JPS6151599B2 - - Google Patents

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JPS6151599B2
JPS6151599B2 JP5458579A JP5458579A JPS6151599B2 JP S6151599 B2 JPS6151599 B2 JP S6151599B2 JP 5458579 A JP5458579 A JP 5458579A JP 5458579 A JP5458579 A JP 5458579A JP S6151599 B2 JPS6151599 B2 JP S6151599B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
dodecaphenylsilsesquioxane
molecular weight
reaction
bicarbonate
Prior art date
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Expired
Application number
JP5458579A
Other languages
English (en)
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JPS55145694A (en
Inventor
Minoru Takamizawa
Yoshio Inoe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP5458579A priority Critical patent/JPS55145694A/ja
Publication of JPS55145694A publication Critical patent/JPS55145694A/ja
Publication of JPS6151599B2 publication Critical patent/JPS6151599B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はドデカフエニルシルセスキオキサンの
製造方法に関するものである。
従来、高分子量のフエニルシルセスキオキサン
を得るにあたつては、あらかじめフエニルトリク
ロロシランを加水分解し、オクタフエニルシルセ
スキオキサン、デカフエニルシルセスキオキサン
またはドデカフエニルシルセスキオキサンを合成
する必要があり、この加水分解方法としては、十
分な量の水を使用し、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ジエチルエーテルなどの存在下に行う方法
が採用されていた。
しかしながら、上記した方法において、高純度
なオクタフエニルシルセスキオキサン、デカフエ
ニルシルセスキオキサンまたはドデカフエニルシ
ルセスキオキサンを合成することは困難であり、
高分子量のフエニルシルセスキオキサンを得よう
とする場合には、反応中にゲル化現象がみられる
という問題があつた。
本発明者らはドデカフエニルシルセスキオキサ
ンの製造方法について鋭意研究を重ねた結果、こ
れには一般式 C6H5SiX3 ……(i) (式中、Xはハロゲン原子を表わす)で示され
るフエニルトリハロゲノシランと 一般式 MHCO3 ……(ii) (式中、Mはアルカル金属原子または―NH4
表わす)で示される重炭酸塩とを、非極性溶媒の
存在下で脱ハロゲン化反応させ、ついで加熱する
方法が有効であることを見出し本発明を完成した
ものである。
つぎに本発明方法をさらに詳細に説明する。
まず、本発明において始発原料として使用され
るフエニルトリハロゲノシランは上記した一般式
(i)で示されるものであつて、式中のXはハロゲン
原子を表わし、これには塩素原子、臭素原子、よ
う素原子などが例示される。このようなフエニル
トリハロゲノシランとしては、具体的にはフエニ
ルトリクロロシラン、フエニルトリブロモシラン
などが例示される。
また、本発明において、上記フエニルトリハロ
ゲノシランとともに始発原料として使用される重
炭酸塩は上記一般式(ii)で示されるものであつて、
式中のMはアルカル金属原子または―NH4を表わ
し、このアルカル金属原子としては、たとえばリ
チウム、ナトリウム、カリウムなどをあげること
ができる。このような重炭酸塩としては、重炭酸
ナトリウム、重炭酸カリウム、重炭酸アンモニウ
ムなどが例示される。
さらに、本発明において使用される非極性溶媒
としては従来から知られている種々のものを使用
することができ、これにはn―ヘキサン、トルエ
ン、ベンゼン、キシレンなどが例示される。
本発明方法はまず上記したようなフエニルトリ
ハロゲノシランと重炭酸塩とを非極性溶媒の存在
下で脱ハロゲン化反応させるのであるが、この反
応温度は0〜120℃、好ましくは10〜50℃とする
ことがよく、またフエニルトリクロロシランと重
