JPS63122734A - SiH基含有オルガノポリシロキサンの製法 - Google Patents
SiH基含有オルガノポリシロキサンの製法Info
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- JPS63122734A JPS63122734A JP62273650A JP27365087A JPS63122734A JP S63122734 A JPS63122734 A JP S63122734A JP 62273650 A JP62273650 A JP 62273650A JP 27365087 A JP27365087 A JP 27365087A JP S63122734 A JPS63122734 A JP S63122734A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、相応するSi−ハロゲン基含有オルガノポリ
シロキサンから、液状反応媒体中での水素化金属との反
応により SiH基含有オルガノポリシロキサンを製造
する方法に関する。
シロキサンから、液状反応媒体中での水素化金属との反
応により SiH基含有オルガノポリシロキサンを製造
する方法に関する。
従来の技術
米国特許第3099672号明細書中には、へロデンー
又ハアルコキシシj7f175〜350°Cの温度で水
素化ナトリウムと反応させる方法が記載されている。シ
ランを得るためだけに使用可能でオルガノポリシロキサ
ンを得るためには使用できないこの方法では、種々異な
る収率で、ハロゲン−又はアルコキシ基の所に水素原子
が現われる。
又ハアルコキシシj7f175〜350°Cの温度で水
素化ナトリウムと反応させる方法が記載されている。シ
ランを得るためだけに使用可能でオルガノポリシロキサ
ンを得るためには使用できないこの方法では、種々異な
る収率で、ハロゲン−又はアルコキシ基の所に水素原子
が現われる。
米国特許(US−PS )第3099672号明細書に
よれば、水素化ナトリウムは、そのものとして、鉱油又
は他の高沸点不活性炭化水素中の懸濁液として又は塩化
ナトリウム上の被覆の形で使用されている。比較的高い
温度の使用の必要性は、この方法を高価にし、屡々不所
望の副産物をもたらす。
よれば、水素化ナトリウムは、そのものとして、鉱油又
は他の高沸点不活性炭化水素中の懸濁液として又は塩化
ナトリウム上の被覆の形で使用されている。比較的高い
温度の使用の必要性は、この方法を高価にし、屡々不所
望の副産物をもたらす。
米国特許(US−Ps )第3535092号明細書中
ては、Sl−ハロゲン基を有する化合物と水素化ナトリ
ウムとを反応させる方法が記載されており、この方法は
既に室温又は適度に高められた温度でのみ進行する。こ
れは、特別な溶剤例、t ハヘキサアルキルホスホルア
ミド、オクタアルキルホスホルアミr及びテトラアルキ
ル尿素の使用により可能である。この溶剤中のアルキル
基は炭素原子数1〜4全有する。この際、この米国特許
第3535092号では、この溶剤が触媒作用をすると
推定される。この方法は、ハロゲンシランにもハロゲン
シロキサンにモ使用できる。アルコキシシランは同じ条
件下では反応しない。溶剤は高め沸点を有するから、S
iH基含有反応生成物は反応混合物から溜去される。こ
れにより、この方法の使用性は、工業的に利用可能な経
費で、かつ熱分解せずに溜去されうるようなSiH基含
有シラン又はシロキサンに限られる。洗浄による前記溶
剤の除去は直ちには可能でない。水による溶剤の排除の
際に、過剰の水素化ナトリウムと共に水酸化ナトリウム
が生じ、これは、水性媒体中で水素の離脱下にBios
i−結合を形成させる。しかしながら、本明細書中に記
載の溶剤は、生理学的に危険であるので、大抵の用途に
とっては、Sl−含有反応生成物からの溶剤の完全な分
離が必要な前提である。
ては、Sl−ハロゲン基を有する化合物と水素化ナトリ
ウムとを反応させる方法が記載されており、この方法は
既に室温又は適度に高められた温度でのみ進行する。こ
れは、特別な溶剤例、t ハヘキサアルキルホスホルア
ミド、オクタアルキルホスホルアミr及びテトラアルキ
ル尿素の使用により可能である。この溶剤中のアルキル
基は炭素原子数1〜4全有する。この際、この米国特許
第3535092号では、この溶剤が触媒作用をすると
推定される。この方法は、ハロゲンシランにもハロゲン
シロキサンにモ使用できる。アルコキシシランは同じ条
