JP2685124B2 - ポリシランの製造法 - Google Patents
ポリシランの製造法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリシランの新規な製
造方法に関するものである。さらに詳しくいえば、本発
明は、シリコンカーバイド原料、ホトレジスト材料、導
電性材料、サーモクロミック材料、非線形光学材料、有
機合成原料などとして有用なポリシランを、安価で入手
及び取扱いの容易な触媒を用いて、有機ヒドロシランか
ら収率よく工業的有利に製造する方法に関するものであ
る。
造方法に関するものである。さらに詳しくいえば、本発
明は、シリコンカーバイド原料、ホトレジスト材料、導
電性材料、サーモクロミック材料、非線形光学材料、有
機合成原料などとして有用なポリシランを、安価で入手
及び取扱いの容易な触媒を用いて、有機ヒドロシランか
ら収率よく工業的有利に製造する方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ポリシランはケイ素−ケイ素結合を有す
る化合物の総称であって、例えばシリコンカーバイド原
料、ホトレジスト材料、導電性材料、サーモクロミック
材料、非線形光学材料、有機合成原料などとしての用途
が期待されている有用な化合物である［例えば、「ケミ
カル・レビュー（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ）」
第８９巻，第１３５９ページ（１９８９年）、「アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ・シンポジウム・シリーズ
（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔ
ｙ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ Ｓｅｒｉｅｓ）」第３６０
巻，第２０９ページ（１９８８年）、及び「アドバンセ
ス・イン・ケミストリー・シリーズ（Ａｄｖａｎｃｅｓ
ｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｓｅｒｉｅｓ）」第２２
４巻（１９９０年）参照］。
る化合物の総称であって、例えばシリコンカーバイド原
料、ホトレジスト材料、導電性材料、サーモクロミック
材料、非線形光学材料、有機合成原料などとしての用途
が期待されている有用な化合物である［例えば、「ケミ
カル・レビュー（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ）」
第８９巻，第１３５９ページ（１９８９年）、「アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ・シンポジウム・シリーズ
（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔ
ｙ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ Ｓｅｒｉｅｓ）」第３６０
巻，第２０９ページ（１９８８年）、及び「アドバンセ
ス・イン・ケミストリー・シリーズ（Ａｄｖａｎｃｅｓ
ｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｓｅｒｉｅｓ）」第２２
４巻（１９９０年）参照］。
【０００３】このポリシランは、従来複数の塩素原子を
有するケイ素化合物を原料とし、アルカリ金属の存在下
にウルツ（Ｗｕｒｔｚ）型の縮合反応を行わせることに
よって製造されていた。しかしながら、このような方法
においては、反応が激しく制御が困難である上、発火の
危険が高くて取扱いの困難なアルカリ金属を、ケイ素化
合物モノマーの２モル倍以上という多量に用いる必要が
あり、しかも生成するポリシランに微量の塩素やシロキ
サン結合が混入し、導電性などの物性を低下させるなど
の問題があった。
有するケイ素化合物を原料とし、アルカリ金属の存在下
にウルツ（Ｗｕｒｔｚ）型の縮合反応を行わせることに
よって製造されていた。しかしながら、このような方法
においては、反応が激しく制御が困難である上、発火の
危険が高くて取扱いの困難なアルカリ金属を、ケイ素化
合物モノマーの２モル倍以上という多量に用いる必要が
あり、しかも生成するポリシランに微量の塩素やシロキ
サン結合が混入し、導電性などの物性を低下させるなど
の問題があった。
【０００４】また、ジシランとビフェニルとのディール
スアルダー型付加物をアニオン重合させることによっ
て、ポリシランを製造する方法が提案されているが、こ
の方法は、原料の調製が煩雑かつ低収率であり、工業的
に有利な方法とはいえない。
スアルダー型付加物をアニオン重合させることによっ
て、ポリシランを製造する方法が提案されているが、こ
の方法は、原料の調製が煩雑かつ低収率であり、工業的
に有利な方法とはいえない。
【０００５】一方、最近、周期律表第ＩＩＩ、ＩＶ族の
