JPH0532785A - ポリシラン類の製造方法 - Google Patents
ポリシラン類の製造方法Info
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- JPH0532785A JPH0532785A JP3259748A JP25974891A JPH0532785A JP H0532785 A JPH0532785 A JP H0532785A JP 3259748 A JP3259748 A JP 3259748A JP 25974891 A JP25974891 A JP 25974891A JP H0532785 A JPH0532785 A JP H0532785A
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- lanthanoid
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
Abstract
(57)【要約】
【目的】ヒドロシラン類を原料とし、高活性、高選択性
の優れたポリシラン合成触媒系としてランタノイド化合
物を用いるポリシラン類の製造方法を提供する。 【構成】ランタノイド錯体存在下、ヒドロシラン類を反
応させて、ポリシラン類を製造する。
の優れたポリシラン合成触媒系としてランタノイド化合
物を用いるポリシラン類の製造方法を提供する。 【構成】ランタノイド錯体存在下、ヒドロシラン類を反
応させて、ポリシラン類を製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポリシラン類の製造法に
関するものである。ポリシラン類は、シリコンカーバイ
ド原料、フォトレジスト材料、導電性材料、サーモクロ
ミック材料、非線形光学材料等として、その用途の拡大
が期待されている有用な化合物である。
関するものである。ポリシラン類は、シリコンカーバイ
ド原料、フォトレジスト材料、導電性材料、サーモクロ
ミック材料、非線形光学材料等として、その用途の拡大
が期待されている有用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】従来、ポリシラン類は複数の塩素原子を
有するシリコン化合物を原料として、アルカリ金属存在
下、Wurtz 型の縮合反応を行わせることによって合成さ
れている。ところが、このようなポリシラン合成法は、
反応が激しく制御が困難である上に、発火の危険が高く
取扱が困難なアルカリ金属をシラン化合物モノマーの2
倍モル以上の多量に用いる必要がある。しかも生成する
ポリシランに微量の塩素が残存し、導電性を低下させる
等の問題点があった。
有するシリコン化合物を原料として、アルカリ金属存在
下、Wurtz 型の縮合反応を行わせることによって合成さ
れている。ところが、このようなポリシラン合成法は、
反応が激しく制御が困難である上に、発火の危険が高く
取扱が困難なアルカリ金属をシラン化合物モノマーの2
倍モル以上の多量に用いる必要がある。しかも生成する
ポリシランに微量の塩素が残存し、導電性を低下させる
等の問題点があった。
【0003】これに対し、最近、ロジウム、イリジウ
ム、ルテニウム、パラジウム、白金、コバルト、ニッケ
ル、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の遷移金属錯
体の存在下、ヒドロシランを脱水素縮合させることによ
って、ポリシラン類を合成する方法が提案されている
(例えば特開平1−198631;Chemistry Letters
誌1989年,83 頁;ACS Symposium Series 360巻、 89
頁,1988年 アメリカ化学会発行)。しかし、未
だ、触媒活性が低い、副生物が多い等種々の問題点があ
り、工業的に満足すべき製造法とはいえない。一方、近
年、遷移金属錯体触媒に代えてランタノイド金属の錯体
を触媒反応に利用しようとする試みが活発になりつつあ
るが、触媒活性が報告されているのは、水素化、エチレ
ン重合などごく少数の反応に限られている。
ム、ルテニウム、パラジウム、白金、コバルト、ニッケ
ル、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の遷移金属錯
体の存在下、ヒドロシランを脱水素縮合させることによ
って、ポリシラン類を合成する方法が提案されている
(例えば特開平1−198631;Chemistry Letters
誌1989年,83 頁;ACS Symposium Series 360巻、 89
頁,1988年 アメリカ化学会発行)。しかし、未
だ、触媒活性が低い、副生物が多い等種々の問題点があ
り、工業的に満足すべき製造法とはいえない。一方、近
年、遷移金属錯体触媒に代えてランタノイド金属の錯体
を触媒反応に利用しようとする試みが活発になりつつあ