件下では反応しない。溶剤は高め沸点を有するから、S
iH基含有反応生成物は反応混合物から溜去される。こ
れにより、この方法の使用性は、工業的に利用可能な経
費で、かつ熱分解せずに溜去されうるようなSiH基含
有シラン又はシロキサンに限られる。洗浄による前記溶
剤の除去は直ちには可能でない。水による溶剤の排除の
際に、過剰の水素化ナトリウムと共に水酸化ナトリウム
が生じ、これは、水性媒体中で水素の離脱下にBios
i−結合を形成させる。しかしながら、本明細書中に記
載の溶剤は、生理学的に危険であるので、大抵の用途に
とっては、Sl−含有反応生成物からの溶剤の完全な分
離が必要な前提である。
SiH基による9i−ハロゲン基の交換のために水素化
ナトリウムの代りに錯水素化物例えばナトリウムアルミ
ニウムヒドリVも使用した。例えば西ドイツ特許(DE
−AS )第1085875号明細書中には一般式: %式% 〔式中nは殊に1〜5の整数であり、Rは水素又はアル
キル−もしくはアリール基である〕のポリシロキサンヒ
ドリドの製法が記載されており、これは、一般式: 〔式中Xは塩素又はアルキルもしくはアリール基を表わ
し、nは前記のものを表わす〕のポリシロキサンをリチ
ウムアルミニウムヒドリドと反応させることよりなる。
ナトリウムの代りに錯水素化物例えばナトリウムアルミ
ニウムヒドリVも使用した。例えば西ドイツ特許(DE
−AS )第1085875号明細書中には一般式: %式% 〔式中nは殊に1〜5の整数であり、Rは水素又はアル
キル−もしくはアリール基である〕のポリシロキサンヒ
ドリドの製法が記載されており、これは、一般式: 〔式中Xは塩素又はアルキルもしくはアリール基を表わ
し、nは前記のものを表わす〕のポリシロキサンをリチ
ウムアルミニウムヒドリドと反応させることよりなる。
西ドイツ特許出願公告(DE−As )第108587
5号の例によれば、1.7−シクロルオクタメチルテト
ラシロキサンとリチウムアルミニウムヒドリドとを、テ
トラヒドロフラン中で、74%の収率で、1,7−シヒ
ドロオクタメチルテトラシロキサンに変じて贋る。1−
クロルペンタメチルジシロキサンをリチウムアルミニウ
ムヒドリドを用いて1−ヒドロペンタメチルジシロキサ
ンに変換することは、57%の収率で行なわれる。
5号の例によれば、1.7−シクロルオクタメチルテト
ラシロキサンとリチウムアルミニウムヒドリドとを、テ
トラヒドロフラン中で、74%の収率で、1,7−シヒ
ドロオクタメチルテトラシロキサンに変じて贋る。1−
クロルペンタメチルジシロキサンをリチウムアルミニウ
ムヒドリドを用いて1−ヒドロペンタメチルジシロキサ
ンに変換することは、57%の収率で行なわれる。
Po1ish Journal of Chemist
rys 5ろ(1973)、1688〜1686頁から
明らかなように、西ドイツ特許出願公告(DE−As
)第1085875号明細書に記載の方法の追試で、S
i−ハロゲン基の交換のために競争的に3i0Si結合
が分解され、副産物として著るしい程度にシラン例えば
ガス状及び引火性のジメチルシランが形成されることが
示されている、このことは、W、NolユのChemi
e und Technology der 5ili
con 。
rys 5ろ(1973)、1688〜1686頁から
明らかなように、西ドイツ特許出願公告(DE−As
)第1085875号明細書に記載の方法の追試で、S
i−ハロゲン基の交換のために競争的に3i0Si結合
が分解され、副産物として著るしい程度にシラン例えば
ガス状及び引火性のジメチルシランが形成されることが
示されている、このことは、W、NolユのChemi
e und Technology der 5ili
con 。
Verlag Chemie (1968) 206頁
に記載のことに一致する。そこには、エーテル中での線
状ポリジメチルシロキサンへのリチウムアルミニウムヒ
ドリドの作用の際に、シランの離脱下にシロキサン結合
がアルモシロキサン結合に変じられることが記載されて
いる。これらの分解反応は、珪酸エステルの際に実際に
定量的に進行する。リチウムアルミニウムヒドリrの作
用によるこの5iO8i−結合の分解は、Zeitsc
hriftf’ur Naturforschung
10b(1955)、423〜424貞からも推測され
る。
に記載のことに一致する。そこには、エーテル中での線
状ポリジメチルシロキサンへのリチウムアルミニウムヒ
ドリドの作用の際に、シランの離脱下にシロキサン結合
がアルモシロキサン結合に変じられることが記載されて
