JPS589809A - 水素化ケイ素の新しい製造方法 - Google Patents
水素化ケイ素の新しい製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/04—Hydrides of silicon
-
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/04—Hydrides of silicon
- C01B33/043—Monosilane
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、水素化ケイ素、特に、モノシラン、ジシラン
およびその誘導体を製造する新しい方法である。
およびその誘導体を製造する新しい方法である。
さらに詳しくは、ハロゲン化ケイ素を原料として、これ
にアルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルア
ルミニウムの混合物を反応させて水素化ケイ素を製造す
る際に前記混合物に一般弐ムIRnX、−n(R:炭素
数lからlOまでのアルキル基、x:ハロモノ菖、n:
0,1.1.5)テ示すれるアルキルアルミニウムハ
ライドの特宏量を前もって添加し、しかるのち・・−ロ
ゲン化ケイ、素との反応に用いる方法である。
にアルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルア
ルミニウムの混合物を反応させて水素化ケイ素を製造す
る際に前記混合物に一般弐ムIRnX、−n(R:炭素
数lからlOまでのアルキル基、x:ハロモノ菖、n:
0,1.1.5)テ示すれるアルキルアルミニウムハ
ライドの特宏量を前もって添加し、しかるのち・・−ロ
ゲン化ケイ、素との反応に用いる方法である。
従来よジアルキルアルミニウムハイドライドを使用して
モノシラン、ジシランおよびその誘導体を製造する方法
は公知である。
モノシラン、ジシランおよびその誘導体を製造する方法
は公知である。
例えば、特公昭36−517、英国特許823,483
、独国特許1,055,511.同1.1!7,090
においては、ハロゲン化ケイ素を水素化ナトリウムで還
元する場合に、アルキルアルミニウムハイドライドを活
性化剤として添加することが記載されている。
゛ しかしその添加量がナトリウムハイドライドに対し、0
.1〜30−と記載されていることかられかるように還
元試薬はナトリウムハイドライドであシ、アルキルアル
ミニウムハイドライドの役割シは、活性化剤であシ、・
・ロゲン化ケイ素の還元試薬として用いる思想ではない
。
、独国特許1,055,511.同1.1!7,090
においては、ハロゲン化ケイ素を水素化ナトリウムで還
元する場合に、アルキルアルミニウムハイドライドを活
性化剤として添加することが記載されている。
゛ しかしその添加量がナトリウムハイドライドに対し、0
.1〜30−と記載されていることかられかるように還
元試薬はナトリウムハイドライドであシ、アルキルアル
ミニウムハイドライドの役割シは、活性化剤であシ、・
・ロゲン化ケイ素の還元試薬として用いる思想ではない
。
また仏画特許A I、499,032においても、ハロ
ゲン化ケイ素をアルキルアルミニウムハイドライドで還
元する方法が記載されている〇しかしながら、この公知
技術と本発明を比較すると、本発明は、−還元剤として
、単にアルキルアルミニウムハイドライドを用いること
ではなくアルキルアルミニウムハイドライドとトリアル
キルアルミニウムの混合物に、更にアルキルアルミニウ
ムハライドの特定量を添加したものを用いる点で異なる
。
ゲン化ケイ素をアルキルアルミニウムハイドライドで還
元する方法が記載されている〇しかしながら、この公知
技術と本発明を比較すると、本発明は、−還元剤として
、単にアルキルアルミニウムハイドライドを用いること
ではなくアルキルアルミニウムハイドライドとトリアル
キルアルミニウムの混合物に、更にアルキルアルミニウ
ムハライドの特定量を添加したものを用いる点で異なる
。
そして現実には、アルキルアルミニウムハイドライドは
工業的には純粋なアルキルアルミニウムハイドライドと
してよりこのものとトリアルキルアルミニウムとの混合
物としての方が、はるかに安価にかつ容易に入手できる
ので本発明の価値は高い。
工業的には純粋なアルキルアルミニウムハイドライドと
してよりこのものとトリアルキルアルミニウムとの混合
物としての方が、はるかに安価にかつ容易に入手できる
ので本発明の価値は高い。
ところが単にこの混合物のみを用いてハロゲン化ケイ素
の還元を行うと、水素化ケイ素の収率が非常に低く、か
つハロゲン化ケイ素の不充分な還元により生じたと思わ
れる水素化ハロゲン化ケイ素、例えばモノクロルシラン
(Si H3Cρ)が多量に副生ずる。更に副反応によ
り生じたと思われるエタンも多量に生成する。
の還元を行うと、水素化ケイ素の収率が非常に低く、か
つハロゲン化ケイ素の不充分な還元により生じたと思わ
れる水素化ハロゲン化ケイ素、例えばモノクロルシラン
(Si H3Cρ)が多量に副生ずる。更に副反応によ
り生じたと思われるエタンも多量に生成する。
本発明は、ハロゲン化ケイ素の還元剤として入手容易な
アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルアル
ミニウムの混合物を使用してなお、上記の低収率と、副
生物の問題を解決するために鋭意検討の結果、特定量の
アルキルアルミニウムハライドをアルキルアルミニウム
ハイドライドとトリアルキルアルミニウムの混合物に反
応に先だって添加することにより驚くべきことにアルキ
ルアルミニウムハイドライドの作用をなんら損うことな
く、水素化ケイ素の収率を大幅に向上し、水素化ハロゲ
ン化ケイ素、エタン等の副生を大幅に低下させることを
見出し本発明に到達した。
アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルアル
ミニウムの混合物を使用してなお、上記の低収率と、副
生物の問題を解決するために鋭意検討の結果、特定量の
アルキルアルミニウムハライドをアルキルアルミニウム
ハイドライドとトリアルキルアルミニウムの混合物に反
応に先だって添加することにより驚くべきことにアルキ
ルアルミニウムハイドライドの作用をなんら損うことな
く、水素化ケイ素の収率を大幅に向上し、水素化ハロゲ
ン化ケイ素、エタン等の副生を大幅に低下させることを
見出し本発明に到達した。
本発明は即ち、アルキルアルミニラムノ1イドライドと
トリアルキルアルミニウムの混合′物を用いて、ハロゲ
ン化ケイ素を還元し、水素化ケイ素を製造する際に、ト
リアルキルアルミニウムの90モルチ以上をジアルキル
アルミニウムモノハライドに変化させるに足る量のアル
キルアルミニウムハライドを該混合物中に予め添加する
ことを特徴とする水素化ケイ素の新しい製造方法である
。 そして本発明に云うアルキルアルミニウムハライド
とは一般式AfJ、 Rn x3.n(R:炭素数1か
らlOまでのアルキル基、x:ハロゲン基、n : 0
,1,1.5)で示される化合物である。
トリアルキルアルミニウムの混合′物を用いて、ハロゲ
ン化ケイ素を還元し、水素化ケイ素を製造する際に、ト
リアルキルアルミニウムの90モルチ以上をジアルキル
アルミニウムモノハライドに変化させるに足る量のアル
キルアルミニウムハライドを該混合物中に予め添加する
ことを特徴とする水素化ケイ素の新しい製造方法である
。 そして本発明に云うアルキルアルミニウムハライド
とは一般式AfJ、 Rn x3.n(R:炭素数1か
らlOまでのアルキル基、x:ハロゲン基、n : 0
,1,1.5)で示される化合物である。
以下にさらに詳しく本発明を説明する。
本発明において原料であるノ・ロゲン化ケイ素とは、一
般式Si n X z n十mで表わされる化合物であ
る。 この式でXはハロゲン原子であるが、4個の置換
基のうちの一部は水素原子、アルコキシ基、アルキル基
、アリール基、ビニール基であってもよく、nは1.2
又はそれ以上であるがnが大きくなると取扱いの困難さ
が大きくなり、本発明の実施も困難となる。Xとして示
される置換基にはメチル基、エチル基、プロピル基、n
−ブチル基、1〜ブチル基、ペンチル基、ビニル基、フ
ェニル基、p−メチルフェニル基、上記一般式で示され
る化合物の内、本発明の実施に特に好ましい例を挙げれ
ば、四塩化ケイ素、ヘキサクロルジシラン、テトラエト
キシシラン、ジエチルジクロルシラン、トリクロルシラ
ンである。
般式Si n X z n十mで表わされる化合物であ
る。 この式でXはハロゲン原子であるが、4個の置換
基のうちの一部は水素原子、アルコキシ基、アルキル基
、アリール基、ビニール基であってもよく、nは1.2
又はそれ以上であるがnが大きくなると取扱いの困難さ
が大きくなり、本発明の実施も困難となる。Xとして示
される置換基にはメチル基、エチル基、プロピル基、n
−ブチル基、1〜ブチル基、ペンチル基、ビニル基、フ
ェニル基、p−メチルフェニル基、上記一般式で示され
る化合物の内、本発明の実施に特に好ましい例を挙げれ
ば、四塩化ケイ素、ヘキサクロルジシラン、テトラエト
キシシラン、ジエチルジクロルシラン、トリクロルシラ
ンである。
本発明におけるアルキルアルミニウムハイドライドとは
、一般式R2AfiH−’c’示される還元性化合物で
ある。
、一般式R2AfiH−’c’示される還元性化合物で
ある。
Rは炭素数1から10までのアルキル基であり、例えば
、エチル基、n−プロピル基、イーツブチル基である。
、エチル基、n−プロピル基、イーツブチル基である。
上記一般式で示される化合物の内、好ましい例を挙げ
れば、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチ
ルアルミニウムハイドライドである。
れば、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチ
ルアルミニウムハイドライドである。
、 本発明におけるトリアルキルアルミニウムとは、一
般式R,Anで示される化合物である。
般式R,Anで示される化合物である。
Rは炭素数1から10までのアルキル基であシ、例えば
、エチル基、n−プロピル基、イソブチル基である。
、エチル基、n−プロピル基、イソブチル基である。
上記一般式で示される化合物の内、好ましい例を挙げれ
ば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムである。
ば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムである。