るが、触媒活性が報告されているのは、水素化、エチレ
ン重合などごく少数の反応に限られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、このような事情に鑑みヒドロシラン類を原料とす
る高活性、高選択性の優れたポリシラン合成触媒系を開
発することにある。さらに本発明の目的は、ランタノイ
ド化合物を用いるポリシラン類の製造方法を提供するこ
とにある。
的は、このような事情に鑑みヒドロシラン類を原料とす
る高活性、高選択性の優れたポリシラン合成触媒系を開
発することにある。さらに本発明の目的は、ランタノイ
ド化合物を用いるポリシラン類の製造方法を提供するこ
とにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題はラン
タノイド錯体を触媒としてヒドロシラン類を脱水素縮合
することを特徴とするポリシラン類の製造方法により達
成された。
タノイド錯体を触媒としてヒドロシラン類を脱水素縮合
することを特徴とするポリシラン類の製造方法により達
成された。
【0006】本発明で触媒として用いられるランタノイ
ド錯体の中心金属としてはランタノイド元素(ランタ
ン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウ
ム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビ
ウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリ
ウム、イッテルビウム、ルテチウム)のうちから選ばれ
る任意のものを用いることができ、好ましくはランタ
ン、ネオジム、サマリウム、イッテルビウム、ルテチウ
ムである。
ド錯体の中心金属としてはランタノイド元素(ランタ
ン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウ
ム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビ
ウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリ
ウム、イッテルビウム、ルテチウム)のうちから選ばれ
る任意のものを用いることができ、好ましくはランタ
ン、ネオジム、サマリウム、イッテルビウム、ルテチウ
ムである。
【0007】本発明で触媒として用いられるランタノイ
ド錯体の配位子としては、ハロゲン、水素、アルキル、
アラルキル、アリール、アルキルシリル、アリールシリ
ル、オレフィン、ジエン、トリエン、テトラエン、シク
ロジエン、シクロトリエン、シクロテトラエン、アリ
ル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリ
ールチオ、シクロペンタジエニル、アルキルアミン、ア
リールアミン、ピリジル、アルキルホスフィン、アリー
ルホスフィン、アルキルアリールホスフィン、アルキル
イソシアニド、アリールイソシアニド、エーテル等を用
いることができる。これらの配位子は、さらに置換基を
有しているものも包含する。特に好ましい配位子として
は水素、アルキル(好ましくは炭素原子数1〜10のア
ルキル基、例えばメチル、トリメチルシリルメチル、ビ
ス(トリメチルシリル)メチル、エチル、i−プロピ
ル、t−ブチル、ネオペンチル、ヘキシル)ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル、テトラヒドロフラン等を挙げ
ることができる。本発明においてランタノイド錯体は好
ましくは有機ランタノイド錯体である。
ド錯体の配位子としては、ハロゲン、水素、アルキル、
アラルキル、アリール、アルキルシリル、アリールシリ
ル、オレフィン、ジエン、トリエン、テトラエン、シク
ロジエン、シクロトリエン、シクロテトラエン、アリ
ル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリ
ールチオ、シクロペンタジエニル、アルキルアミン、ア
リールアミン、ピリジル、アルキルホスフィン、アリー
ルホスフィン、アルキルアリールホスフィン、アルキル
イソシアニド、アリールイソシアニド、エーテル等を用
いることができる。これらの配位子は、さらに置換基を
有しているものも包含する。特に好ましい配位子として
は水素、アルキル(好ましくは炭素原子数1〜10のア
ルキル基、例えばメチル、トリメチルシリルメチル、ビ
ス(トリメチルシリル)メチル、エチル、i−プロピ
ル、t−ブチル、ネオペンチル、ヘキシル)ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル、テトラヒドロフラン等を挙げ
ることができる。本発明においてランタノイド錯体は好
ましくは有機ランタノイド錯体である。
【0008】本発明で触媒として用いられる金属錯体の
