JPH04311727A - アルコキシ基含有オルガノポリシランおよびその製造方法 - Google Patents
アルコキシ基含有オルガノポリシランおよびその製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【発明の技術分野】本発明はポリシランおよびその製造
方法に関するものであり、詳しくは分岐状の骨格を持つ
アルコキシ基含有オルガノポリシランおよびその製造方
法に関するものである。
方法に関するものであり、詳しくは分岐状の骨格を持つ
アルコキシ基含有オルガノポリシランおよびその製造方
法に関するものである。
【0002】
【発明の技術的背景とその問題点】ポリシランは、その
持っているケイ素−ケイ素結合に基づく特異な性質によ
り、様々な特性を発揮しうることで高機能性高分子とし
て期待されている。その技術的な応用可能性としては、
炭化ケイ素ファイバーなどのセラミックプレカーサーや
、フォトレジスト・光導電材料・非線形光学材料・光反
応開始剤などの光関連材料等が挙げられ、これらについ
ては一部実用化が成されている。また金属を凌ぐ高導電
性も原理的には期待され、その検討も始まっている。
持っているケイ素−ケイ素結合に基づく特異な性質によ
り、様々な特性を発揮しうることで高機能性高分子とし
て期待されている。その技術的な応用可能性としては、
炭化ケイ素ファイバーなどのセラミックプレカーサーや
、フォトレジスト・光導電材料・非線形光学材料・光反
応開始剤などの光関連材料等が挙げられ、これらについ
ては一部実用化が成されている。また金属を凌ぐ高導電
性も原理的には期待され、その検討も始まっている。
【0003】このように将来性が期待されているポリシ
ランではあるが、その合成法としては次のようなものが
知られている。■ キッピング法:金属ナトリウムに
よるジクロロシランの縮合反応(ウルツカップリング)
ランではあるが、その合成法としては次のようなものが
知られている。■ キッピング法:金属ナトリウムに
よるジクロロシランの縮合反応(ウルツカップリング)
【0004】
【化2】
【0005】■ ヒドロシランの触媒的脱水素カップ
リング(J. F. Harrodら、ジャーナルオブ
アメリカンケミカルソサエティ、 106巻、1859
頁)
リング(J. F. Harrodら、ジャーナルオブ
アメリカンケミカルソサエティ、 106巻、1859
頁)
【0006】
【化3】
【0007】■ マスクドジシレンのアニオン重合(
桜井ら、ジャーナルオブアメリカンケミカルソサエティ
、 111巻、7641頁)
桜井ら、ジャーナルオブアメリカンケミカルソサエティ
、 111巻、7641頁)
【0008】
【化4】
【0009】(上記式中、R’はアルキル基、フェニル
基等である)現状では、■では得られるポリシランの重
合度に限度があり、■は出発原料の合成の問題があるた
め、未だ実験室レベルの検討段階である。現在工業的に
生産されているポリシランはすべて■のキッピング法を
採っている。■のキッピング法は操作としては簡便であ
り、出発原料は入手しやすいものであるが、反応機構と
しては複雑なものである。そのため、重合度の制御が困
難であり、分子量分布に2つのピークができる。また収
率も低く、置換基の位置制御や立体規則性の制御が難し
いという問題がある。これらの改善のために種々の検討
がなされている。例えば、S. Gauthier ら
はクラウンエーテルのような相間移動触媒を添加するこ
とにより分子量分布が改善され、重合反応速度も増加す
ることを報告している(マクロモレキュールズ、22巻
、2213頁)。H.K. Kim らは超音波の照射
下に反応を行わせることにより単分散のポリマーが得ら
れることを報告している(ジャーナルオブアメリカンケ
ミカルソサエティ、 110巻、3321頁)。松本ら
はジイソプロピルテトラクロロジシランのリチウムによ
る縮合により、梯子状の骨格を持つと考えられるラダー
ポリシランの合成に成功した(ジャーナルオブケミカル
ソサエティ、ケミカルコミュニケーション、1987年
、1316頁)。また、P. A. Bianconi
らはヘキシルトリクロロシランを超音波照射下、Na−
K合金で処理してケイ素骨格の不規則ネットワークを有
するポリマーを得ている(ジャーナルオブアメリカンケ
ミカルソサエティ、 110巻、2342頁)。このよ
うに種々の検討が加えられているが、キッピング法はア