工業的に安価かつ入手容易なアルキルアルミニウムハイ
ドライドとトリアルキルアルミニウムの混合物において
、一般には、アルキルアルミニウムハイドライドとトリ
アルキルアルミニウムは同一種のアルキル基を有する場
合が多い。
ドライドとトリアルキルアルミニウムの混合物において
、一般には、アルキルアルミニウムハイドライドとトリ
アルキルアルミニウムは同一種のアルキル基を有する場
合が多い。
しかしながら、本発明の実施には両者のアルキル基が異
なる混合物でもかまわないし、さらにはアルキルアルミ
ニウムハイドライド、トリアルキルアルミニウム各々が
異なったアルキル基を有する化合物の混合物でもかまわ
ない。
なる混合物でもかまわないし、さらにはアルキルアルミ
ニウムハイドライド、トリアルキルアルミニウム各々が
異なったアルキル基を有する化合物の混合物でもかまわ
ない。
またアルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキル
アルミニウムの混d物中の両者の重量比は通常3ニア〜
8:2のものが會やすい。
アルミニウムの混d物中の両者の重量比は通常3ニア〜
8:2のものが會やすい。
本発明におけるアルキルアルミニウムハライドRは炭素
数1から10までのアルキル基であり、例エバ、エチル
基、n−プロピル基、イソブチル基である。 しかしア
ルキル基の存在は必須のことマはないから、nは、0,
1,1.5の内、任意の数字となる。
数1から10までのアルキル基であり、例エバ、エチル
基、n−プロピル基、イソブチル基である。 しかしア
ルキル基の存在は必須のことマはないから、nは、0,
1,1.5の内、任意の数字となる。
上記一般式で示される化合物の内、好ましい例を挙げれ
ば、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニ
ウムセスキクロライド、イソブチルアルミニウムジクロ
ライド、塩化アルミニウムである。 そしてこれらの化
合物を混合して用い、でも本発明を実施することができ
る。
ば、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニ
ウムセスキクロライド、イソブチルアルミニウムジクロ
ライド、塩化アルミニウムである。 そしてこれらの化
合物を混合して用い、でも本発明を実施することができ
る。
アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルアル
ミニウムの混合物に添加するアルキルアルミニウムハラ
イドの種類は、アルキル基が三者共同−であっても異な
っていてもさしつかえない。 また本発明に云うジアル
キルアルミニウムモノハライドとは、一般式〇1R,R
2Xで示される化合物である。
ミニウムの混合物に添加するアルキルアルミニウムハラ
イドの種類は、アルキル基が三者共同−であっても異な
っていてもさしつかえない。 また本発明に云うジアル
キルアルミニウムモノハライドとは、一般式〇1R,R
2Xで示される化合物である。
R,、R,は炭素数1から10までのアルキル基であり
、′例えば、エチル基、n−プロピル基、イソブチル基
である。そして同一であってもよ上記一般式で示される
化合物の内、例を挙げれば、ジエチルアルミニウムモノ
クロライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド
である。
、′例えば、エチル基、n−プロピル基、イソブチル基
である。そして同一であってもよ上記一般式で示される
化合物の内、例を挙げれば、ジエチルアルミニウムモノ
クロライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド
である。
次に、アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキ
ルアルミニウムの混合物に添加するアルキルアルミニラ
ムノ・ライドの本発明で特定する量は、トリアルキルア
ルミニウムの90モルチをジアルキルアルミニウムモノ
ハライドに変化させるに足る量以上の量である。 この
添加量は、混合物中のトリアルキルアルミニウムのアル
キルアルミニウムシノーライドと、アルキルアルミニウ
ムシノーライドの場合は、混合物中に存在するトリアル
キルアルミニウムの90モルチ以上添加せねばならない
。
ルアルミニウムの混合物に添加するアルキルアルミニラ
ムノ・ライドの本発明で特定する量は、トリアルキルア
ルミニウムの90モルチをジアルキルアルミニウムモノ
ハライドに変化させるに足る量以上の量である。 この
添加量は、混合物中のトリアルキルアルミニウムのアル
キルアルミニウムシノーライドと、アルキルアルミニウ
ムシノーライドの場合は、混合物中に存在するトリアル
キルアルミニウムの90モルチ以上添加せねばならない
。
塩化アルミニウムの場合は、同じく45モル俤以上添加
せねばならない。
せねばならない。
何故層ら、本発明に云うアルキルアルミニウムハライド
は次のようにそれぞれトリアルキルアルミニウムと反応
してジアルキルアルミニウムモノハライドを生ずる。
は次のようにそれぞれトリアルキルアルミニウムと反応
してジアルキルアルミニウムモノハライドを生ずる。
R3A1 Al2 RX、 −) 2j14R2X
R31ffi+ AIJ3 X3→3AfiR2X2R
s Afi+ Al2 Cjfls → 3A塁R
