである。
電流i1のときの電磁石２の吸引力はF1であり、こ
のF1によつて第２スプリング１４が圧縮され、
圧縮量がX1になつたときこの第２スプリング１
４力と電磁石２の吸引力F1とがａ点で釣合うの
であり、電流ｉで電磁石２の吸引力Ｆを増大させ
るとスプリング１４の圧縮量もX2、X3、X4のご
とく大きくなり、バネ荷重の増加につれて平衡点
がｂ，ｃ，ｄのごとく変位するのである。
このように電磁石２の吸引力と第２スプリング
１４力とが平衡する位置で可動弁座体５が停止す
ると、ポペツト１３はシート部１１から離れ、１
次ポート９の流体はタンクポート１６からリリー
フし始める。以上要するに可動弁座体５はその周
面に摩擦抵抗があり、また通路８には流動抵抗が
あり、さらに弁座用第２スプリング１４の抗力も
ある。これら各力は必然的に遅延要素として作用
するため、ここで弁孔７内の圧力が零からリリー
フ圧力まで急上昇したと仮定すれば、この場合は
先づ比較的低圧な過渡期にポペツト１３が左方向
に移動を先行し、シート部１１から離れる。そし
て、続いて可動弁座体５は抵抗に見合つた速度で
ポペツト１３を追いかけるので、圧力は上昇す
る。従つて圧力の動的急上昇に対しては比較的低
い圧力からリリーフ作用に入り、設定圧に達して
始めてシートが開く従来形に比べれば零からの流
量上昇変化に対して応答性は良いといえる。
１４力とが平衡する位置で可動弁座体５が停止す
ると、ポペツト１３はシート部１１から離れ、１
次ポート９の流体はタンクポート１６からリリー
フし始める。以上要するに可動弁座体５はその周
面に摩擦抵抗があり、また通路８には流動抵抗が
あり、さらに弁座用第２スプリング１４の抗力も
ある。これら各力は必然的に遅延要素として作用
するため、ここで弁孔７内の圧力が零からリリー
フ圧力まで急上昇したと仮定すれば、この場合は
先づ比較的低圧な過渡期にポペツト１３が左方向
に移動を先行し、シート部１１から離れる。そし
て、続いて可動弁座体５は抵抗に見合つた速度で
ポペツト１３を追いかけるので、圧力は上昇す
る。従つて圧力の動的急上昇に対しては比較的低
い圧力からリリーフ作用に入り、設定圧に達して
始めてシートが開く従来形に比べれば零からの流
量上昇変化に対して応答性は良いといえる。
上記のごとく電磁石２の吸引力を増大させれば
可動弁座体５の停止位置（電磁石２の吸引力と第
２スプリング１４力とが平衡する位置）が第１図
において左側に移行し、ポペツト１３が開弁する
ときの第１スプリング１２力が増大する。結果的
にリリーフ圧力が高くなるのである。
可動弁座体５の停止位置（電磁石２の吸引力と第
２スプリング１４力とが平衡する位置）が第１図
において左側に移行し、ポペツト１３が開弁する
ときの第１スプリング１２力が増大する。結果的
にリリーフ圧力が高くなるのである。
つまりリリーフ圧力を設定する場合第１スプリ
ング１２力を直接調整することなく、比例電磁石
２の吸引力を適宜変化させるだけでリリーフ圧力
の設定を可変可能としたもので、今この関係を下
記の関係式に基づいて説明する。
ング１２力を直接調整することなく、比例電磁石
２の吸引力を適宜変化させるだけでリリーフ圧力
の設定を可変可能としたもので、今この関係を下
記の関係式に基づいて説明する。
リリーフ状態で比例電磁石２の吸引力と第２ス
プリング１４力及び弁孔７の圧力によるポペツト
１３への作用力と第１スプリング１２力が静的に
バランスしている場合、関係式は下式で表され
る。
プリング１４力及び弁孔７の圧力によるポペツト
１３への作用力と第１スプリング１２力が静的に
バランスしている場合、関係式は下式で表され
る。
ただし、A1＝A2であるから、可動弁座体５に
働く油圧による力は相殺（A1・P7＝A2・P7）され
る。
働く油圧による力は相殺（A1・P7＝A2・P7）され
る。
Ｒ・ｘ＝ｆ(i)
Ｋ・ｘ＝A1・P7
故に
P7＝Ｋ／Ｒ・ｆ(i)／Ａ１
ここに
Ｒ＝第２スプリング１４のバネ常数
Ｋ＝第２スプリング１２のバネ定数
ｘ＝スプリング１４，１２の圧縮量
ｆ(i)＝比例電磁石２の吸引力
A1＝弁孔７の受圧面積
A2＝液圧室４ｃの受圧面積
P7＝弁孔７内圧力
そしてこの場合Ｒ・Ｋ・A1の各値を一定とし
たときレレーフ圧力となる弁孔７内圧力P7は電磁
石２の吸引力ｆ(i)に比例する関係にある。このた
めリリーフ弁の設定圧力を調整する場合比例電磁
石２の吸引力を変化させるのみで良く、またその
吸引力は第１スプリング１２力より小さい第２ス
プリング１４力に相当するもので良いから、圧力
調整用としての操作力を従来に比べ軽減させるこ
とができるものである。
たときレレーフ圧力となる弁孔７内圧力P7は電磁