構造としては下記一般式(I)または(II)で表されるも
のが特に好ましいが、これらに限定されるものではな
い。 Cp* 2LnR (I) Cp* 2Ln' (II)
構造としては下記一般式(I)または(II)で表されるも
のが特に好ましいが、これらに限定されるものではな
い。 Cp* 2LnR (I) Cp* 2Ln' (II)
【0009】(なお式中、Cp* はシクロペンタジエニ
ル基またはその置換体、Lnは任意のランタノイド金
属、Ln' はサマリウム、ユーロピウム、イッテルビウ
ムのうちのいずれか、Rは水素、1価の有機基または1
価のシリル基を表わす。)
ル基またはその置換体、Lnは任意のランタノイド金
属、Ln' はサマリウム、ユーロピウム、イッテルビウ
ムのうちのいずれか、Rは水素、1価の有機基または1
価のシリル基を表わす。)
【0010】上記一般式(I)においてRで表わされる
1価の有機基のうち、好ましい基としてはメチル、トリ
メチルシリルメチル、ビス(トリメチルシリル)メチ
ル、ネオペンチル、フェニル、ベンジルなどが挙げられ
る。
1価の有機基のうち、好ましい基としてはメチル、トリ
メチルシリルメチル、ビス(トリメチルシリル)メチ
ル、ネオペンチル、フェニル、ベンジルなどが挙げられ
る。
【0011】本発明で用いられるヒドロシラン類は、下
記一般式 (III),(IV)または(V) R1 R2 SiH2 (III) HR1 R2 Si−(A)n −SiR3 R4 H (IV) H2 R1 Si−B−SiR2 H2 (V) (式中、R1 、R2 、R3 、R4 は、水素、ハロゲンま
たは炭化水素基であり、互いに同じであっても異なって
いてもよい。Aは置換または未置換のシリレン基、nは
0または正の整数である。Bは2価の有機基である。)
で表わされる。
記一般式 (III),(IV)または(V) R1 R2 SiH2 (III) HR1 R2 Si−(A)n −SiR3 R4 H (IV) H2 R1 Si−B−SiR2 H2 (V) (式中、R1 、R2 、R3 、R4 は、水素、ハロゲンま
たは炭化水素基であり、互いに同じであっても異なって
いてもよい。Aは置換または未置換のシリレン基、nは
0または正の整数である。Bは2価の有機基である。)
で表わされる。
【0012】一般式 (III),(IV)または(V)について
より詳しく説明すると、式中、R1、R2 、R3 、R4
で表されるハロゲンの具体例としてはF、Cl、Br、
炭化水素基としては炭素数1〜10のアルキル基、例え
ばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、
t−ブチル、ヘキシル、炭素数6〜15のアリール基、
例えばフェニル、1−ナフチル、P−トリル、その他ベ
ンジルなどが表わされる。また、式中、Aで表わされる
置換シリレン基としては、SiMe2、SiHMe、S
iHPhが挙げられ、式中、Bで表わされる2価の有機
基としてはp−フェニレン、m−フェニレン、o−フェ
ニレン、メチレン、エチレン、トリメチレンなどが挙げ
られる。
より詳しく説明すると、式中、R1、R2 、R3 、R4
で表されるハロゲンの具体例としてはF、Cl、Br、
炭化水素基としては炭素数1〜10のアルキル基、例え
ばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、
t−ブチル、ヘキシル、炭素数6〜15のアリール基、
例えばフェニル、1−ナフチル、P−トリル、その他ベ
ンジルなどが表わされる。また、式中、Aで表わされる
置換シリレン基としては、SiMe2、SiHMe、S
iHPhが挙げられ、式中、Bで表わされる2価の有機
基としてはp−フェニレン、m−フェニレン、o−フェ
ニレン、メチレン、エチレン、トリメチレンなどが挙げ
られる。
【0013】このようなヒドロシラン類として、具体的
にはテトラヒドロシラン、メチルシラン、エチルシラ
ン、n−ヘキシルシラン、フェニルシラン、ジメチルシ
ラン、ジエチルシラン、ジフェニルシラン、ヘキサヒド
ロジシラン、1,2−ジフェニルジシラン、1,2−ジ
メチルジシラン、1,4−ビス(シリル)ベンゼン等を
挙げることができ、好ましくはテトラヒドロシラン、メ
チルシラン、n−ヘキシルシラン、フェニルシラン、ヘ
キサヒドロジシラン、1,4−ビス(シリル)ベンゼン
である。上記のようなランタノイド錯体を触媒とするポ
リシラン合成反応は以下のような反応条件下に行うこと
が望ましい。
にはテトラヒドロシラン、メチルシラン、エチルシラ
ン、n−ヘキシルシラン、フェニルシラン、ジメチルシ
ラン、ジエチルシラン、ジフェニルシラン、ヘキサヒド
ロジシラン、1,2−ジフェニルジシラン、1,2−ジ
メチルジシラン、1,4−ビス(シリル)ベンゼン等を
挙げることができ、好ましくはテトラヒドロシラン、メ
チルシラン、n−ヘキシルシラン、フェニルシラン、ヘ