2(Jすなわち、アルキルアルミニウムシノーライドと
アルキルアルミニウムセスキノ・ライドはトリアルキル
アルミニウムの当量で反応してジアルキルチルミニラム
モノ・・ライドを生ずるが、塩化アルミニウムはトリア
ルキルアルミニウムの%当量セ反応してジアルキルアル
ミニウムモノハライドを生ずるから、本発明においてこ
れらはそれぞれ90′モルチ以上又は45モルチ以上添
加しなければならないことになる。
R31ffi+ AIJ3 X3→3AfiR2X2R
s Afi+ Al2 Cjfls → 3A塁R
2(Jすなわち、アルキルアルミニウムシノーライドと
アルキルアルミニウムセスキノ・ライドはトリアルキル
アルミニウムの当量で反応してジアルキルチルミニラム
モノ・・ライドを生ずるが、塩化アルミニウムはトリア
ルキルアルミニウムの%当量セ反応してジアルキルアル
ミニウムモノハライドを生ずるから、本発明においてこ
れらはそれぞれ90′モルチ以上又は45モルチ以上添
加しなければならないことになる。
またアルキルアルミニタム・・ライドの最大添加量は、
特に限定されないけれども、余シに多量に添加すること
は、アルキルアルミニウムハイドライドの濃度を低下さ
せ、また反応系の総量を増加させ、その結果として反応
速度の低下、反応容器の体積増加、使用熱量の増加など
工業的デメリットが増えるのみで格別これを1廻る効果
もなく好ましくな込。
特に限定されないけれども、余シに多量に添加すること
は、アルキルアルミニウムハイドライドの濃度を低下さ
せ、また反応系の総量を増加させ、その結果として反応
速度の低下、反応容器の体積増加、使用熱量の増加など
工業的デメリットが増えるのみで格別これを1廻る効果
もなく好ましくな込。
アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルアル
ミニウムの混合物にアルキルアルミニウムハライドを添
加する方法は、両者を直接混合しても良いし、溶媒で希
釈して混合しても良い。 殆どの場合混合によシ発熱す
るので、過熱しないように注意せねばならない。
ミニウムの混合物にアルキルアルミニウムハライドを添
加する方法は、両者を直接混合しても良いし、溶媒で希
釈して混合しても良い。 殆どの場合混合によシ発熱す
るので、過熱しないように注意せねばならない。
また一方が固体の場合は、溶媒に溶解させるか、懸濁さ
せて、反応させれば良い。懸濁した場合は、反応を促進
するためミーすることが好ましい0 本発明におけるノ・ロゲン化ケイ素を還元するン化ケイ
素から水素化ケイ素を製造する反応すべてを言っている
。 すなわち 81Cjt4+4ムfl E t 2 H−+5iT(
4+ 4Aj!Et 20ILの反応は勿論 5i(OEt)4+4ムfEt2H−+SiH4+4A
λgt、(ogt )の反応も本発明におけるハロゲン
化ケイ素を還元する反応で今る。本発明ではそのために
、アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルア
ルミニウムの混合物にアルキルアルミニウムハライドを
添加したものを用いる。
せて、反応させれば良い。懸濁した場合は、反応を促進
するためミーすることが好ましい0 本発明におけるノ・ロゲン化ケイ素を還元するン化ケイ
素から水素化ケイ素を製造する反応すべてを言っている
。 すなわち 81Cjt4+4ムfl E t 2 H−+5iT(
4+ 4Aj!Et 20ILの反応は勿論 5i(OEt)4+4ムfEt2H−+SiH4+4A
λgt、(ogt )の反応も本発明におけるハロゲン
化ケイ素を還元する反応で今る。本発明ではそのために
、アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルア
ルミニウムの混合物にアルキルアルミニウムハライドを
添加したものを用いる。
反応溶媒は、用いなくてもよいが、一般には、用いた方
が反応がゆるやかになるので好ましい。
が反応がゆるやかになるので好ましい。
反応溶媒については、還元反応の後、反応系に存在スる
アルキルアルミニウム類を回収するためには、アルキル
アルミニウム類と反応せず、錯体も作らな“溶竺が好ま
し“・特に脂肪族飽和炭化水素や芳香族炭化水素り;好
ましい。例えばヘプタン、オクタン、流動パラフィン、
ベンゼン、トルエン等である。
アルキルアルミニウム類を回収するためには、アルキル
アルミニウム類と反応せず、錯体も作らな“溶竺が好ま
し“・特に脂肪族飽和炭化水素や芳香族炭化水素り;好
ましい。例えばヘプタン、オクタン、流動パラフィン、
ベンゼン、トルエン等である。
一方、反応をより早く、よシ低温で行うためには、極性
溶媒例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが
用いられる。
溶媒例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが
用いられる。
ただしこの場合は、極性溶媒がアルキルアルミニウム類
と錯体よ作るので、蒸溜等の簡単な操作ではアルキルア
ルミニウム類を分離回収できず、その分離操作は非常に
困難に1なる〇四塩化炭素のようにアルキルアルミニウ
ム類と反応する溶媒を用いてはならない。
と錯体よ作るので、蒸溜等の簡単な操作ではアルキルア
ルミニウム類を分離回収できず、その分離操作は非常に