いる。これらの分解反応は、珪酸エステルの際に実際に
定量的に進行する。リチウムアルミニウムヒドリrの作
用によるこの5iO8i−結合の分解は、Zeitsc
hriftf’ur Naturforschung
10b(1955)、423〜424貞からも推測され
る。
西Pイツ特許出願公告(DE−As )第156825
5号明細書には、錯アルミニウムヒドリドとしてトリナ
トリウムアルミニウムアンヒドリpyt使用する類似方
法が記載されている。この錯ヒドリドの使用の際にも、
5iosi−基の分解は競争反応である。
5号明細書には、錯アルミニウムヒドリドとしてトリナ
トリウムアルミニウムアンヒドリpyt使用する類似方
法が記載されている。この錯ヒドリドの使用の際にも、
5iosi−基の分解は競争反応である。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、低温でのSi−ハロゲン基殊に5IC1−基
の5iH−基による交換が、生理学的に無害な反応媒体
の使用下にかつ顕著な51081−結合の分解なしに行
なう方法を見つけること全課題としている。この方法は
、Sl−ハロゲン基を有するオルガノポリシロキサン(
これは、任意の分子量を有し、殊に高分子であってよ−
)に使用可能であるべきである。この方法をα。
の5iH−基による交換が、生理学的に無害な反応媒体
の使用下にかつ顕著な51081−結合の分解なしに行
なう方法を見つけること全課題としている。この方法は
、Sl−ハロゲン基を有するオルガノポリシロキサン(
これは、任意の分子量を有し、殊に高分子であってよ−
)に使用可能であるべきである。この方法をα。
ω−ハロゲン−オルガノポリシロキサンに用層て実施す
るのが有利であり、この際、殊に、その高い分子量に基
づき、蒸溜不能であるα、ω+ ハロゲン−オルガノポ
リシロキサンは特に重要である。この場合、公知方法に
おけるように蒸溜不能な形で生じるよりなα、ω−クロ
ルーオルガノポリシロキサン混合物が特に重要である。
るのが有利であり、この際、殊に、その高い分子量に基
づき、蒸溜不能であるα、ω+ ハロゲン−オルガノポ
リシロキサンは特に重要である。この場合、公知方法に
おけるように蒸溜不能な形で生じるよりなα、ω−クロ
ルーオルガノポリシロキサン混合物が特に重要である。
本発明によれば、意外にも、液状反応媒体中での81−
ハロゲン基含有オルガノポリシロキサンと水素化金属と
の反応によフS1−ハロゲン基の5iH−基での交換は
、次の手段の組合せによる方法で達成される: a) LiH,NaH,KH1CaH2、MgH2の
群からの水素化金属の使用、 b)反応媒体としてのエーテルの使用、C)機械的エネ
ルギーの作用及び超音波による新製表面の形成下におけ
る、水素化金属粒子上に反応の間に析出する・・ロデン
金属の連続的除去。
ハロゲン基含有オルガノポリシロキサンと水素化金属と
の反応によフS1−ハロゲン基の5iH−基での交換は
、次の手段の組合せによる方法で達成される: a) LiH,NaH,KH1CaH2、MgH2の
群からの水素化金属の使用、 b)反応媒体としてのエーテルの使用、C)機械的エネ
ルギーの作用及び超音波による新製表面の形成下におけ
る、水素化金属粒子上に反応の間に析出する・・ロデン
金属の連続的除去。
本発明方法の有利な実施形は、α、ω−クロル−オルガ
ノポリシロキサンとLiH(!: f:、反応媒体とし
てのテトラヒドロフラン中で、水素化金属粒子の表面に
反応の間に析出する塩化リチウムの連続的除去のもとに
、機械的エネルギーの作用又は超音波の作用による新表
面の形成下に反応させることを特徴とる。
ノポリシロキサンとLiH(!: f:、反応媒体とし
てのテトラヒドロフラン中で、水素化金属粒子の表面に
反応の間に析出する塩化リチウムの連続的除去のもとに
、機械的エネルギーの作用又は超音波の作用による新表
面の形成下に反応させることを特徴とる。
α、ω−クロル−オルガノポリシロキサンとして、α、
ω−ジクロルボリゾメチルシロキサンを使用するのが特
に有利である。
ω−ジクロルボリゾメチルシロキサンを使用するのが特
に有利である。
a)の特徴に相応して、慣用のアルカリ金属−又はアル
カリ土類金属水素化物を使用することができる。水素化
金属は、反応媒体に細分形で添加することができる。ア
ルカリ金属水素化物殊に水素化リチウムを使用するのが
有利である。
カリ土類金属水素化物を使用することができる。水素化
金属は、反応媒体に細分形で添加することができる。ア