キサヒドロジシラン、1,4−ビス(シリル)ベンゼン
である。上記のようなランタノイド錯体を触媒とするポ
リシラン合成反応は以下のような反応条件下に行うこと
が望ましい。
【0014】反応温度は通常−50℃から300℃、好
ましくは20℃から200℃、より好ましくは20℃か
ら160℃である。
ましくは20℃から200℃、より好ましくは20℃か
ら160℃である。
【0015】反応圧力は例えば、液体のヒドロシランで
は常圧、気体のヒドロシランでは1気圧〜100気圧の
範囲であり、反応時間は1時間〜数十日、通常数時間〜
数日の範囲で適宜に設定される。
は常圧、気体のヒドロシランでは1気圧〜100気圧の
範囲であり、反応時間は1時間〜数十日、通常数時間〜
数日の範囲で適宜に設定される。
【0016】反応に際しては、溶媒は必ずしも必要では
ないが、トルエン、ベンゼン等の芳香族化合物、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、ペンタン、ヘキサン、デカン等の脂肪族炭化水
素等を溶媒として用いることができる。
ないが、トルエン、ベンゼン等の芳香族化合物、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類、ペンタン、ヘキサン、デカン等の脂肪族炭化水
素等を溶媒として用いることができる。
【0017】触媒としての前記金属錯体は、ヒドロシラ
ン1モルに対して0.0001から0.5モル、好まし
くは0.001から0.05モル程度の量用いられる。
ン1モルに対して0.0001から0.5モル、好まし
くは0.001から0.05モル程度の量用いられる。
【0018】生成物の分離は、反応液から低沸点化合物
を減圧下に除去した後、再沈やゲル濾過などによって容
易に実施される。
を減圧下に除去した後、再沈やゲル濾過などによって容
易に実施される。
【0019】本発明方法で得られるポリシラン類は下記
一般式(A)および/または(B)で表わされる構造を
基本骨格として含む。
一般式(A)および/または(B)で表わされる構造を
基本骨格として含む。
【0020】
【化1】
【0021】(式中、R1 〜R4 は水素、ハロゲン、ま
たは炭化水素基であり、互いに同じであっても異なって
いてもよい。nは2以上の整数であり、上限は特に制限
はないが好ましく2≦n≦100,000である。)
たは炭化水素基であり、互いに同じであっても異なって
いてもよい。nは2以上の整数であり、上限は特に制限
はないが好ましく2≦n≦100,000である。)
【0022】ポリシランは高分子量である程好ましい。
高分子のものの生成には、より高温で、より長時間反応
することが有効である。
高分子のものの生成には、より高温で、より長時間反応
することが有効である。
【0023】またポリシランが上記直鎖型(A)と環状
型(B)の混合物で得られるときも特に両者を分離する
ことなく種々の用途に使用することができる。
型(B)の混合物で得られるときも特に両者を分離する
ことなく種々の用途に使用することができる。
【0024】
【発明の効果】本発明のポリシラン合成反応では、アル
カリ金属を用いることなく、ランタノイド錯体を触媒と
して室温付近の温和な条件下、ヒドロシランから高収率
でポリシラン類を得ることができ、その工業的意義は多
大である。
カリ金属を用いることなく、ランタノイド錯体を触媒と
して室温付近の温和な条件下、ヒドロシランから高収率
でポリシラン類を得ることができ、その工業的意義は多
大である。
【0025】
【実施例】次に本発明を実施例によってさらに具体的に
説明する。
説明する。
【0026】実施例1
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(ビス(ト
リメチルシリル)メチル)ネオジム(0.026mmol)
のフェニルシラン(1.0ml、8.04mmol)溶液を窒
素雰囲気下、80℃で2日攪拌した。未反応のフェニル
シラン及び低沸点生成物を減圧下に除去し(30℃、5
mmHg)、非常に粘性の高いポリシランである油状物(8
20mg)を得た。得られたポリシランの物性値を以下に
示す。 IR(neat) 2104cm-1(νsi-H) 916cm-1(δsi-H)
リメチルシリル)メチル)ネオジム(0.026mmol)
のフェニルシラン(1.0ml、8.04mmol)溶液を窒
素雰囲気下、80℃で2日攪拌した。未反応のフェニル
シラン及び低沸点生成物を減圧下に除去し(30℃、5
mmHg)、非常に粘性の高いポリシランである油状物(8
20mg)を得た。得られたポリシランの物性値を以下に
示す。 IR(neat) 2104cm-1(νsi-H) 916cm-1(δsi-H)
【0027】δsi-Hとνsi-HのAbsorbance比0.51 1
H−NMR(CDCl3 )δ 6.5-8.0(br,m,Ph ),3.8-5.