金属元素を含む有機金属錯体存在下にヒドロシランを脱
水素縮合させることにより、ポリシランを製造する方法
が報告されている［「アカウンツ・オブ・ケミカル・リ
サーチ（Ａｃｃｏｕｎｔｓｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒ
ｅｓｅａｒｃｈ）」第２６巻，第２２ページ（１９９３
年）、及び「アメリカン・ケミカル・ソサエティ・シン
ポジウム・シリーズ（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ＳｙｍｐｏｓｉｕｍＳｅｒｉｅ
ｓ）」第３６０巻，第８９ページ（１９８８年）］。し
かしながら、この方法においては、触媒として高価なシ
クロペンタジエニル錯体を用いる必要がある上、この触
媒の調製には発火性で危険な有機リチウムを使用しなけ
ればならず、しかも空気中の微量の酸素や水分によって
容易に分解するため、厳密な不活性ガス雰囲気下で取扱
わなければならないなどの欠点がある。
金属元素を含む有機金属錯体存在下にヒドロシランを脱
水素縮合させることにより、ポリシランを製造する方法
が報告されている［「アカウンツ・オブ・ケミカル・リ
サーチ（Ａｃｃｏｕｎｔｓｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒ
ｅｓｅａｒｃｈ）」第２６巻，第２２ページ（１９９３
年）、及び「アメリカン・ケミカル・ソサエティ・シン
ポジウム・シリーズ（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ＳｙｍｐｏｓｉｕｍＳｅｒｉｅ
ｓ）」第３６０巻，第８９ページ（１９８８年）］。し
かしながら、この方法においては、触媒として高価なシ
クロペンタジエニル錯体を用いる必要がある上、この触
媒の調製には発火性で危険な有機リチウムを使用しなけ
ればならず、しかも空気中の微量の酸素や水分によって
容易に分解するため、厳密な不活性ガス雰囲気下で取扱
わなければならないなどの欠点がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、安価で入手及び取扱いの容易な触媒を用
い、有機ヒドロシランからポリシランを収率よく工業的
有利に製造する方法を提供することを目的としてなされ
たものである。
事情のもとで、安価で入手及び取扱いの容易な触媒を用
い、有機ヒドロシランからポリシランを収率よく工業的
有利に製造する方法を提供することを目的としてなされ
たものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、重合触媒とし
て、ある種の簡単に入手しうるチタン化合物を用いるこ
とにより、その目的を達成しうることを見出し、この知
見に基づいて本発明をなすに至った。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、重合触媒とし
て、ある種の簡単に入手しうるチタン化合物を用いるこ
とにより、その目的を達成しうることを見出し、この知
見に基づいて本発明をなすに至った。
【０００８】すなわち、本発明は、１分子中に、−Ｓｉ
Ｈ3基又は＞ＳｉＨ2基を少なくとも１個有する有機ヒド
ロシランを重合させてポリシランを製造するに当り、触
媒として、一般式 Ｒ1 nＴｉ（ＯＲ2）4-n （Ｉ） （式中のＲ1及びＲ2は、それぞれ一価の炭化水素基であ
り、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｎ
は０又は１〜３の整数である）で表わされるチタン化合
物を用いることを特徴とするポリシランの製造方法を提
供するものである。
Ｈ3基又は＞ＳｉＨ2基を少なくとも１個有する有機ヒド
ロシランを重合させてポリシランを製造するに当り、触
媒として、一般式 Ｒ1 nＴｉ（ＯＲ2）4-n （Ｉ） （式中のＲ1及びＲ2は、それぞれ一価の炭化水素基であ
り、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｎ
は０又は１〜３の整数である）で表わされるチタン化合
物を用いることを特徴とするポリシランの製造方法を提
供するものである。
【０００９】本発明方法においては、原料モノマーとし
て有機ヒドロシランが用いられる。この有機ヒドロシラ
ンは、１分子中に、−ＳｉＨ3基又は＞ＳｉＨ2基を少な
くとも１個有するものが用いられ、またこれらが結合す
る有機基としては、アルキル基、アリール基、アリール
アルキル基などが挙げられる。ここで、アルキル基は直
鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、また適当
な置換基、例えばハロゲン原子、アルコキシ基などで置
換されていてもよい。さらに、アリール基及びアリール
アルキル基には、芳香環に適当な置換基、例えばハロゲ
ン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、
ハロアルコキシ基、ジアルキルアミノ基などが導入され