ルカリ金属水素化物殊に水素化リチウムを使用するのが
有利である。
反応媒体としては、特徴b)に応じて例えばこのよりな
方法に関する技術水準で公知のようなエーテルを使用す
る。特に有利なのは、一般式 %式%) 〔式中nは0又は整数、有利に1〜10の数である〕の
エーテルである。特にn=Dの場合の化合物が有利であ
る。R1及びR2は同−又は異なるもので、炭素原子数
1〜4のアルキル基を表わす。前記式に該当するような
エーテルの例は、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、1,2−ジェトキシエ
タン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレング
リコールジメチルエーテルである。
方法に関する技術水準で公知のようなエーテルを使用す
る。特に有利なのは、一般式 %式%) 〔式中nは0又は整数、有利に1〜10の数である〕の
エーテルである。特にn=Dの場合の化合物が有利であ
る。R1及びR2は同−又は異なるもので、炭素原子数
1〜4のアルキル基を表わす。前記式に該当するような
エーテルの例は、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、1,2−ジェトキシエ
タン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレング
リコールジメチルエーテルである。
エーテルとしては、環状エーテル例えばテトラヒドロフ
ラン又はジオキサン又はテトラヒドロフランのポリマー
化合物も使用でき、この際テトラヒドロフランが有利で
ある。
ラン又はジオキサン又はテトラヒドロフランのポリマー
化合物も使用でき、この際テトラヒドロフランが有利で
ある。
本発明方法の特徴C)は極めて重要である。
b)に記載の反応媒体中での攪拌下におけるa)に記載
の水素化金属とSi−/%ロデン基含有オルガノポリシ
ロキサンとの反応の際に、高い温度でも、経済的に認容
しうる時間内に、有意義かつ光分な反応は起こらない。
の水素化金属とSi−/%ロデン基含有オルガノポリシ
ロキサンとの反応の際に、高い温度でも、経済的に認容
しうる時間内に、有意義かつ光分な反応は起こらない。
しかしながら、例えば粉砕体の存在で攪拌すると、この
反応は、中程度の温度でも定量的であり、このことは当
業者には予測できなかった。このような大抵は環状の粉
砕体は、ガラス、セラミック又は鋼からなっていてよい
。微粒子状の粉砕体例えば砂を使用することも可能であ
る。反応媒体上への機械的エネルギーめ作用のもう1つ
の例は、反応媒体中で高い剪断力を生じる攪拌である。
反応は、中程度の温度でも定量的であり、このことは当
業者には予測できなかった。このような大抵は環状の粉
砕体は、ガラス、セラミック又は鋼からなっていてよい
。微粒子状の粉砕体例えば砂を使用することも可能であ
る。反応媒体上への機械的エネルギーめ作用のもう1つ
の例は、反応媒体中で高い剪断力を生じる攪拌である。
スターター内に1個以上の高速ローターを有する攪拌機
が有利である。更に、いわゆるマイツアー板(Mize
r −5cheiben ) f有する高速回転攪拌機
が好適である。反応混合物に機械的エネルギー全反応式
せるためには、ボールミルがシル 利である。更に、水素金属粒子の表面から析出ハロゲン
化金属を超音波の作用で除去することが可能である。こ
の場合、従来の技術水準から公知の超音波供給装置を使
用することができる。
が有利である。更に、いわゆるマイツアー板(Mize
r −5cheiben ) f有する高速回転攪拌機
が好適である。反応混合物に機械的エネルギー全反応式
せるためには、ボールミルがシル 利である。更に、水素金属粒子の表面から析出ハロゲン
化金属を超音波の作用で除去することが可能である。こ
の場合、従来の技術水準から公知の超音波供給装置を使
用することができる。
本発明方法は既に室温で定量的収率で進行する。この反
応速度は反応媒体の温度を高めることにより更に促進す
ることができる。しかしながら、経済的理由及び副産物
の形成をできるだけさけるために、反応温度は約り60
°Ck越えないことが望ましい。大抵の場合、反応温度
の上限は、反応媒体の沸点により与えられる。
応速度は反応媒体の温度を高めることにより更に促進す
ることができる。しかしながら、経済的理由及び副産物
の形成をできるだけさけるために、反応温度は約り60
°Ck越えないことが望ましい。大抵の場合、反応温度