困難に1なる〇四塩化炭素のようにアルキルアルミニウ
ム類と反応する溶媒を用いてはならない。
反応温度は、低すぎれば反応が進行せず、高過ぎるとア
ルキルアルミニウム類が自己分解すること、“副反応が
起ることから一般には一30℃〜100℃の範囲が、好
ましくFi、o℃〜50℃の範囲が用いられる。
ルキルアルミニウム類が自己分解すること、“副反応が
起ることから一般には一30℃〜100℃の範囲が、好
ましくFi、o℃〜50℃の範囲が用いられる。
反応圧力は、常圧ないしは2m1p/ffi”(ゲージ
圧)で充分であるが、反応温度または装置との関係で、
減圧または加圧下で行っても良い0 この反応に使用する原料および生成物質は、いづれも活
性であり、特に酸素および水分と反応して分解または発
火するものが殆どであるから、必ず、反応は使用原料や
生成物質に対し不活性な雰囲気下で行なわねばならない
O 例えば、充分に脱酸素、脱水したヘリウム、アルゴン等
の不活性ガスや、チッ素、水素雰囲気下で反応を行なわ
なければならない。
圧)で充分であるが、反応温度または装置との関係で、
減圧または加圧下で行っても良い0 この反応に使用する原料および生成物質は、いづれも活
性であり、特に酸素および水分と反応して分解または発
火するものが殆どであるから、必ず、反応は使用原料や
生成物質に対し不活性な雰囲気下で行なわねばならない
O 例えば、充分に脱酸素、脱水したヘリウム、アルゴン等
の不活性ガスや、チッ素、水素雰囲気下で反応を行なわ
なければならない。
この反応は、バッチ方式、セミノクツチ方式、連続式の
いづれでも行うことができる。
いづれでも行うことができる。
本発明においては、安価なアルキルアルミニウムハイド
ライドとトリアルキルアルミニウムの混合物とノ・ロゲ
ン化ケイ素を原料にして、コストの高いアルキルアルミ
ニウムハイドライドと水素化ケイ素の併産を行うことも
できる。
ライドとトリアルキルアルミニウムの混合物とノ・ロゲ
ン化ケイ素を原料にして、コストの高いアルキルアルミ
ニウムハイドライドと水素化ケイ素の併産を行うことも
できる。
即ち、アルキルアルミニウム/(イドライドとトリアル
キルアルミニウムとアルキルアルミニウムハライドの三
者をアルキル基が同一なものを選び、王者のアルキルア
ルミニウム類に存在するアルキル基の量と、アルキルア
ルミニラムノ・応を行う。そうすると主目的の水素化ケ
イ素を得た後の反応の残渣から、蒸溜等の簡単な操作に
よシ単一のジアルキルアルミニウムモノハライドを得る
ことが出来る。
キルアルミニウムとアルキルアルミニウムハライドの三
者をアルキル基が同一なものを選び、王者のアルキルア
ルミニウム類に存在するアルキル基の量と、アルキルア
ルミニラムノ・応を行う。そうすると主目的の水素化ケ
イ素を得た後の反応の残渣から、蒸溜等の簡単な操作に
よシ単一のジアルキルアルミニウムモノハライドを得る
ことが出来る。
本発明の方法により製造される水素化ケイ素は、例えば
モノシラン、ジシラ/、ジエチルジヒドロシラン等であ
り、これらは有機合成原料、無機合成原料、燃料、触媒
等多数の用途があり、工業的に重要な化合物である。
モノシラン、ジシラ/、ジエチルジヒドロシラン等であ
り、これらは有機合成原料、無機合成原料、燃料、触媒
等多数の用途があり、工業的に重要な化合物である。
さらに本発明の方法によシ製造されたモノシランは、特
に不純物が少ないので、簡単な精製によシ各種半導体用
の原料とすることができる。
に不純物が少ないので、簡単な精製によシ各種半導体用
の原料とすることができる。
次に本発明を具体的に説明するために、実施例を示すが
、本発明はこの実施例のみに拘束されるものではない。
、本発明はこの実施例のみに拘束されるものではない。
実施例1
500−のステンレス製誘導攪拌式オートクレーブにガ
ス流量計を介在させて500−のステンレス製ガス捕集
用トラツヲを連結した。またオートクレーブには、外部
から流動パラフィンに溶解した四塩化ケイ素を装入する
定量ポンプを接続した。装入管はディラグ管にした。こ
れらの全系を反応前にヘリウム雰囲気にした。ガス捕集
用トラップを液体チッ素で冷却した。
ス流量計を介在させて500−のステンレス製ガス捕集
用トラツヲを連結した。またオートクレーブには、外部
から流動パラフィンに溶解した四塩化ケイ素を装入する
定量ポンプを接続した。装入管はディラグ管にした。こ
れらの全系を反応前にヘリウム雰囲気にした。ガス捕集
用トラップを液体チッ素で冷却した。
ジエチルアルミニウムハイドライド70wt%。
トリエチルアルミニウム30wt%の混合物、49.2
gを流動パラフィン50gで希釈した。この場合ジエチ
ルアルミニウムハイドライドijO,4モル、トリエチ
ルアルミニウムは0.129モル存在した。
gを流動パラフィン50gで希釈した。この場合ジエチ
ルアルミニウムハイドライドijO,4モル、トリエチ
ルアルミニウムは0.129モル存在した。
この混合物にエチルアルミニウムジクロライド16.4
F(0,129モル)を23m1の流動パラフィンに溶
解して滴下した。この量はトリエチルアルミニウムをジ
エチルアルミニウムモノクロライドに変化させるに必要
な量の100−E/に%である。
F(0,129モル)を23m1の流動パラフィンに溶
解して滴下した。この量はトリエチルアルミニウムをジ
エチルアルミニウムモノクロライドに変化させるに必要