ていてもよい。
て有機ヒドロシランが用いられる。この有機ヒドロシラ
ンは、１分子中に、−ＳｉＨ3基又は＞ＳｉＨ2基を少な
くとも１個有するものが用いられ、またこれらが結合す
る有機基としては、アルキル基、アリール基、アリール
アルキル基などが挙げられる。ここで、アルキル基は直
鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、また適当
な置換基、例えばハロゲン原子、アルコキシ基などで置
換されていてもよい。さらに、アリール基及びアリール
アルキル基には、芳香環に適当な置換基、例えばハロゲ
ン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、
ハロアルコキシ基、ジアルキルアミノ基などが導入され
ていてもよい。
【００１０】このような有機ヒドロシランとしては、−
ＳｉＨ3基を有するものとして、例えばフェニルシラ
ン、ｐ‐トリルシラン、ｐ‐ジメチルアミノフェニルシ
ラン、ｐ‐トリフルオロメチルフェニルシラン、ナフチ
ルシラン、メチルシラン、ヘキシルシラン、シクロヘキ
シルシラン、ベンジルシラン、１，４‐ビス（トリヒド
ロシリル）ベンゼン、１，３‐ビス（トリヒドロシリ
ル）ベンゼンなどが挙げられ、＞ＳｉＨ2基を有するも
のとして、例えばフェニルメチルシラン、ジフェニルシ
ラン、ジエチルシランなどが挙げられる。これらの中
で、特にフェニルシランなどのモノアリールシラン及び
ヘキシルシランなどのモノアルキルシランが好適であ
る。
ＳｉＨ3基を有するものとして、例えばフェニルシラ
ン、ｐ‐トリルシラン、ｐ‐ジメチルアミノフェニルシ
ラン、ｐ‐トリフルオロメチルフェニルシラン、ナフチ
ルシラン、メチルシラン、ヘキシルシラン、シクロヘキ
シルシラン、ベンジルシラン、１，４‐ビス（トリヒド
ロシリル）ベンゼン、１，３‐ビス（トリヒドロシリ
ル）ベンゼンなどが挙げられ、＞ＳｉＨ2基を有するも
のとして、例えばフェニルメチルシラン、ジフェニルシ
ラン、ジエチルシランなどが挙げられる。これらの中
で、特にフェニルシランなどのモノアリールシラン及び
ヘキシルシランなどのモノアルキルシランが好適であ
る。
【００１１】本発明においては、これらの有機ヒドロシ
ランは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を組
み合わせて用いてもよい。
ランは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を組
み合わせて用いてもよい。
【００１２】本発明方法においては、触媒として、一般
式 Ｒ1 nＴｉ（ＯＲ2）4-n （Ｉ） （式中のＲ1及びＲ2は、それぞれ一価の炭化水素基であ
り、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｎ
は０又は１〜３の整数である）で表わされるチタン化合
物が用いられる。
式 Ｒ1 nＴｉ（ＯＲ2）4-n （Ｉ） （式中のＲ1及びＲ2は、それぞれ一価の炭化水素基であ
り、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｎ
は０又は１〜３の整数である）で表わされるチタン化合
物が用いられる。
【００１３】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2で表
わされる一価の炭化水素基としては、例えば炭素数１〜
２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素
数７〜２０のアリールアルキル基などが挙げられる。こ
こで炭素数１〜２０のアルキル基は直鎖状、分岐状、環
状のいずれであってもよく、具体的にはメチル基、エチ
ル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル
基、イソブチル基、ｔ‐ブチル基、ヘキシル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられる。これらのアルキル基はハ
ロゲン原子、低級アルコキシ基などで置換されていても
よい。炭素数６〜２０のアリール基としては、例えばフ
ェニル基、ナフチル基、アンスラニル基などが挙げら
れ、炭素数７〜２０のアリールアルキル基としては、例
えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基など
が挙げられる。また、前記アリール基及びアリールアル
キル基には、芳香環にハロゲン原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基などの適当な置換基が導入されていて
もよい。このＲ1及びＲ2はたがいに同一であってもよい
し、異なっていてもよい。特に好ましいチタン化合物
は、テトライソプロポキシチタン又はメチル（トリイソ
プロポキシ）チタンである。
わされる一価の炭化水素基としては、例えば炭素数１〜