ルカリ金属を用いる反応であるため、本質的にアルカリ
金属が化学量論量だけ必要であり、大量の塩が副生する
という問題がある。
基等である)現状では、■では得られるポリシランの重
合度に限度があり、■は出発原料の合成の問題があるた
め、未だ実験室レベルの検討段階である。現在工業的に
生産されているポリシランはすべて■のキッピング法を
採っている。■のキッピング法は操作としては簡便であ
り、出発原料は入手しやすいものであるが、反応機構と
しては複雑なものである。そのため、重合度の制御が困
難であり、分子量分布に2つのピークができる。また収
率も低く、置換基の位置制御や立体規則性の制御が難し
いという問題がある。これらの改善のために種々の検討
がなされている。例えば、S. Gauthier ら
はクラウンエーテルのような相間移動触媒を添加するこ
とにより分子量分布が改善され、重合反応速度も増加す
ることを報告している(マクロモレキュールズ、22巻
、2213頁)。H.K. Kim らは超音波の照射
下に反応を行わせることにより単分散のポリマーが得ら
れることを報告している(ジャーナルオブアメリカンケ
ミカルソサエティ、 110巻、3321頁)。松本ら
はジイソプロピルテトラクロロジシランのリチウムによ
る縮合により、梯子状の骨格を持つと考えられるラダー
ポリシランの合成に成功した(ジャーナルオブケミカル
ソサエティ、ケミカルコミュニケーション、1987年
、1316頁)。また、P. A. Bianconi
らはヘキシルトリクロロシランを超音波照射下、Na−
K合金で処理してケイ素骨格の不規則ネットワークを有
するポリマーを得ている(ジャーナルオブアメリカンケ
ミカルソサエティ、 110巻、2342頁)。このよ
うに種々の検討が加えられているが、キッピング法はア
ルカリ金属を用いる反応であるため、本質的にアルカリ
金属が化学量論量だけ必要であり、大量の塩が副生する
という問題がある。
【0010】そのため、入手しやすい原料を用いて、化
学量論量のアルカリ金属を用いることなくポリシランを
得る方法が望まれている。このような方法はオリゴシラ
ンの合成についてはいくつかが知られている。例えば、
特開昭54−24874号公報には1,2−ジメトキシ
テトラメチルジシランを触媒量のナトリウムメトキシド
で処理することによってドデカメチルシクロヘキサシラ
ンが得られることが開示されている。また、特開昭57
−146790号公報にはその反応の反応条件を選ぶこ
とにより、その反応を中間段階のα,ω−ジメトキシオ
リゴシランの生成に止めておくことができることが述べ
られている。しかしながら、分子量の大きなアルコキシ
基含有のポリシランの簡便な合成法については知られて
いなかった。
学量論量のアルカリ金属を用いることなくポリシランを
得る方法が望まれている。このような方法はオリゴシラ
ンの合成についてはいくつかが知られている。例えば、
特開昭54−24874号公報には1,2−ジメトキシ
テトラメチルジシランを触媒量のナトリウムメトキシド
で処理することによってドデカメチルシクロヘキサシラ
ンが得られることが開示されている。また、特開昭57
−146790号公報にはその反応の反応条件を選ぶこ
とにより、その反応を中間段階のα,ω−ジメトキシオ
リゴシランの生成に止めておくことができることが述べ
られている。しかしながら、分子量の大きなアルコキシ
基含有のポリシランの簡便な合成法については知られて
いなかった。
【0011】
【発明の目的】本発明の目的は高分子量のアルコキシ基
含有オルガノポリシランの簡便な合成法を提供すること
であり、他の目的は従来のα,ω−ジメトキシオリゴシ
ランよりも分子量が大きく、更に高分子量のオルガノポ
リシランを合成するための中間体材料としても有用なア
ルコキシ基含有オルガノポリシランを提供することであ
る。
含有オルガノポリシランの簡便な合成法を提供すること
であり、他の目的は従来のα,ω−ジメトキシオリゴシ
ランよりも分子量が大きく、更に高分子量のオルガノポ
リシランを合成するための中間体材料としても有用なア
ルコキシ基含有オルガノポリシランを提供することであ
る。
【0012】
【発明の構成】本発明者は上記問題を解決し、入手しや
すい原料を用いて、化学量論量のアルカリ金属を用いる
ことなく、高分子量のポリシランを得る方法について検
討を行った結果、分子中に分岐構造を導入することによ