な量の100−E/に%である。
この3種のアルキルアルミニウム化合物の混合物を容器
に入れて30℃にて2mmHjFの減圧下20分脱ガス
した。 しかるのち雰囲気をヘリウムにして、500−
オートクレーブに装入した。
に入れて30℃にて2mmHjFの減圧下20分脱ガス
した。 しかるのち雰囲気をヘリウムにして、500−
オートクレーブに装入した。
四塩化ケイ素17.op(o、tモル)を流動パラフィ
ン28gに溶解した。これを定量ポンプで、40℃r保
ったオートクレーブに2時間で圧入した。発生したモノ
シランガスはトラップに捕集した。
ン28gに溶解した。これを定量ポンプで、40℃r保
ったオートクレーブに2時間で圧入した。発生したモノ
シランガスはトラップに捕集した。
反応終了後ヘリウムで反応系内の残存モノシランガスを
トラップへ送シ出し、捕集した。
トラップへ送シ出し、捕集した。
トラップのガス組成は、ガスクロマトグラフ法で測定し
た。
た。
モノシランガスの生成量は2.04N−41であシ、収
率91%であった。
率91%であった。
モノシランに対するエタンの発生量(エタン/5iH4
)は0.15%、同じくモノシランに対するモノクロル
シランの発生量(、5iHsCjl/5iH4)は50
p pmであった。
)は0.15%、同じくモノシランに対するモノクロル
シランの発生量(、5iHsCjl/5iH4)は50
p pmであった。
比較例1
エチルアルミニウムジクロライドを添加しなかったこと
を除いては実施例1と全く同様に合成を行った。
を除いては実施例1と全く同様に合成を行った。
モノシランの生成量は0.29N−4,収率は131s
であった。
であった。
エタン/ si H4Fi、1.5チであった。
SiH,(J/SiH,i 2.1%テあった。
実施例2
実施例1の方法と同様の方法で、テトラエトキシシラン
の還元を行った。 ただし、アルキルアルミニウム類の
使用量は同じであるが、溶媒として流動パラフィンのか
わりに脱水脱酸素したトルエン7.0 mを用いた。
また流動パラフィンに溶解した四塩化ケイ素のかわりに
、テトラエトキシシランzo、5p(o、tモル)を脱
水脱−素したトルエン30−に溶解して用いた。
の還元を行った。 ただし、アルキルアルミニウム類の
使用量は同じであるが、溶媒として流動パラフィンのか
わりに脱水脱酸素したトルエン7.0 mを用いた。
また流動パラフィンに溶解した四塩化ケイ素のかわりに
、テトラエトキシシランzo、5p(o、tモル)を脱
水脱−素したトルエン30−に溶解して用いた。
区、応待間は1.3時間、反応温度は20℃であった。
合成したモノシランガスは1.97Niであり収率は8
8%であった。 またエタン/5iHnI!i0.3%
であった。
8%であった。 またエタン/5iHnI!i0.3%
であった。
比較例2
エチルアルミニウムジクロライドを添加しなかったこと
を除いては実施例2と全く同様に合成を行った。
を除いては実施例2と全く同様に合成を行った。
モノシランの生成量は1.IN−βであシ、収率は49
tsであった。
tsであった。
またエタン/SiH4は1.1 %であった。
実施例3
実施例1と全く同じ原料と装置を用いたが、4塩化ケイ
素17.Ofを流動パラフィン28jFに溶解してオー
トクレーブに装入しておき、これにジエチルアルミニウ
ムハイドライドとトリエチルアルミニウムの混合物49
.2Fにエチルアルミニウムジクロ2イド16.4Fを
2351の流動パラフィンに溶解して滴下した。3者の
混合物を脱ガスして後定量ポンプで2時間で装入した。
素17.Ofを流動パラフィン28jFに溶解してオー
トクレーブに装入しておき、これにジエチルアルミニウ
ムハイドライドとトリエチルアルミニウムの混合物49
.2Fにエチルアルミニウムジクロ2イド16.4Fを
2351の流動パラフィンに溶解して滴下した。3者の
混合物を脱ガスして後定量ポンプで2時間で装入した。
反応温度は40℃であった。
モノシランガスの生成量は、1.9ON−1収率は85
チであった。
チであった。
エタン/5i)f4#i0.18チ、81Hs CJ/
81Haは、12001)pmであった。
81Haは、12001)pmであった。
実施例4
ジイソブチルアルミニウムハイドライド75%。
トリイソブチルアルミニウム25俤の混合物75.7f
を脱水、脱酸素したn−へブタンsopに溶解した。こ
の場合ジイソブチルアルミニウムハイドライドは0.4
モル、トリイソブチルアルミニウムは0.096モル存
在した。この混合物にイソブチルアルミニウムジクロラ
イドxs、6tt(o、1モル)を20fのn−へブタ
ンに溶解して滴下した。 この量は、トリイソブチルア
ルミニウムをジイソブチルアルミニウムモノクロライド
に変化させるに必要な量の104モルチである。
を脱水、脱酸素したn−へブタンsopに溶解した。こ
の場合ジイソブチルアルミニウムハイドライドは0.4
モル、トリイソブチルアルミニウムは0.096モル存
在した。この混合物にイソブチルアルミニウムジクロラ
イドxs、6tt(o、1モル)を20fのn−へブタ
ンに溶解して滴下した。 この量は、トリイソブチルア
ルミニウムをジイソブチルアルミニウムモノクロライド
に変化させるに必要な量の104モルチである。
この3種のアルキルアルミニウム化合物の混合物をヘリ
ウム雰囲気下の500dオートクレーブに装入した。