の上限は、反応媒体の沸点により与えられる。
オルガノポリシロキサンのSi−ハロゲン基に対して少
なくとも当量で水素化金属を使用する。しかしながら、
当量に対して約10%の過剰を使用するのが望ましい。
なくとも当量で水素化金属を使用する。しかしながら、
当量に対して約10%の過剰を使用するのが望ましい。
高過剰は反応を促進するが、残渣の除去をも困難にする
。
。
数時間以内に終了する反応の後に、反応混合物全自体公
知法で後処理する、従って、一般に、生じるへロケ9ン
化金属及び場合によっては過剰の水素化金属並びに場合
によっては反応媒体中に含有する粉砕体を濾過により除
去し、使用溶剤を熱温によジ濾液から分離除去する。
知法で後処理する、従って、一般に、生じるへロケ9ン
化金属及び場合によっては過剰の水素化金属並びに場合
によっては反応媒体中に含有する粉砕体を濾過により除
去し、使用溶剤を熱温によジ濾液から分離除去する。
本発明方法は充分に定量的に進行し、従って、当初の設
定条件金満たす。この方法は、充分にハロゲン−オルガ
ノポリシロキサンの構造に関係する。これは、殊に、α
、ω−位及びS1結合ハロゲン原子の交換を可能にし、
−様に、低分子量及び高分子量のノ・ロダン−オルガノ
ポリシロキサン上で使用可能とする。平衡化の際に触媒
としてルイス酸有利にF13CJ3が使用されて力る平
衡化されたハロゲンオルガノポリシロキサン全使用する
のが有利である。硫酸で平衡化サレ之ハロゲンオルガノ
ポリシロキサンは好適性が低い。それというのも、アル
カリ金属−又はアルカリ土類金属水素化物との反応時に
シロキサン中に含有されるシリルスルフェート基は還元
されて不快臭を発するシリルメルカプト基になりうるか
らである。
定条件金満たす。この方法は、充分にハロゲン−オルガ
ノポリシロキサンの構造に関係する。これは、殊に、α
、ω−位及びS1結合ハロゲン原子の交換を可能にし、
−様に、低分子量及び高分子量のノ・ロダン−オルガノ
ポリシロキサン上で使用可能とする。平衡化の際に触媒
としてルイス酸有利にF13CJ3が使用されて力る平
衡化されたハロゲンオルガノポリシロキサン全使用する
のが有利である。硫酸で平衡化サレ之ハロゲンオルガノ
ポリシロキサンは好適性が低い。それというのも、アル
カリ金属−又はアルカリ土類金属水素化物との反応時に
シロキサン中に含有されるシリルスルフェート基は還元
されて不快臭を発するシリルメルカプト基になりうるか
らである。
実施例
次の例につき本発明全詳述する。
例 1
滴下ロート、内部温度計、攪拌機及び還流冷却器を備え
、冷却トラップ(−78℃)の所で閉じられている、5
00′Inj−口頚すジ合わせガラスフラスコよりなる
装置中に、LiH8,7fJ(1,1モル)、テトラヒ
ドロフラン100.9及び直径2朋のセラミック琢20
0.Ft−ffl素気下に装入する。α、ω−ジクロル
ポリジメチルシロキサン280.1.9 (0,5モル
)をLiH−懸濁液の攪拌下に通気下に滴加する。珪素
に結合した塩素の減少を酸滴定により追跡する。還流(
67℃)下に8時間加熱の後に、珪素に結合した塩素は
検出できない。この反応の間に、揮発性化合物は冷却ト
ラップ中に捕集されない。
、冷却トラップ(−78℃)の所で閉じられている、5
00′Inj−口頚すジ合わせガラスフラスコよりなる
装置中に、LiH8,7fJ(1,1モル)、テトラヒ
ドロフラン100.9及び直径2朋のセラミック琢20
0.Ft−ffl素気下に装入する。α、ω−ジクロル
ポリジメチルシロキサン280.1.9 (0,5モル
)をLiH−懸濁液の攪拌下に通気下に滴加する。珪素
に結合した塩素の減少を酸滴定により追跡する。還流(
67℃)下に8時間加熱の後に、珪素に結合した塩素は
検出できない。この反応の間に、揮発性化合物は冷却ト
ラップ中に捕集されない。
得られる反応混合物(586,1& )″f、濾過によ
り、セラミック球、生じるLiCJ及び反応しなかった
LIHから分離する。残留濾過残分をテトラヒドロフラ
ン20.9で6回洗浄し、この際、水様澄明濾液合計3
37.1 、!il’が得られる。40’O/6mバー
ルでのテトラヒドロフラン125.3gの蒸留分離及び
引続く濾過の後に、α、ω−ジヒドロポリジメチルシロ
キサン209.8 、li’(理論量の85%に相当)
が得られる。
り、セラミック球、生じるLiCJ及び反応しなかった
LIHから分離する。残留濾過残分をテトラヒドロフラ
ン20.9で6回洗浄し、この際、水様澄明濾液合計3