り、アルカリ金属を用いなくても簡便に高分子量化しう
ることを見出し、本発明をなすに到った。
すい原料を用いて、化学量論量のアルカリ金属を用いる
ことなく、高分子量のポリシランを得る方法について検
討を行った結果、分子中に分岐構造を導入することによ
り、アルカリ金属を用いなくても簡便に高分子量化しう
ることを見出し、本発明をなすに到った。
【0013】即ち、本発明は、
【0014】
【化5】
【0015】(式中、 Rは炭素原子数1〜10の炭化
水素基、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基、aは
1,2または3の数、bは0,1,2または3の数をそ
れぞれ表し、a+bは1,2または3である)で表され
る構成単位からなり、平均組成においてa/b比が1以
上であり、かつ一分子中のケイ素原子数が少なくとも8
であることを特徴とするアルコキシ基含有オルガノポリ
シラン、及び 一般式 R3−n(R1O)nSiSi(OR1
)2R (II)(式中、 Rは炭素
原子数1〜10の炭化水素基、R1は炭素原子数1〜1
0のアルキル基、nは1または2の数を表す)で表され
るオルガノトリアルコキシジシランおよび/またはオル
ガノテトラアルコキシジシランの少なくとも1種を含む
オルガノアルコキシジシランを一般式 R2OM
(III)(式中、R2は炭素原子数1〜10の
炭化水素基、 Mはアルカリ金属類から選ばれる金属を
表す)で表されるアルカリ金属化合物の存在下に不均化
反応させることを特徴とするアルコキシ基含有オルガノ
ポリシランの製造方法である。
水素基、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基、aは
1,2または3の数、bは0,1,2または3の数をそ
れぞれ表し、a+bは1,2または3である)で表され
る構成単位からなり、平均組成においてa/b比が1以
上であり、かつ一分子中のケイ素原子数が少なくとも8
であることを特徴とするアルコキシ基含有オルガノポリ
シラン、及び 一般式 R3−n(R1O)nSiSi(OR1
)2R (II)(式中、 Rは炭素
原子数1〜10の炭化水素基、R1は炭素原子数1〜1
0のアルキル基、nは1または2の数を表す)で表され
るオルガノトリアルコキシジシランおよび/またはオル
ガノテトラアルコキシジシランの少なくとも1種を含む
オルガノアルコキシジシランを一般式 R2OM
(III)(式中、R2は炭素原子数1〜10の
炭化水素基、 Mはアルカリ金属類から選ばれる金属を
表す)で表されるアルカリ金属化合物の存在下に不均化
反応させることを特徴とするアルコキシ基含有オルガノ
ポリシランの製造方法である。
【0016】本製造法で出発原料として用いられる一般
式 R3−n(R1O)nSiSi(OR1)2R
(式中、 Rは炭素原子数1〜10の炭化水素基、R1
は炭素原子数1〜10のアルキル基、nは1または2の
数を表す)で表されるオルガノアルコキシジシランは、
対応するオルガノクロロジシランをアルコールと反応さ
せることにより簡単に合成できる。かかるオルガノクロ
ロジシランは商業的な生産がなされているオルガノクロ
ロシランの直接合成の際の副生物としてその蒸留残渣か
ら容易に得ることができる。
式 R3−n(R1O)nSiSi(OR1)2R
(式中、 Rは炭素原子数1〜10の炭化水素基、R1
は炭素原子数1〜10のアルキル基、nは1または2の
数を表す)で表されるオルガノアルコキシジシランは、
対応するオルガノクロロジシランをアルコールと反応さ
せることにより簡単に合成できる。かかるオルガノクロ
ロジシランは商業的な生産がなされているオルガノクロ
ロシランの直接合成の際の副生物としてその蒸留残渣か
ら容易に得ることができる。
【0017】かかるオルガノアルコキシジシランの置換
基 Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、シクロヘキシル基などの脂
肪族炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基な
どのアリール基;フェネチル基などのアラルキル基;ビ
ニル基、アリル基、ブテニル基などの脂肪族不飽和炭化
水素基などがあげられる。これらのうちでは原料の入手
し易さの点から言えばメチル基が好ましい。アルコキシ