ウム雰囲気下の500dオートクレーブに装入した。
四塩化ケ伺@ 17.0nl(0,1モル)をn−へブ
タン30jlに溶解した。あとの操作は実施例1と同様
に行った。
タン30jlに溶解した。あとの操作は実施例1と同様
に行った。
モノシランガスの生成量は、2,0ON−41であシ、
収率は89%であった。モノシランに対するブタ/の発
生量(ブタン/5iH4)は、0.16俤、5iH3(
J/5zH4は、200p1)mであった。
収率は89%であった。モノシランに対するブタ/の発
生量(ブタン/5iH4)は、0.16俤、5iH3(
J/5zH4は、200p1)mであった。
実施例5
ジエチルアルミニウムハイドライド70wt%、トリエ
チルアルミニウム3Qwt%の混合物49.21を流動
パラフィン5ayに希釈した。
チルアルミニウム3Qwt%の混合物49.21を流動
パラフィン5ayに希釈した。
これにエチルアルミニウムジクロライド16.4Fを2
3gの流動パラフィンに溶解して滴下した。
3gの流動パラフィンに溶解して滴下した。
この量はトリエチルアルミニウムをジエチルアルミニウ
ムモノクロライドに変化させるに必要な量と当量である
。 この3種のアルキルアルミニウム化合物の混合物を
ヘリウム雰囲気下の500−オートクレーブに装入した
。そのあとジエチル′ジクロルシラン15.7jlを流
動パラフィン3(lに溶解して装入した。40℃にて1
時間反応させた。
ムモノクロライドに変化させるに必要な量と当量である
。 この3種のアルキルアルミニウム化合物の混合物を
ヘリウム雰囲気下の500−オートクレーブに装入した
。そのあとジエチル′ジクロルシラン15.7jlを流
動パラフィン3(lに溶解して装入した。40℃にて1
時間反応させた。
液相をガスクロマトグラフ法によシ分析した結果、ジエ
チルシランの収率は95Isであった。
チルシランの収率は95Isであった。
実施例6〜8および比較例3.4
ジエチルアルミニウムハイドライドとトリエチルアルミ
ニウムの混合物中のトリエチルアルミニウムに対するエ
チルアルミニウムジクロライドの添加量の検討を行った
。
ニウムの混合物中のトリエチルアルミニウムに対するエ
チルアルミニウムジクロライドの添加量の検討を行った
。
装置および合成方法は実施例1と同様に行った〇ただし
ジエチルアルミニウムハイドライド5Qwt%とトリエ
チルアルミニウム5Qwt%の混合物を用いた。
ジエチルアルミニウムハイドライド5Qwt%とトリエ
チルアルミニウム5Qwt%の混合物を用いた。
実験条件と結果をまとめて第1表に示す。
第1表より明らかにエチルアルミニウムジクロライドの
添加量はトリエチルアルミニウムをジエチルアルミニウ
ムモノクロライドに変化させるに必要な量の90モルチ
以上であることが必要である。
添加量はトリエチルアルミニウムをジエチルアルミニウ
ムモノクロライドに変化させるに必要な量の90モルチ
以上であることが必要である。
第1表でハ、トリエチルアルミニウムに対するエチルア
ルミニウムジクロライドの添加量はモル比表示で■欄に
、また混合物中に初めに存在したトリエチルアルミニウ
ムがエチルアルミニウムジクロライドによりジエチルア
ルミニウムモノクロライドに変化した割合をモルチで(
II)欄に示した。
ルミニウムジクロライドの添加量はモル比表示で■欄に
、また混合物中に初めに存在したトリエチルアルミニウ
ムがエチルアルミニウムジクロライドによりジエチルア
ルミニウムモノクロライドに変化した割合をモルチで(
II)欄に示した。
、−1−・・−パ
/・′
実施例9.10および比較例5.6
ジエチルアルミニウムハイドライドとトリエチルアルミ
ニウムの混合物中のトリエチルアルミニウムに対する塩
化アルミニウムの添加量の検討を行った。
ニウムの混合物中のトリエチルアルミニウムに対する塩
化アルミニウムの添加量の検討を行った。
装置および合成方法は、実施例1と同様に行った。 た
だし、ジエチルアルミニウムハイドライド5Qwt%と
トリエチルアルミニウム5Qwt%の混合物を用いた
。
だし、ジエチルアルミニウムハイドライド5Qwt%と
トリエチルアルミニウム5Qwt%の混合物を用いた
。
またその混合物と塩化アルミニウムの反応は流動パラフ
ィン中で懸濁させ70℃で反応、溶解させた。
ィン中で懸濁させ70℃で反応、溶解させた。
実験結果をまとめて第2表に示す。
第2表B欄よシ明らかに、塩化アルミニウムの添加量は
、トリエチルアルミニウムをジエチルアルミニウムモノ
クロライドに変化させるに必要な量の90モルチ以上で
あることが必要であるO 第2表ではトリエチルアルミニウムに対する塩化アルミ
ニウムの添加量をモル比表示で(I)欄に、また混合物
中に初めに存在したトリエチルアルミニウムが塩化アル
ミニウムによシジエチルアルミニウムモノクロライドに
変化した割合をモルチ表示で([I)欄に示した。
、トリエチルアルミニウムをジエチルアルミニウムモノ
クロライドに変化させるに必要な量の90モルチ以上で
あることが必要であるO 第2表ではトリエチルアルミニウムに対する塩化アルミ
ニウムの添加量をモル比表示で(I)欄に、また混合物
中に初めに存在したトリエチルアルミニウムが塩化アル
ミニウムによシジエチルアルミニウムモノクロライドに
変化した割合をモルチ表示で([I)欄に示した。
Claims (1)
- アルキルアルミニウムハイドライドとトリアルキルアル