炭酸塩との使用割合は、フエニルトリクロロシラ
ン1モルに対して重炭酸塩を3.0モル以上とする
ことがよい。他方、ここで使用する非極性溶媒の
使用量については特に制限はないが、重炭酸塩お
よび該反応によつて生成する塩化物が固体状であ
ることから、それが少なすぎる場合には固体現象
が起き均一な反応を行うことが困難となり逆に多
すぎる場合には収率が低くなるため、固化が起き
ない程度の量とすることが望ましい。
本発明方法は、上記のようにして反応を行つた
のち、ここで得られる反応生成物を加熱脱水縮合
反応させ、この反応により生成した縮合水を系外
に除去し最終目的物であるドデカフエニルシルセ
スキオキサンを得るのであるが、該加熱温度は80
〜120℃の範囲で行うことがよい。
なお、脱水縮合反応を行うにあたつてはとくに
反応触媒などは必要とされないが、始発原料の一
方である前記した一般式(ii)で示される重炭酸塩を
過剰量使用し、この未反応重炭酸塩を反応触媒と
して用いてもよい。
上述のようにして得られるドデカフエニルシル
セスキオキサンは、これを水酸化リチウム、水酸
化ナトリウムあるいは水酸化カリウムなどの塩基
性化合物などの存在下でビフエニル、ジフエニル
オキサイド、メチルフエニルエーテル、エチルフ
エニルエーテルあるいはジフエニルエーテルなど
のフエニル化合物などを使用し重合させることに
より容易に高分子化することができる。
すなわち、従来方法、たとえばフエニルクロロ
シランに、加水分解に必要とされる十分な量の水
を添加しエチルエーテルなどの溶媒の存在下で加
水分解反応を行つたのち、アルカル性触媒を用い
温度200〜230℃で40〜50時間重合させて得られる
フエニルシルセスキオキサンのラダーポリマーは
粘度(固型分換算1重量%ベンゼン溶液)2.5〜
3.5cS(25℃)で(ベンゼンとの粘度比3.4〜
3.7)、平均分子量が28000〜50000である。
これに対して本発明方法によつて得られるドデ
カフエニルシルセスキオキサンを使用してアルカ
ル性触媒の存在下において、温度190〜200℃で40
〜50時間重合を行つた場合には粘度(固型分換算
1重量%ベンゼン溶液)が7.55cS(25℃)であり
(ベンゼンとの粘度比10.2)、平均分子量が
1400000程度のフエニルシルセスキオキサンのラ
ダーポリマーが得られ、また重合温度、重合時間
などの重合条件を適宜選択することにより分子量
が2000000以上の高分子量のものも容易に得るこ
とができる。
以上説明したように、本発明方法によればドデ
カフエニルシルセスキオキサンをきわめて容易に
しかも高収率で製造することができ、また従来方
法において高分子量のフエニルシルセスキオキサ
ンのラダーポリマーを得る場合には、その重合条
件に種々の制約が必要であり(たとえば重合温度
を230〜240℃に設定)、この方法で得ることがで
きるラダーポリマーは分子量がせいぜい500000程
度であり、それ以上のものは製造が困難であつた
が、本発明方法で得られるドデカフエニルシルセ
スキオキサンを使用してフエニルシルセスキオキ
サンのラダーポリマーを得るにあたつては重合条
件を種々選択することにより低分子量のものから
高分子量のものまで温和な条件で技術上の不利を
伴うことなく容易に合成することができるという
顕著な効果が得られる。
つぎに本発明の実施例、比較例および参考例を
あげる。
実施例 1 内容積2のセパラフラスコに、トルエン500
gおよびNaHCO3 255g(3.03モル)を仕込み、
温度を30℃以下に保持し、フエニルトリクロロシ
ラン211.5g(1モル)を徐々に滴下し、滴下終
了後温度30℃で2時間かく伴したのち昇温しトル
エン還流下で脱水縮合させた。ついで冷却、水洗
を行いここで生成したNaClおよび過剰のNa
HCO3を除去し、脱水後過しトルエンを留去さ
せたところ、白色の粉末状物質が128g得られ
た。
上記で得られた粉末状物質は下記の分析結果か
らドデカフエニルシルセスキオキサンであること
が確認された。
なお計算値とあるのはドデカフエニルシルセス
キオキサンの値を示したものである(以下同
様)。
Γ分子量測定 測定値 計算値 1545 1548 Γ赤外分光分析 シラノール基全く検出されず Γ液体クロマトグラフイー分析 単一成分であることを確認 Γ炭素分析 測定値 計算値 C 55.8 55.8 S 21.6 21.7 実施例 2 内容積2のセパラフラスコに、トルエン250
g、キシレン250gおよびNH4HCO3 239g(3.03
モル)を仕込み、温度を30℃以下に保持してフエ
ニルトリクロロシラン212g(1モル)を徐々に
滴下したのち、上記実施例1とほぼ同様に処理を
行なつたところ、白色の粉末状物質が得られた。
上記で得られた粉末状物質は下記の分析結果か
らドデカフエニルシルセスキオキサン(収率99
%)であることが確認された。