基 R1Oとしては、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基、ヘキシル基などがあげられるが、
反応性や収量、生成ポリシランの分子量の点からいって
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が最も好ましい
。
基 Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、シクロヘキシル基などの脂
肪族炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基な
どのアリール基;フェネチル基などのアラルキル基;ビ
ニル基、アリル基、ブテニル基などの脂肪族不飽和炭化
水素基などがあげられる。これらのうちでは原料の入手
し易さの点から言えばメチル基が好ましい。アルコキシ
基 R1Oとしては、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基、ヘキシル基などがあげられるが、
反応性や収量、生成ポリシランの分子量の点からいって
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が最も好ましい
。
【0018】このようなオルガノアルコキシジシランと
しては、1,1,2−トリメトキシ−1,2,2−トリ
メチルジシラン、1,1,2−トリエトキシ−1,2,
2−トリメチルジシラン、1,1,2−トリプロポキシ
−1,2,2−トリメチルジシラン、1,1,2−トリ
メトキシ−1,2,2−トリエチルジシランなどのオル
ガノトリアルコキシジシラン類、1,1,2,2−テト
ラメトキシ−1,2−ジメチルジシラン、1,1,2,
2−テトラメトキシ−1,2−ジエチルジシランなどの
オルガノテトラアルコキシジシラン類が例示される。こ
れらオルガノトリおよび/またはテトラアルコキシジシ
ラン類は単独で用いても、また2種類以上を混合して用
いても良い。
しては、1,1,2−トリメトキシ−1,2,2−トリ
メチルジシラン、1,1,2−トリエトキシ−1,2,
2−トリメチルジシラン、1,1,2−トリプロポキシ
−1,2,2−トリメチルジシラン、1,1,2−トリ
メトキシ−1,2,2−トリエチルジシランなどのオル
ガノトリアルコキシジシラン類、1,1,2,2−テト
ラメトキシ−1,2−ジメチルジシラン、1,1,2,
2−テトラメトキシ−1,2−ジエチルジシランなどの
オルガノテトラアルコキシジシラン類が例示される。こ
れらオルガノトリおよび/またはテトラアルコキシジシ
ラン類は単独で用いても、また2種類以上を混合して用
いても良い。
【0019】また、オルガノジアルコキシジシラン類や
、オルガノモノアルコキシジシラン類を任意に混合して
用いても良い。このようなオルガノジアルコキシジシラ
ンとしては、1,1−ジメトキシ−1,2,2,2−テ
トラメチルジシラン、1,2−ジメトキシ−1,1,2
,2−テトラメチルジシランやこれらのエトキシ置換体
などが例示され、オルガノモノアルコキシシランとして
は、1−メトキシ−1,1,2,2,2−ペンタメチル
ジシランや1−エトキシ−1,1,2,2,2−ペンタ
メチルジシランなどが例示される。
、オルガノモノアルコキシジシラン類を任意に混合して
用いても良い。このようなオルガノジアルコキシジシラ
ンとしては、1,1−ジメトキシ−1,2,2,2−テ
トラメチルジシラン、1,2−ジメトキシ−1,1,2
,2−テトラメチルジシランやこれらのエトキシ置換体
などが例示され、オルガノモノアルコキシシランとして
は、1−メトキシ−1,1,2,2,2−ペンタメチル
ジシランや1−エトキシ−1,1,2,2,2−ペンタ
メチルジシランなどが例示される。
【0020】R2OMで表されるアルカリ金属化合物は
、オルガノアルコキシジシランが不均化し、ポリシラン
とアルコキシシランとなる反応を促進する触媒として働
く。 ここで R2O基としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基などがあげられるが、反応生成物にアルコ
キシスクランプルを起こさないという点からはオルガノ
アルコキシジシランの R1O基と同一であることが好
ましい。
、オルガノアルコキシジシランが不均化し、ポリシラン
とアルコキシシランとなる反応を促進する触媒として働