石２の吸引力ｆ(i)に比例する関係にある。このた
めリリーフ弁の設定圧力を調整する場合比例電磁
石２の吸引力を変化させるのみで良く、またその
吸引力は第１スプリング１２力より小さい第２ス
プリング１４力に相当するもので良いから、圧力
調整用としての操作力を従来に比べ軽減させるこ
とができるものである。
以上のようにリリーフ状態では第２図の点ａ，
ｂ，ｃ，ｄは第２スプリング１４電磁石２の吸引
力との関係でのみ定まり、電磁石２の吸引力と第
１スプリング１２力とは直接対向しないものであ
る。
ｂ，ｃ，ｄは第２スプリング１４電磁石２の吸引
力との関係でのみ定まり、電磁石２の吸引力と第
１スプリング１２力とは直接対向しないものであ
る。
以上においてポペツト１３とシート部１１との
間の制御間隙は、全変位に比べて極めて小さいの
で無視できるとする。また電磁石２の吸引力を変
化させることによつて制御圧力も一義的に変化す
ることは、前記式によつて理解できる通りであ
る。
間の制御間隙は、全変位に比べて極めて小さいの
で無視できるとする。また電磁石２の吸引力を変
化させることによつて制御圧力も一義的に変化す
ることは、前記式によつて理解できる通りであ
る。
ここにKx＝P7・A1は弁の能力（圧力×流量）
を決定する式でありｆ(i)やＲ・ｘとは無関係に決
められる。
を決定する式でありｆ(i)やＲ・ｘとは無関係に決
められる。
叙上の如く本発明のリリーフ弁は、弁本体１に
形成した小径孔４ａと大径孔４ｂとからなる段付
ピストン室４に、前記小径孔４ａに嵌合する小径
部５ａ及び大径孔４ｂに嵌合する大径部５ｂを有
する可動弁座体５を往復動自由に挿嵌して、前記
大径孔４ｂにおける大径部５ｂの小径部側に液圧
室４ｃを、反小径部側に弁室６をそれぞれ形成
し、前記可動弁座体５の大径部５ｂに弁孔７を設
け、該弁孔７を前記弁室６側へ開口し、該弁孔７
を開閉するポペツト１３と、該ポペツト１３を可
動弁座体５側へ押圧して弁孔７を閉鎖する第１ス
プリング１２と、前記可動弁座体５の大径部端面
に当接し、この弁座体５を前記液圧室４ｃ側へ押
圧する第２スプリング１４とを前記弁室６に介装
し、前記可動弁座体５の小径部端面に比例電磁石
２のプツシユロツド１８を当接して、該比例電磁
石２の吸引力で前記可動弁座体５をポペツト１３
側へ押圧する一方、前記弁孔７と液圧室４ｃとを
可動弁座体５の通路８を介して連通し、かつ前記
弁孔７と弁本体１の１次ポート９とを可動弁座体
５の通路１０を介し連通すると共に、前記弁室６
を弁本体１のタンクポート１６に連通する一方、
前記第１スプリング１２力に対して第２スプリン
グ１４力を小の関係に設定し、前記弁孔７におけ
る受圧面積A1と液圧室４ｂにおける受圧面積A2
とを同一に設定したから、比例電磁石２の吸引力
と第２スプリング１４力とが平衡して可動弁座体
５が停止するまでは、第１スプリング１２による
ポペツト１３への押圧力が小さいので、１次ポー
ト９の圧力が急上昇したときはポペツト１３は可
動弁座体５に対してその運動が先行するので、設
定圧より低い圧力から動的にはリリーフ作用を発
揮するもので、圧力オーバシユート（サージ圧
力）をより抑制することができる。それでいて静
的には比例電磁石２によつて任意のリリーフ制御
圧が得られる。
形成した小径孔４ａと大径孔４ｂとからなる段付
ピストン室４に、前記小径孔４ａに嵌合する小径
部５ａ及び大径孔４ｂに嵌合する大径部５ｂを有
する可動弁座体５を往復動自由に挿嵌して、前記
大径孔４ｂにおける大径部５ｂの小径部側に液圧
室４ｃを、反小径部側に弁室６をそれぞれ形成
し、前記可動弁座体５の大径部５ｂに弁孔７を設
け、該弁孔７を前記弁室６側へ開口し、該弁孔７
を開閉するポペツト１３と、該ポペツト１３を可
動弁座体５側へ押圧して弁孔７を閉鎖する第１ス
プリング１２と、前記可動弁座体５の大径部端面
に当接し、この弁座体５を前記液圧室４ｃ側へ押
圧する第２スプリング１４とを前記弁室６に介装
し、前記可動弁座体５の小径部端面に比例電磁石
２のプツシユロツド１８を当接して、該比例電磁
石２の吸引力で前記可動弁座体５をポペツト１３
側へ押圧する一方、前記弁孔７と液圧室４ｃとを
可動弁座体５の通路８を介して連通し、かつ前記
弁孔７と弁本体１の１次ポート９とを可動弁座体
５の通路１０を介し連通すると共に、前記弁室６
を弁本体１のタンクポート１６に連通する一方、
前記第１スプリング１２力に対して第２スプリン
グ１４力を小の関係に設定し、前記弁孔７におけ
る受圧面積A1と液圧室４ｂにおける受圧面積A2
とを同一に設定したから、比例電磁石２の吸引力
と第２スプリング１４力とが平衡して可動弁座体
５が停止するまでは、第１スプリング１２による