２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素
数７〜２０のアリールアルキル基などが挙げられる。こ
こで炭素数１〜２０のアルキル基は直鎖状、分岐状、環
状のいずれであってもよく、具体的にはメチル基、エチ
ル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル
基、イソブチル基、ｔ‐ブチル基、ヘキシル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられる。これらのアルキル基はハ
ロゲン原子、低級アルコキシ基などで置換されていても
よい。炭素数６〜２０のアリール基としては、例えばフ
ェニル基、ナフチル基、アンスラニル基などが挙げら
れ、炭素数７〜２０のアリールアルキル基としては、例
えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基など
が挙げられる。また、前記アリール基及びアリールアル
キル基には、芳香環にハロゲン原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基などの適当な置換基が導入されていて
もよい。このＲ1及びＲ2はたがいに同一であってもよい
し、異なっていてもよい。特に好ましいチタン化合物
は、テトライソプロポキシチタン又はメチル（トリイソ
プロポキシ）チタンである。
【００１４】これらのチタン化合物としては、例えば四
塩化チタンなどのチタン化合物と、アルコール、アルキ
ルリチウムなどとをその場（ｉｎ ｓｉｔｕ）で混合し
て生成させたものを用いてもよい。また、本発明におい
ては、触媒として、このチタン化合物を単独で用いても
よいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。このチタ
ン化合物は、会合した状態で存在することもあるが、こ
のような会合体をそのまま用いてもよい。
塩化チタンなどのチタン化合物と、アルコール、アルキ
ルリチウムなどとをその場（ｉｎ ｓｉｔｕ）で混合し
て生成させたものを用いてもよい。また、本発明におい
ては、触媒として、このチタン化合物を単独で用いても
よいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。このチタ
ン化合物は、会合した状態で存在することもあるが、こ
のような会合体をそのまま用いてもよい。
【００１５】本発明においては、反応温度は、通常０〜
２５０℃の範囲で選ばれる。この温度が０℃未満では、
反応速度が遅すぎて実用的でないし、２５０℃を超える
と副反応などが生じ、好ましくない。反応速度、収率、
品質などの点から、好ましい反応温度は２０〜１６０℃
の範囲である。
２５０℃の範囲で選ばれる。この温度が０℃未満では、
反応速度が遅すぎて実用的でないし、２５０℃を超える
と副反応などが生じ、好ましくない。反応速度、収率、
品質などの点から、好ましい反応温度は２０〜１６０℃
の範囲である。
【００１６】重合反応に際しては溶媒は必ずしも必要で
ないが、反応の進行に伴う粘度増加を防ぐ目的などで、
溶媒を用いることができる。この溶媒は、使用する原料
の有機ヒドロシランの反応性を考慮して、一般に用いら
れる溶媒、例えば脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素
類、エーテル類など、具体的にはペンタン、ヘキサン、
オクタン、デカン、シクロヘキサン、デカリン、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどから、１種又は２種
以上を適宜選択して用いるのが好ましい。
ないが、反応の進行に伴う粘度増加を防ぐ目的などで、
溶媒を用いることができる。この溶媒は、使用する原料
の有機ヒドロシランの反応性を考慮して、一般に用いら
れる溶媒、例えば脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素
類、エーテル類など、具体的にはペンタン、ヘキサン、
オクタン、デカン、シクロヘキサン、デカリン、ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどから、１種又は２種
以上を適宜選択して用いるのが好ましい。
【００１７】また、本発明においては、触媒である前記
一般式（Ｉ）で表わされるチタン化合物又はその会合体
は、原料の有機ヒドロシラン１モルに対し、通常０．０
００１〜０．５モル、好ましくは、０．００１〜０．０
５モルの割合で用いられる。
一般式（Ｉ）で表わされるチタン化合物又はその会合体
は、原料の有機ヒドロシラン１モルに対し、通常０．０
００１〜０．５モル、好ましくは、０．００１〜０．０
５モルの割合で用いられる。
【００１８】このようにして得られた反応生成物のポリ
シランは、反応終了液から公知の方法により、分離回収
することができる。例えば、反応終了液から溶媒、未反
応物及び低沸点生成物を除去したのち、再沈法やクロマ
トグラフィー法などにより、目的のポリシランを得るこ