く。 ここで R2O基としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基などがあげられるが、反応生成物にアルコ
キシスクランプルを起こさないという点からはオルガノ
アルコキシジシランの R1O基と同一であることが好
ましい。
【0021】本製造方法においては上述のオルガノアル
コキシジシランに適当量のR2OMを添加し、常温で、
もしくは加熱下に攪拌することによってオルガノポリシ
ランが得られる。R2OMの添加量としてはオルガノア
ルコキシジシランに対し2〜15重量%が好ましい。添
加量が少なすぎると反応が遅く、多すぎると生成したオ
ルガノポリシランのクラッキングが起きやすくなる。
コキシジシランに適当量のR2OMを添加し、常温で、
もしくは加熱下に攪拌することによってオルガノポリシ
ランが得られる。R2OMの添加量としてはオルガノア
ルコキシジシランに対し2〜15重量%が好ましい。添
加量が少なすぎると反応が遅く、多すぎると生成したオ
ルガノポリシランのクラッキングが起きやすくなる。
【0022】本反応はニートの状態で行っても良いし、
また、溶媒の存在下に反応を行わせても良い。これに用
いられる溶媒としては非プロトン性のものなら用いるこ
とができるが、極性を持ったものの方が好ましい。かか
る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジ−n−ブチル
エーテル、ジメトキシエタンなどが例示される。プロト
ン性極性溶媒はケイ素−ケイ素結合の切断を引き起こす
ため好ましくない。
また、溶媒の存在下に反応を行わせても良い。これに用
いられる溶媒としては非プロトン性のものなら用いるこ
とができるが、極性を持ったものの方が好ましい。かか
る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジ−n−ブチル
エーテル、ジメトキシエタンなどが例示される。プロト
ン性極性溶媒はケイ素−ケイ素結合の切断を引き起こす
ため好ましくない。
【0023】本反応の終了後、濾過などにより触媒のR
2OMを除去した後、ストリップ等で副生するアルコキ
シシランや溶媒を除去することにより分岐状ポリシラン
を得ることができる。
2OMを除去した後、ストリップ等で副生するアルコキ
シシランや溶媒を除去することにより分岐状ポリシラン
を得ることができる。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、オルガノクロロシラン
の直接合成蒸留残渣からたやすく得られる原料を用いて
、化学量論量のアルカリ金属を用いることなく、高分子
量のアルコキシ基含有オルガノポリシランが簡便に得ら
れる。本発明により得られた分岐状ポリシランはそのま
まで、もしくはさらに高分子量化させて前述の如きセラ
ミックプレカーサーや光関連材料等の種々の用途に用い
ることができる。
の直接合成蒸留残渣からたやすく得られる原料を用いて
、化学量論量のアルカリ金属を用いることなく、高分子
量のアルコキシ基含有オルガノポリシランが簡便に得ら
れる。本発明により得られた分岐状ポリシランはそのま
まで、もしくはさらに高分子量化させて前述の如きセラ
ミックプレカーサーや光関連材料等の種々の用途に用い
ることができる。
【0025】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、これらは単
に例示であり、これらによって本発明は何らの制限を受
けるものではない。以下に示す粘度は25℃における粘
度であり、部は重量部を示す。
に例示であり、これらによって本発明は何らの制限を受
けるものではない。以下に示す粘度は25℃における粘
度であり、部は重量部を示す。
【0026】実施例1
テトラヒドロフラン 200部にナトリウムエトキシド
4部を分散させた中に、1,1,2−トリエトキシ−1
,2,2−トリメチルジシラン50部を室温で10分間
かけて加えた。室温で24時間攪拌した後、反応混合物
を濾過しナトリウムエトキシドを除去した後、テトラヒ
ドロフランと低沸点物を留去し、14部の高粘度液状の
ポリシランを得た。NMRよりこのポリシランはまだエ
トキシ基を含んでいることが分かった。メチル基とエト
キシ基のモル比は約3:1であった。GPCによるポリ
スチレン換算分子量は約 810であった。
4部を分散させた中に、1,1,2−トリエトキシ−1
,2,2−トリメチルジシラン50部を室温で10分間