ポペツト１３への押圧力が小さいので、１次ポー
ト９の圧力が急上昇したときはポペツト１３は可
動弁座体５に対してその運動が先行するので、設
定圧より低い圧力から動的にはリリーフ作用を発
揮するもので、圧力オーバシユート（サージ圧
力）をより抑制することができる。それでいて静
的には比例電磁石２によつて任意のリリーフ制御
圧が得られる。
またリリーフ圧力を設定する第１スプリング１
２力を直接調整することなく、比例電磁石２の操
作力でもつて可動弁座体５の位置を調整すること
により、第１スプリング１２力を調整するので、
比例電磁石２は位置設定用の第２スプリング１４
力に相当する操作力でよく、第２スプリング１４
力は第１スプリング１２力より小さいので、比例
電磁石２の操作力は非常に小さくなる。
２力を直接調整することなく、比例電磁石２の操
作力でもつて可動弁座体５の位置を調整すること
により、第１スプリング１２力を調整するので、
比例電磁石２は位置設定用の第２スプリング１４
力に相当する操作力でよく、第２スプリング１４
力は第１スプリング１２力より小さいので、比例
電磁石２の操作力は非常に小さくなる。
つまりリリーフ圧力を設定する場合第１スプリ
ング１２力を直接調整することなく、比例電磁石
２の吸引力を適宜変化させるだけでリリーフ圧力
の設定を可変可能にしたもので、今この関係を下
記の関係式に基づいて説明する。
ング１２力を直接調整することなく、比例電磁石
２の吸引力を適宜変化させるだけでリリーフ圧力
の設定を可変可能にしたもので、今この関係を下
記の関係式に基づいて説明する。
リリーフ状態で比例電磁石２の吸引力と第２ス
プリング１４力及び弁孔７の圧力によるポペツト
１３への作用力と第１スプリング１２力が静的に
バランスしている場合、関係式は下式で表され
る。
プリング１４力及び弁孔７の圧力によるポペツト
１３への作用力と第１スプリング１２力が静的に
バランスしている場合、関係式は下式で表され
る。
ただし、A1＝A2であるから、可動弁座体５に
働く油圧による力は相殺（A1・P7＝A2・P7）され
る。
働く油圧による力は相殺（A1・P7＝A2・P7）され
る。
Ｒ・ｘ＝ｆ(i)
Ｋ・ｘ＝A1・P7
故に
P7＝Ｋ／Ｒ・ｆ(i)／Ａ１
ここに
Ｒ＝第２スプリング１４のバネ常数
Ｋ＝第２スプリング１２のバネ定数
ｘ＝スプリング１４，１２の圧縮量
ｆ(i)＝比例電磁石２の吸引力
A1＝弁孔７の受圧面積
A2＝液圧室４ｃの受圧面積
P7＝弁孔７内圧力
そしてこの場合Ｒ・Ｋ・A1の各値を一定とし
たときレレーフ圧力となる弁孔７内圧力P7は電磁
石２の吸引力ｆ(i)に比例する関係にある。このた
めリリーフ弁の設定圧力を調整する場合比例電磁
石２の吸引力を変化させるのみで良く、またその
吸引力は第１スプリング１２力より小さい第２ス
プリング１４力に相当するもので良いから、圧力
調整用としての操作力を従来に比べ軽減させるこ
とができるものである。
たときレレーフ圧力となる弁孔７内圧力P7は電磁
石２の吸引力ｆ(i)に比例する関係にある。このた
めリリーフ弁の設定圧力を調整する場合比例電磁
石２の吸引力を変化させるのみで良く、またその
吸引力は第１スプリング１２力より小さい第２ス
プリング１４力に相当するもので良いから、圧力
調整用としての操作力を従来に比べ軽減させるこ
とができるものである。
第１図は本発明の実施例を示す一部を断面した
正面図、第２図は比例電磁石とスプリングとの特
性の説明図、第３図は従来品の説明図である。 １……弁本体、２……比例電磁石、４……ピス
トン室、５……可動弁座体、６……弁室、７……
弁孔、８……通路、９……１次ポート、１０……
通路、１２……第１スプリング、１３……ポペツ
ト、１４……第２スプリング、１６……タンクポ
ート、１８……プツシユロツド。
正面図、第２図は比例電磁石とスプリングとの特
性の説明図、第３図は従来品の説明図である。 １……弁本体、２……比例電磁石、４……ピス
トン室、５……可動弁座体、６……弁室、７……
弁孔、８……通路、９……１次ポート、１０……
通路、１２……第１スプリング、１３……ポペツ
ト、１４……第２スプリング、１６……タンクポ
ート、１８……プツシユロツド。
Claims (1)
- １ 弁本体１に形成した小径孔４ａと大径孔４ｂ
とからなる段付ピストン室４に、前記小径孔４ａ
に嵌合する小径部５ａ及び大径孔４ｂに嵌合する
大径部５ｂを有する可動弁座体５を往復動自由に
挿嵌して、前記大径孔４ｂにおける大径部５ｂの
小径部側に液圧室４ｃを、反小径部側に弁室６を
それぞれ形成し、前記可動弁座体５の大径部５ｂ
に弁孔７を設け、該弁孔７を前記弁室６側へ開口