3 (br,m,SiH ).PhとSiHの積分比約5。FAB-MS
(マトリックス、メタニトロベンジルアルコ−ル)。親
イオンは見えず、質量数1000以上の領域から強度の
漸減する多数のフラグメントピークが認められた。代表
的ピークを以下に示す。m/e(relative intensity) 478
(Ph4Si6H,8) , 449(Ph4Si5H,18) ,421 (Ph4Si4H,1
5), 373 (Ph3Si5H2,20),343 (Ph3Si4,27) ,315(Ph3S
i3,20) ,287 (Ph3Si2,20) ,266 (Ph2Si4,18),259
(Ph3Si,100) 。平均分子量(GPC)600
H−NMR(CDCl3 )δ 6.5-8.0(br,m,Ph ),3.8-5.
3 (br,m,SiH ).PhとSiHの積分比約5。FAB-MS
(マトリックス、メタニトロベンジルアルコ−ル)。親
イオンは見えず、質量数1000以上の領域から強度の
漸減する多数のフラグメントピークが認められた。代表
的ピークを以下に示す。m/e(relative intensity) 478
(Ph4Si6H,8) , 449(Ph4Si5H,18) ,421 (Ph4Si4H,1
5), 373 (Ph3Si5H2,20),343 (Ph3Si4,27) ,315(Ph3S
i3,20) ,287 (Ph3Si2,20) ,266 (Ph2Si4,18),259
(Ph3Si,100) 。平均分子量(GPC)600
【0028】実施例2
ヒドロビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ネオ
ジム(0.01mmol)とフェニルシラン(1.0mmol)
を窒素雰囲気下、室温で混合すると水素の気泡が激しく
発生した。そのまま1日攪拌を続けた後、未反応のフェ
ニルシラン及び低沸点生成物を減圧下に除去することに
より(30℃、5mmHg)、実施例1と同様の物性を示す
ポリマーを得た。
ジム(0.01mmol)とフェニルシラン(1.0mmol)
を窒素雰囲気下、室温で混合すると水素の気泡が激しく
発生した。そのまま1日攪拌を続けた後、未反応のフェ
ニルシラン及び低沸点生成物を減圧下に除去することに
より(30℃、5mmHg)、実施例1と同様の物性を示す
ポリマーを得た。
【0029】実施例3〜7
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(ビス(ト
リメチルシリル)メチル)ネオジム(0.01mmol)と
フェニルシラン(1.0ml, 8.04mmol)を窒素雰囲
気下、表1の条件でかき混ぜながら反応させ、表1のポ
リシランを定量的に得た。
リメチルシリル)メチル)ネオジム(0.01mmol)と
フェニルシラン(1.0ml, 8.04mmol)を窒素雰囲
気下、表1の条件でかき混ぜながら反応させ、表1のポ
リシランを定量的に得た。
【0030】
表1
実施例 条件 生成物 Mw Mw/Mn
3 室温、15日 oil 520 1.26
4 80℃、2日 gum 780 1.37
5 100℃、2日 gum 990 1.54
6 130℃、2日 solid 1600 1.91
7 130 ℃ 2日その後160 ℃ 7日 solid 4830 3.09
実施例8〜9
実施例3においてフェニルシランに代えてヘキシルシラ
ン(1ml、 6.18mmol) を用いて表2の条件で反応さ
せ、ポリシランを定量的に得た。FD−MSは、2〜5
量体は鎖状、6量体以上は環状であることを示した。
ン(1ml、 6.18mmol) を用いて表2の条件で反応さ
せ、ポリシランを定量的に得た。FD−MSは、2〜5
量体は鎖状、6量体以上は環状であることを示した。
【0031】
表2
実施例 条件 生成物 Mw Mw/Mn
8 80℃、2日 oil 530 −
9 160℃、13日 oil 950 1.25
【0000】実施例10
ステンレス製オートクレーブ(37mlガラスインサート
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(3.15mg、0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を
入れ、テトラヒドロシラン2.0g (63mmol)を31
気圧圧入し、100℃の油浴で3.5日間反応させた。
溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.1mmH
g)、ポリシランの黄色粉末を194mg得た。 IR(nujol) 2104cm-1、897cm-1、855cm-1、
671cm-1