かけて加えた。室温で24時間攪拌した後、反応混合物
を濾過しナトリウムエトキシドを除去した後、テトラヒ
ドロフランと低沸点物を留去し、14部の高粘度液状の
ポリシランを得た。NMRよりこのポリシランはまだエ
トキシ基を含んでいることが分かった。メチル基とエト
キシ基のモル比は約3:1であった。GPCによるポリ
スチレン換算分子量は約 810であった。
【0027】また、低沸点物は不均化副生物であるメチ
ルトリエトキシシランとジメチルジエトキシシランを含
んでいることが、GLCにより確認された。
ルトリエトキシシランとジメチルジエトキシシランを含
んでいることが、GLCにより確認された。
【0028】実施例2〜7、比較例1表1に示す出発原
料および触媒を用いて実施例1と同様の反応操作を行い
、相当するポリシランを得た。結果を表1に示す。 尚、表中、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはプ
ロピル基を表す。
料および触媒を用いて実施例1と同様の反応操作を行い
、相当するポリシランを得た。結果を表1に示す。 尚、表中、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはプ
ロピル基を表す。
【0029】
【表1】
【0030】*1:生成物はドデカメチルシクロヘキサ
シラン 実施例8〜11、比較例2 テトラヒドロフランの代わりに表2に示す溶媒を用いて
実施例1と同様の反応操作を行い、ポリシランを得た。 結果を表2に示す。
シラン 実施例8〜11、比較例2 テトラヒドロフランの代わりに表2に示す溶媒を用いて
実施例1と同様の反応操作を行い、ポリシランを得た。 結果を表2に示す。
【0031】
【表2】
【0032】*2:原料ジシラン分解
実施例12
テトラヒドロフラン 200部にカリウムt−ブトキシ
ド2部を分散させた中に、1,1,2−トリメトキシ−
1,2,2−トリメチルジシラン50部を室温で10分
間かけて加えた。70℃で10時間攪拌し、冷却後反応
混合物を濾過しカリウムt−ブトキシドを除去した後、
テトラヒドロフランと低沸点物を留去し、20部の高粘
度液状のポリシランを得た。GPCによるポリスチレン
換算分子量は約1300、メチル基とメトキシ基のモル
比は約5:1であった。
ド2部を分散させた中に、1,1,2−トリメトキシ−
1,2,2−トリメチルジシラン50部を室温で10分
間かけて加えた。70℃で10時間攪拌し、冷却後反応
混合物を濾過しカリウムt−ブトキシドを除去した後、
テトラヒドロフランと低沸点物を留去し、20部の高粘
度液状のポリシランを得た。GPCによるポリスチレン
換算分子量は約1300、メチル基とメトキシ基のモル
比は約5:1であった。
【0033】実施例13
テトラヒドロフラン 200部にナトリウムメトキシド
5部を分散させた中に、1,1,2−トリエトキシ−1
,2,2−トリメチルジシラン50部と1,2−ジエト
キシ−1,1,2,2−テトラメチルジシラン5部の混
合物を室温で10分間かけて加えた。室温で24時間攪
拌した後、反応混合物を濾過しナトリウムメトキシドを
除去した後、テトラヒドロフランと低沸点物を留去し、
20部の高粘度液状のポリシランを得た。GPCによる
ポリスチレン換算分子量は約1300、メチル基とメト
キシ基のモル比は約 3.8:1であった。。
5部を分散させた中に、1,1,2−トリエトキシ−1
,2,2−トリメチルジシラン50部と1,2−ジエト
キシ−1,1,2,2−テトラメチルジシラン5部の混
合物を室温で10分間かけて加えた。室温で24時間攪
拌した後、反応混合物を濾過しナトリウムメトキシドを
除去した後、テトラヒドロフランと低沸点物を留去し、
20部の高粘度液状のポリシランを得た。GPCによる
ポリスチレン換算分子量は約1300、メチル基とメト
キシ基のモル比は約 3.8:1であった。。
Claims (6)
- 【請求項1】 【化1】 (式中、 Rは炭素原子数1〜10の炭化水素基、R1
は炭素原子数1〜10のアルキル基、aは1,2または
3の数、bは0,1,2または3の数をそれぞれ表し、
a+bは1,2または3である)で表される構成単位か
らなり、平均組成においてa/b比が1以上であり、か
つ一分子中のケイ素原子数が少なくとも8であることを
特徴とするアルコキシ基含有オルガノポリシラン。 - 【請求項2】R がメチル基である請求項1記載のアル