Γ分子量測定 実測値 計算値 1550 1548 Γ赤外分光分析 シラノール基全く検出されず Γ井素分析 実測値 計算値 C 55.6 55.8 Si 21.7 21.7 実施例 3 内容積2のセパラフラスコに、ベンゼン100
g、トルエン400gおよびKHCO3 305g(3.05モ
ル)を仕込み、温度を30℃以下に保持してフエニ
ルトリクロロシラン212g(1モル)を徐々に滴
下したのち、上記実施例1とほぼ同様に処理を行
つたところ、白色の粉末状物質が得られた。
上記で得られた粉末状物質は下記の分析結果か
らドデカフエニルシルセスキオキサンであること
が確認された。
Γ分子量測定 実測値 計算値 1540 1548 Γ赤外分光分析 シラノール基全く検出されず Γ元素分析 実測値 計算値 C 55.8 55.8 Si 21.7 21.7 参考例 実施例1で得たドデカフエニルシルセスキオキ
サン129gをトルエン129gに溶解し、これにジフ
エニル4g、ジフエニルエーテル11gおよび
KOH 0.03gを加え昇温しトルエンを留去したの
ち、温度150〜160℃でアルカリ重合を行つたとこ
ろ、6時間経過後には固体状に変化しかく伴が困
難となつた。さらに温度190〜200℃で24時間重合
を行つたのち、冷却し1%CH3COOHを含有する
ベンゼン1000gに溶解し、ついで過を行つた。
上記で得た液をメタノール3000g中に徐々に
滴下し糸状に析出させ、これをメタノールで2回
洗浄したのち、温度150℃で24時間乾燥させたと
ころ、糸状物質が得られた。
この糸状物質について赤外分光分析により分析
を行つたところ、該糸状物質はフエニルシルセス
キオキサンのラダー状ポリマーであることが判つ
た。また前記ポリマーの1%ベンゼン溶液の相対
粘度を調べたところ、6.72cS(25℃)であり(粘
度比9.08)、平均分子量は1200000であつた。
比較例 ジエチルエーテル250gとフエニルトリクロロ
シラン212g(1モル)からなる混合液に、温度
を15℃以下に保持しながら水162g(9モル)を
徐々に滴下して加水分解反応を行いフエニルシラ
ントリオールのエーテル溶液を得たのち、水洗に
より中和し、さらに脱水処理を行つた。つぎにキ
シレン250mlを加え昇温しエーテルを留去したの
ち、ジフエニル4g、ジフエニルエーテル11gお
よびKOH 0.03gを添加しついで昇温してキシレ
ンを留去しながら温度150〜160℃でアルカリ重合
を行つたところ、8時間経過後に固体状に変化し
かく拌が困難となつた。さらに温度220〜230℃で
24時間重合を行つたのち、冷却し、ついでこれを
1%CH3COOHを含有するベンゼン1000gに溶解
し過を行つた。
上記で得た液をメタノール3000g中に徐々に
滴下して糸状に析出させ、これをメタノールで2
回洗浄したのち、温度150℃で24時間乾燥させた
ところ、糸状物質が得られた。
このものを赤外分光分析により分析を行つたと
ころ、該物質はフエニルシルセスキオキサンと呼
ばれるラダー状ポリマーであることが判つた。ま
た前記ポリマーの1%ベンゼン溶液の相対粘度を
調べたところ、2.16cS(25℃)であり(ベンゼン
との粘度比2.92)、平均分子量は230000であつ
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 C6H5SiX3 (式中、Xはハロゲン原子を表わす)で示され
    るフエニルトリハロゲノシランと 一般式 MHCO3 (式中、Mはアルカリ金属原子または―NH4
    表わす)で示される重炭酸塩とを、非極性溶媒の
    存在下で脱ハロゲン化反応させ、ついで加熱する
    ことを特徴とするドデカフエニルシルセスキオキ
    サンの製造方法。
JP5458579A 1979-05-02 1979-05-02 Preparation of dodecaphenylsilsesquioxane Granted JPS55145694A (en)

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JPS55145694A JPS55145694A (en) 1980-11-13
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JP4603634B2 (ja) * 1998-05-12 2010-12-22 東レ・ダウコーニング株式会社 トリハロシランからオルガノシロキサンを製造する方法
CN1214034C (zh) * 1999-08-04 2005-08-10 杂混复合塑料公司 形成多面体低聚倍半硅氧烷的方法
JP2005187381A (ja) * 2003-12-25 2005-07-14 Asahi Kasei Corp ケイ素化合物の精製法
CN112390953B (zh) * 2020-11-18 2022-01-25 北京理工大学 十二苯基笼形硅倍半氧烷的制备和单晶培养方法以及一种单晶

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