とができる。
シランは、反応終了液から公知の方法により、分離回収
することができる。例えば、反応終了液から溶媒、未反
応物及び低沸点生成物を除去したのち、再沈法やクロマ
トグラフィー法などにより、目的のポリシランを得るこ
とができる。
【００１９】
【発明の効果】本発明によると、安価で入手及び取扱い
の容易な触媒を用い、有機ヒドロシランから、ポリシラ
ンを収率よく工業的有利に製造することができる。本発
明方法により得られたポリシランは、例えばシリコンカ
ーバイド原料、ホトレジスト材料、導電性材料、サーモ
クロミック材料、非線形光学材料、有機合成原料などと
して有用である。
の容易な触媒を用い、有機ヒドロシランから、ポリシラ
ンを収率よく工業的有利に製造することができる。本発
明方法により得られたポリシランは、例えばシリコンカ
ーバイド原料、ホトレジスト材料、導電性材料、サーモ
クロミック材料、非線形光学材料、有機合成原料などと
して有用である。
【００２０】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。
【００２１】実施例１ テトライソプロポキシチタン（０．１６ミリモル）のト
ルエン溶液 １ｍｌにフェニルシラン １ｍｌ（８．１ミ
リモル）を添加し、窒素雰囲気下、８０℃で２０時間か
きまぜた。次いで、溶媒、未反応のフェニルシラン及び
低沸点生成物を減圧下で除去することにより、ポリシラ
ンを粘性の高い油状物として７１１ｍｇ得た。
ルエン溶液 １ｍｌにフェニルシラン １ｍｌ（８．１ミ
リモル）を添加し、窒素雰囲気下、８０℃で２０時間か
きまぜた。次いで、溶媒、未反応のフェニルシラン及び
低沸点生成物を減圧下で除去することにより、ポリシラ
ンを粘性の高い油状物として７１１ｍｇ得た。
【００２２】このポリシランについて、ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により、重量
平均分子量（Ｍｗ）を測定するとともに、プロトン核磁
気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）及び赤外線吸収スペ
クトル（ＩＲ）を測定した。結果を下記に示す。 ＧＰＣ Ｍｗ：６２０1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ４．４〜４．８ｐｐｍ
（ｍ，１Ｈ，Ｓｉ−Ｈ）、６．９〜７．６ｐｐｍ（ｍ，
５Ｈ，Ｃ6Ｈ5） ＩＲ（ｎｅａｔ）：２１３８ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ）
ションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により、重量
平均分子量（Ｍｗ）を測定するとともに、プロトン核磁
気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）及び赤外線吸収スペ
クトル（ＩＲ）を測定した。結果を下記に示す。 ＧＰＣ Ｍｗ：６２０1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ４．４〜４．８ｐｐｍ
（ｍ，１Ｈ，Ｓｉ−Ｈ）、６．９〜７．６ｐｐｍ（ｍ，
５Ｈ，Ｃ6Ｈ5） ＩＲ（ｎｅａｔ）：２１３８ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ）
【００２３】比較例１〜４ 実施例１において、触媒として、テトライソプロポキシ
チタンの代わりにテトライソプロポキシジルコニウム、
テトライソプロポキシハフニウム、トリイソプロポキシ
ランタン及びトリイソプロポキシアルミニウムをそれぞ
れ用いた以外は、実施例１と同様に反応を行ったが、い
ずれもポリシランは全く生成しなかった。
チタンの代わりにテトライソプロポキシジルコニウム、
テトライソプロポキシハフニウム、トリイソプロポキシ
ランタン及びトリイソプロポキシアルミニウムをそれぞ
れ用いた以外は、実施例１と同様に反応を行ったが、い
ずれもポリシランは全く生成しなかった。
【００２４】実施例２ 実施例１において、触媒として、テトライソプロポキシ
チタンの代わりにメチル（トリイソプロポキシ）チタン
を用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行ったと
ころ、ポリシラン ７３０ｍｇが得られた。このポリシ
ランの物性は実施例１と同様であった。
チタンの代わりにメチル（トリイソプロポキシ）チタン
を用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行ったと
ころ、ポリシラン ７３０ｍｇが得られた。このポリシ
ランの物性は実施例１と同様であった。
【００２５】実施例３ テトライソプロポキシチタン（０．１６ミリモル）のト
ルエン溶液 １ｍｌにヘキシルシラン １．３ｍｌ（８．
０ミリモル）を添加し、窒素雰囲気下、８０℃で２０時
間かきまぜた。溶媒、未反応のヘキシルシラン及び低沸