コキシ基含有オルガノポリシラン。 - 【請求項3】R1がメチル基、エチル基またはプロピル
基である請求項1記載のアルコキシ基含有オルガノポリ
シラン。 - 【請求項4】 一般式 R3−n(R1O)nSiSi(OR1
)2R (II)(式中、 Rは炭素
原子数1〜10の炭化水素基、R1は炭素原子数1〜1
0のアルキル基、nは1または2の数を表す)で表され
るオルガノトリアルコキシジシランおよび/またはオル
ガノテトラアルコキシジシランの少なくとも1種を含む
オルガノアルコキシジシランを一般式 R2OM
(III)(式中、R2は炭素原子数1〜10の
炭化水素基、 Mはアルカリ金属類から選ばれる金属を
表す)で表されるアルカリ金属化合物の存在下に不均化
反応させることを特徴とするアルコキシ基含有オルガノ
ポリシランの製造方法。 - 【請求項5】R1とR2とが同一のアルキル基である請
求項4記載のアルコキシ基含有オルガノポリシランの製
造方法。 - 【請求項6】反応溶媒として非プロトン性極性溶媒を用
いる請求項4記載のアルコキシ基含有オルガノポリシラ
ンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07633991A JP3184549B2 (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | アルコキシ基含有オルガノポリシランおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07633991A JP3184549B2 (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | アルコキシ基含有オルガノポリシランおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04311727A true JPH04311727A (ja) | 1992-11-04 |
JP3184549B2 JP3184549B2 (ja) | 2001-07-09 |
Family
ID=13602605
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP07633991A Expired - Fee Related JP3184549B2 (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | アルコキシ基含有オルガノポリシランおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3184549B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06228318A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | メチル基含有ポリシランの製造方法 |
JPH0748515A (ja) * | 1993-08-04 | 1995-02-21 | Toshiba Silicone Co Ltd | 硬化性ポリシラン組成物 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102578905B1 (ko) * | 2021-11-30 | 2023-09-21 | 양정미 | 네일아트 기기 |
-
1991
- 1991-04-09 JP JP07633991A patent/JP3184549B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06228318A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | メチル基含有ポリシランの製造方法 |
JPH0748515A (ja) * | 1993-08-04 | 1995-02-21 | Toshiba Silicone Co Ltd | 硬化性ポリシラン組成物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3184549B2 (ja) | 2001-07-09 |
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