37.1 、!il’が得られる。40’O/6mバー
ルでのテトラヒドロフラン125.3gの蒸留分離及び
引続く濾過の後に、α、ω−ジヒドロポリジメチルシロ
キサン209.8 、li’(理論量の85%に相当)
が得られる。
水素測定の結果は、水素0.39%を示した。
CDCl3の使用下におけるIH−NMR−分析のデー
タは次のとおりである。
タは次のとおりである。
水素測定は水素0.69%を示す。CDCl3の使用下
に1H−NMR−分析のデータは次のと2ジであるニ ー 0.O5ppm (単線、30.7H) −0Si
(CH3)2−1−0.2 ppm (二重線、12H
) H−3i(CH3)2−1= 4.7 ppm
(七重線、2 H) H−8i(CH3)2−α、ω
−ジヒドロポリジメチルシロキサンのガスクロマトグラ
フィにより測定した分配は、使用したα、ω−ジクロル
ポリジメチルシロキサンのそれと充分に一致する。
に1H−NMR−分析のデータは次のと2ジであるニ ー 0.O5ppm (単線、30.7H) −0Si
(CH3)2−1−0.2 ppm (二重線、12H
) H−3i(CH3)2−1= 4.7 ppm
(七重線、2 H) H−8i(CH3)2−α、ω
−ジヒドロポリジメチルシロキサンのガスクロマトグラ
フィにより測定した分配は、使用したα、ω−ジクロル
ポリジメチルシロキサンのそれと充分に一致する。
例 2
超音波浴中に存在する、滴下ロート、内部温度計及び還
流冷却器を備えたsooml−二頭フラスコよりなる装
置中に、LiH6,69及びジエチルエーテル150g
を窒素気下に装入する。
流冷却器を備えたsooml−二頭フラスコよりなる装
置中に、LiH6,69及びジエチルエーテル150g
を窒素気下に装入する。
1.5−ジブロム−1,1,3,3,5,5−ヘキサメ
チルトリシロキサン150.llk挿入超音波浴でゆつ
く9滴加する。還流下に6時間加熱の後に、ガスクロマ
トグラフィで出発物質はもはや検出できない。得られる
反応混合物全濾過し、ジエチルエーテルの除去の後に、
約8段の理論棚段を有する塔から熱温する。128°C
常圧下で、1.1.3,3,5.5−ヘキサメチルトリ
シロキサン69.1.9 (80,4%)が滴量する。
チルトリシロキサン150.llk挿入超音波浴でゆつ
く9滴加する。還流下に6時間加熱の後に、ガスクロマ
トグラフィで出発物質はもはや検出できない。得られる
反応混合物全濾過し、ジエチルエーテルの除去の後に、
約8段の理論棚段を有する塔から熱温する。128°C
常圧下で、1.1.3,3,5.5−ヘキサメチルトリ
シロキサン69.1.9 (80,4%)が滴量する。
例 6
分液ロート、還流冷却器及びローター及びスターター付
き攪拌装置を備えた11−二頭フラスコよりなる容器中
に、NaH45−6g(1,9モル)及びジエチレング
リコールジメチルエーテル150g全窒素気下に装入す
る。攪拌装置作動時に、α、ω−ジクロルポリゾメチル
シロキサン280.19 (0,5モル)を通気下に添
加する。この攪拌装置の作用は反応媒体の自己加熱をも
たらす。還流下に10時間沸騰の後に、α、ω−ジヒド
ロポリジメチルシロキサンへの98%の変換率が検出で
きる。
き攪拌装置を備えた11−二頭フラスコよりなる容器中
に、NaH45−6g(1,9モル)及びジエチレング
リコールジメチルエーテル150g全窒素気下に装入す
る。攪拌装置作動時に、α、ω−ジクロルポリゾメチル
シロキサン280.19 (0,5モル)を通気下に添
加する。この攪拌装置の作用は反応媒体の自己加熱をも
たらす。還流下に10時間沸騰の後に、α、ω−ジヒド
ロポリジメチルシロキサンへの98%の変換率が検出で
きる。
比較例1(本発明ではない)
テトラヒドロフランを使用せずに例1に記載の実験金繰
り返す。67℃で8時間後に酸滴定により1%の変換率
及び48時間後に1.8%の変換率が検査できる。
り返す。67℃で8時間後に酸滴定により1%の変換率
及び48時間後に1.8%の変換率が検査できる。
比較例2(本発明ではない)
粉砕体を使用せずに例1に記載の実験金繰り返す。還流
下に48時間煮沸の後に、酸滴定で24%の変換率が検
出できる。
下に48時間煮沸の後に、酸滴定で24%の変換率が検
出できる。
比較例1及び2から、本発明の組合せ特徴の1つが欠け
ても相応するSi−ハロゲン基含有オルガノポリシロキ
サンからの水素化金属との反応によるSiH基含有オル
ガノポリシロキサンの製造は不可能であることがわかる
。
ても相応するSi−ハロゲン基含有オルガノポリシロキ