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(3.15mg、0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を
入れ、テトラヒドロシラン2.0g (63mmol)を31
気圧圧入し、100℃の油浴で3.5日間反応させた。
溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.1mmH
g)、ポリシランの黄色粉末を194mg得た。 IR(nujol) 2104cm-1、897cm-1、855cm-1、
671cm-1
【0032】実施例11
ステンレス製オートクレーブ(37mlガラスインサート
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、ヘキサ
ヒドロジシランを1.2g 圧入した。100℃で2日と
16時間反応させた。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去
し(室温、0.01mmHg)、ポリシラン、黄色粉末を6
93mg得た。 IR(nujol)、2108cm-1、897cm-1、857c
m-1、665cm-1
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、ヘキサ
ヒドロジシランを1.2g 圧入した。100℃で2日と
16時間反応させた。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去
し(室温、0.01mmHg)、ポリシラン、黄色粉末を6
93mg得た。 IR(nujol)、2108cm-1、897cm-1、857c
m-1、665cm-1
【0033】実施例12
ステンレス製オートクレーブ(37mlガラスインサート
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、メチル
シラン(1.0g )圧入した。100℃で2日反応させ
た。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.1
mmHg)、ポリシランンの黄色粉末を604mg得た。 IR(nujol )2080cm-1、1245cm-1、930cm
-1、
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、メチル
シラン(1.0g )圧入した。100℃で2日反応させ
た。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.1
mmHg)、ポリシランンの黄色粉末を604mg得た。 IR(nujol )2080cm-1、1245cm-1、930cm
-1、
【0034】実施例13
ステンレス製オートクレーブ(37mlガラスインサート
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、メチル
シラン(1.1g )圧入した。50℃で2日間反応させ
た。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.1
mmHg)、粘稠な油状物としてポリシラン267mg得た。 IR(neat)2116cm-1、1249cm-1、932c
m-1、 Mw 512 Mw/Mn 1.16
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、メチル
シラン(1.1g )圧入した。50℃で2日間反応させ
た。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.1
mmHg)、粘稠な油状物としてポリシラン267mg得た。 IR(neat)2116cm-1、1249cm-1、932c
m-1、 Mw 512 Mw/Mn 1.16
【0035】実施例14
ステンレス製オートクレーブ(37mlガラスインサート
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、メチル
シラン(0.9g )圧入した。室温で3.5日間反応さ
せた。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.
1mmHg)、ポリシランの粘稠な油状物を281mg得た。 IR(neat)2114cm-1、1249cm-1、932c
m-1、 Mw 541 Mw/Mn 1.28
付)に窒素雰囲気下、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジ
ム(0.05mmol)、ベンゼン(2ml)を入れ、メチル
シラン(0.9g )圧入した。室温で3.5日間反応さ
せた。溶媒及び低沸点物を減圧下に除去し(室温、0.