点生成物を減圧下に除去することにより、ポリシランを
粘性の高い油状物として６５０ｍｇ得た。得られたポリ
シランについて、ＧＰＣ法によるＭｗを測定するととも
に、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲを測定した。結果を下記に示
す。 ＧＰＣ Ｍｗ：５４０1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ０．７〜１．５ｐｐｍ
(ｍ，１３Ｈ，Ｃ6Ｈ13）、３．６〜４．０ｐｐｍ（ｍ，
１Ｈ，Ｓｉ−Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ）：２１３０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ）
ルエン溶液 １ｍｌにヘキシルシラン １．３ｍｌ（８．
０ミリモル）を添加し、窒素雰囲気下、８０℃で２０時
間かきまぜた。溶媒、未反応のヘキシルシラン及び低沸
点生成物を減圧下に除去することにより、ポリシランを
粘性の高い油状物として６５０ｍｇ得た。得られたポリ
シランについて、ＧＰＣ法によるＭｗを測定するととも
に、1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲを測定した。結果を下記に示
す。 ＧＰＣ Ｍｗ：５４０1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ０．７〜１．５ｐｐｍ
(ｍ，１３Ｈ，Ｃ6Ｈ13）、３．６〜４．０ｐｐｍ（ｍ，
１Ｈ，Ｓｉ−Ｈ） ＩＲ（ｎｅａｔ）：２１３０ｃｍ-1（Ｓｉ−Ｈ）
Claims (4)
- 【請求項１】 １分子中に、−ＳｉＨ3基又は＞ＳｉＨ2
基を少なくとも１個有する有機ヒドロシランを重合させ
てポリシランを製造するに当り、触媒として、一般式 Ｒ1 nＴｉ（ＯＲ2）4-n （式中のＲ1及びＲ2は、それぞれ一価の炭化水素基であ
り、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、ｎ
は０又は１〜３の整数である）で表わされるチタン化合
物を用いることを特徴とするポリシランの製造法。 - 【請求項２】 Ｒ1 nＴｉ（ＯＲ2）4-nのＲ2がイソプロ
ピル基である請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 Ｒ1 nＴｉ（ＯＲ2）4-nがテトライソプロ
ポキシチタン又はメチル（トリイソプロポキシ）チタン
である請求項２記載の製造法。 - 【請求項４】 有機ヒドロシランがモノアルキルシラン
又はモノアリールシランである請求項１、２又は３記載
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7014873A JP2685124B2 (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | ポリシランの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7014873A JP2685124B2 (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | ポリシランの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08208843A JPH08208843A (ja) | 1996-08-13 |
| JP2685124B2 true JP2685124B2 (ja) | 1997-12-03 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7014873A Expired - Lifetime JP2685124B2 (ja) | 1995-02-01 | 1995-02-01 | ポリシランの製造法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2685124B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2705473B2 (ja) * | 1992-07-09 | 1998-01-28 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性組成物 |
| JPH06128381A (ja) * | 1992-10-15 | 1994-05-10 | Tonen Corp | 高分子量ポリシランの製造法 |
-
1995
- 1995-02-01 JP JP7014873A patent/JP2685124B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08208843A (ja) | 1996-08-13 |
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