し、該弁孔７を開閉するポペツト１３と、該ポペ
ツト１３を可動弁座体５側へ押圧して弁孔７を閉
鎖する第１スプリング１２と、前記可動弁座体５
の大径部端面に当接し、この弁座体５を前記液圧
室４ｃ側へ押圧する第２スプリング１４とを前記
弁室６に介装し、前記可動弁座体５の小径部端面
に比例電磁石２のプツシユロツド１８を当接し
て、該比例電磁石２の吸引力で前記可動弁座体５
をポペツト１３側へ押圧する一方、前記弁孔７と
液圧室４ｃとを可動弁座体５の通路８を介して連
通し、かつ前記弁孔７と弁本体１の１次ポート９
とを可動弁座体５の通路１０を介し連通すると共
に、前記弁室６を弁本体１のタンクポート１６に
連通する一方、前記第１スプリング１２力に対し
て第２スプリング１４力を小の関係に設定し、前
記弁孔７における受圧面積A1と液圧室４ｂにお
ける受圧面積A2とを同一に設定したことを特徴
とするリリーフ弁。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16296278A JPS5590769A (en) | 1978-12-28 | 1978-12-28 | Relief valve |
| GB7944108A GB2044887B (en) | 1978-12-28 | 1979-12-21 | Pressure control vavle assembly |
| DE19792952237 DE2952237A1 (de) | 1978-12-28 | 1979-12-22 | Drucksteuerventil |
| US06/107,620 US4275758A (en) | 1978-12-28 | 1979-12-27 | Pressure control valve assembly |
| FR7931995A FR2445476B1 (fr) | 1978-12-28 | 1979-12-28 | Soupape de controle de pression |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16296278A JPS5590769A (en) | 1978-12-28 | 1978-12-28 | Relief valve |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5590769A JPS5590769A (en) | 1980-07-09 |
| JPS6153584B2 true JPS6153584B2 (ja) | 1986-11-18 |
Family
ID=15764583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16296278A Granted JPS5590769A (en) | 1978-12-28 | 1978-12-28 | Relief valve |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5590769A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105805377A (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-27 | 无锡纵阳气动制造有限公司 | 一种稳压恒流阀 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5018617A (ja) * | 1973-06-18 | 1975-02-27 |
-
1978
- 1978-12-28 JP JP16296278A patent/JPS5590769A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5018617A (ja) * | 1973-06-18 | 1975-02-27 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105805377A (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-27 | 无锡纵阳气动制造有限公司 | 一种稳压恒流阀 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5590769A (en) | 1980-07-09 |
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