1mmHg)、ポリシランの粘稠な油状物を281mg得た。 IR(neat)2114cm-1、1249cm-1、932c
m-1、 Mw 541 Mw/Mn 1.28
【0036】実施例15
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(ビス(ト
リメチルシリル)メチル)ネオジム(0.01mmol)と
1,4−ビス(シリル)ベンゼン(3.32mmol)を窒
素雰囲気下で100℃2日間反応させた。不溶性のポリ
シランが定量的に得られた。 IR(nujol )2120cm-1、915cm-1、
リメチルシリル)メチル)ネオジム(0.01mmol)と
1,4−ビス(シリル)ベンゼン(3.32mmol)を窒
素雰囲気下で100℃2日間反応させた。不溶性のポリ
シランが定量的に得られた。 IR(nujol )2120cm-1、915cm-1、
Claims (2)
- 【請求項1】 ランタノイド錯体存在下、ヒドロシラン
類を反応させることを特徴とするポリシラン類の製造方
法。 - 【請求項2】 ランタノイド錯体が下記一般式(I)ま
たは(II)で表わされる錯体または、これらの会合体であ
る請求項1記載の方法。 Cp* 2LnR (I) Cp* 2Ln' (II) (式中、Cp* はシクロペンタジエニル基またはその置
換体を、Lnは任意のランタノイド金属を、Ln' はサ
マリウム、ユーロピウム、イッテルビウムのうちのいず
れか一つを、Rは水素、1価の有機基または1価のシリ
ル基を、表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3259748A JPH0717753B2 (ja) | 1990-09-14 | 1991-09-11 | ポリシラン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24512290 | 1990-09-14 | ||
JP2-245122 | 1990-09-14 | ||
JP3259748A JPH0717753B2 (ja) | 1990-09-14 | 1991-09-11 | ポリシラン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0532785A true JPH0532785A (ja) | 1993-02-09 |
JPH0717753B2 JPH0717753B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=26537053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3259748A Expired - Lifetime JPH0717753B2 (ja) | 1990-09-14 | 1991-09-11 | ポリシラン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0717753B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0630933A3 (en) * | 1993-06-15 | 1995-08-30 | Nippon Oil Co Ltd | Process for the preparation of a semiconductor material. |
US5700400A (en) * | 1993-06-15 | 1997-12-23 | Nippon Oil Co., Ltd. | Method for producing a semiconducting material |
US6027705A (en) * | 1998-01-08 | 2000-02-22 | Showa Denko K.K. | Method for producing a higher silane |
US6567504B1 (en) | 1994-06-20 | 2003-05-20 | Sigma Communications, Inc. | Automated calling system with database updating |
US6858196B2 (en) | 2001-07-19 | 2005-02-22 | Asm America, Inc. | Method and apparatus for chemical synthesis |
JP2009102224A (ja) * | 2003-06-13 | 2009-05-14 | Jsr Corp | シリコン膜形成のための方法と組成物 |
US7943721B2 (en) | 2005-10-05 | 2011-05-17 | Kovio, Inc. | Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions |
JP2014529560A (ja) * | 2011-07-29 | 2014-11-13 | コヴィオ インコーポレイテッド | N−ヘテロ環状カルベン類、n−ヘテロ環状カルベン配位子を有する金属錯体類、及びランタノイド化合物を用いてシラン及びシクロシランをポリマー化する方法、及び、これにより形成されるインク組成物、並びに半導体フィルムを形成する方法 |
KR20170035953A (ko) | 2014-08-20 | 2017-03-31 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 올리고실란의 제조 방법 |
KR20190004322A (ko) | 2016-06-10 | 2019-01-11 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 올리고실란의 제조 방법 |
KR20190041512A (ko) | 2016-09-23 | 2019-04-22 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 올리고실란의 제조 방법 |
KR20190052711A (ko) | 2016-10-27 | 2019-05-16 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 올리고실란의 제조 방법 및 올리고실란의 제조 장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2010005106A1 (ja) | 2008-07-11 | 2012-01-05 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 重合体の製造方法 |
-
1991
- 1991-09-11 JP JP3259748A patent/JPH0717753B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0630933A3 (en) * | 1993-06-15 | 1995-08-30 | Nippon Oil Co Ltd | Process for the preparation of a semiconductor material. |
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US8378050B2 (en) | 2005-10-05 | 2013-02-19 | Kovio, Inc. | Linear and cross-linked high molecular weight polysilanes, polygermanes, and copolymers thereof, compositions containing the same, and methods of making and using such compounds and compositions |
JP2014529560A (ja) * | 2011-07-29 | 2014-11-13 | コヴィオ インコーポレイテッド | N−ヘテロ環状カルベン類、n−ヘテロ環状カルベン配位子を有する金属錯体類、及びランタノイド化合物を用いてシラン及びシクロシランをポリマー化する方法、及び、これにより形成されるインク組成物、並びに半導体フィルムを形成する方法 |
KR20170035953A (ko) | 2014-08-20 | 2017-03-31 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 올리고실란의 제조 방법 |
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Publication number | Publication date |
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JPH0717753B2 (ja) | 1995-03-01 |
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