サンからの水素化金属との反応によるSiH基含有オル
ガノポリシロキサンの製造は不可能であることがわかる
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、相応するSi−ハロゲン基含有オルガノポリシロキ
サンから、液体反応媒体中での水素化金属との反応によ
り、SiH−基含有オルガノポリシロキサンを製造する
ために、次の手段; a)LiH、NaH、KH、CaH_2、MgH_2の
群からの水素化金属を使用し、 b)反応媒体としてのエーテルを使用し、 c)水素化金属粒子の表面に反応の間に析出するハロゲ
ン化金属の連続的除去を機械エネルギー又は超音波の作
用により新表面の形成下に行なう ことの組合せを特徴とする、SiH含有オルガノポリシ
ロキサンの製法。 2、機械エネルギー又は超音波の作用により新表面の形
成下に、反応の間に水素化金属粒子の表面上に析出する
塩化リチウムの連続的除去のもとに、α,ω−クロル−
オルガノポリシロキサンとLiHとを反応媒体としての
テトラヒドロフラン中で反応させる、特許請求の範囲第
1項記載の方法。 3、α,ω−ジクロルポリジメチルポリシロキサンとL
iHとをテトラヒドロフラン中で反応させる、特許請求
の範囲第2項記載の方法。 4、ルイス酸の存在で平衡化されているハロゲンオルガ
ノポリシロキサンを使用する、特許請求の範囲第1項か
ら第3項までのいずれか1項記載の方法。 5、c)の手段でボールミルを使用する、特許請求の範
囲第1項から第4項までのいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3637273A DE3637273C1 (de) | 1986-11-03 | 1986-11-03 | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen enthaltenden Organopolysiloxanen |
DE3637273.0 | 1986-11-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63122734A true JPS63122734A (ja) | 1988-05-26 |
JPH0223571B2 JPH0223571B2 (ja) | 1990-05-24 |
Family
ID=6312978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62273650A Granted JPS63122734A (ja) | 1986-11-03 | 1987-10-30 | SiH基含有オルガノポリシロキサンの製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4816541A (ja) |
EP (1) | EP0266633B1 (ja) |
JP (1) | JPS63122734A (ja) |
DE (2) | DE3637273C1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5089303A (en) * | 1989-04-24 | 1992-02-18 | Akzo America Inc. | Blend of solvent and photocurable arylsiloxane materials |
JP3015145B2 (ja) * | 1991-05-31 | 2000-03-06 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
DE4239246C1 (de) * | 1992-11-21 | 1993-12-16 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen aufweisenden Organopolysiloxanen |
DE4313130C1 (de) * | 1993-04-22 | 1994-05-26 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von Silanen bzw. Organosiliciumhydriden durch Reduktion der entsprechenden Siliciumhalogenide bzw. Organosiliciumhalogenide |
US5789612A (en) * | 1997-09-29 | 1998-08-04 | Dow Corning Corporation | Neutralization method for polyorganosiloxanes |
CN111132985B (zh) * | 2017-09-20 | 2024-01-02 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 用于制造甲基氯氢单硅烷的集成工艺 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1028575B (de) * | 1955-11-02 | 1958-04-24 | Kali Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Siliciumwasserstoffverbindungen |
US3099672A (en) * | 1955-12-19 | 1963-07-30 | Gen Electric | Reduction of halogen-containing silicon compounds |
DE1085875B (de) * | 1959-03-05 | 1960-07-28 | Elfriede Husemann Dr | Verfahren zur Herstellung von Polysiloxanhydriden |
US3419592A (en) * | 1964-12-21 | 1968-12-31 | Gen Electric | Method for making organosiloxane hydrides |
GB1110627A (en) * | 1965-03-03 | 1968-04-24 | Ceskoslovenska Akademie Ved | A method of reduction of halosiliceous compounds |
US3496206A (en) * | 1967-06-01 | 1970-02-17 | Gen Electric | Method for making silicon hydrides |
US3535092A (en) * | 1968-06-14 | 1970-10-20 | Gen Electric | Reduction of halogen-containing silicon compounds |
BE786656A (fr) * | 1971-07-30 | 1973-01-24 | Ici Ltd | Siloxanes |
JPS589809A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 水素化ケイ素の新しい製造方法 |
-
1986
- 1986-11-03 DE DE3637273A patent/DE3637273C1/de not_active Expired
-
1987
- 1987-10-07 US US07/106,124 patent/US4816541A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-21 EP EP87115398A patent/EP0266633B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-21 DE DE8787115398T patent/DE3777329D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-30 JP JP62273650A patent/JPS63122734A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0223571B2 (ja) | 1990-05-24 |
EP0266633A2 (de) | 1988-05-11 |
EP0266633B1 (de) | 1992-03-11 |
US4816541A (en) | 1989-03-28 |
DE3777329D1 (de) | 1992-04-16 |
EP0266633A3 (en) | 1988-09-21 |
DE3637273C1 (de) | 1988-04-07 |
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