ミニウムの混合物を用いて;・ロゲン化ケイ素を還元し
、水素化ケイ素を製造する際に、トリアルキルアルミニ
ウムの90モルチ以 ′上をジアルキルアルミニウムモ
ノハライドに変、化させるに足る量のアルキルアルミニ
ウムハライドを該混合物中に予め添加することを特徴と
する水素化ケイ素の新しい製造方法。
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
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US06/485,121 US4542005A (en) | 1981-07-08 | 1982-07-06 | Process for preparing silicon hydrides |
PCT/JP1982/000254 WO1983000140A1 (en) | 1981-07-08 | 1982-07-06 | Novel process for producing silicon hydride |
DE8282901984T DE3262134D1 (en) | 1981-07-08 | 1982-07-06 | Novel process for producing silicon hydride |
EP82901984A EP0083374B1 (en) | 1981-07-08 | 1982-07-06 | Novel process for producing silicon hydride |
CA000406871A CA1203668A (en) | 1981-07-08 | 1982-07-08 | Process for preparing a silicon hydride |
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---|---|---|---|
JP56105706A JPS589809A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | 水素化ケイ素の新しい製造方法 |
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DE (1) | DE3262134D1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
WO1984002517A1 (en) * | 1982-12-21 | 1984-07-05 | Mitsui Toatsu Chemicals | Process for preparing silanes |
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JPH0328305A (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-06 | Kawasaki Steel Corp | 鉄あるいは非鉄鉱石の流動層式予備還元炉 |
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US4757154A (en) * | 1986-11-04 | 1988-07-12 | Ethyl Corporation | Preparation of silane and amine alanes |
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JPH05334952A (ja) * | 1992-05-21 | 1993-12-17 | Ind Technol Res Inst | 回路遮断器 |
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DE102007000841A1 (de) * | 2007-10-09 | 2009-04-16 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Hexachlordisilan |
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Family Cites Families (6)
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DE1049835B (de) * | 1959-02-05 | Kali-Chemie Aktiengesellschaft, Hannover | Verfahren zur Herstellung von Siliciumhydriden | |
GB781533A (en) * | 1954-09-18 | 1957-08-21 | Kali Chemie Ag | Process for the preparation of silicon compounds |
US3099672A (en) * | 1955-12-19 | 1963-07-30 | Gen Electric | Reduction of halogen-containing silicon compounds |
DE1288089B (de) * | 1965-11-15 | 1969-01-30 | Stauffer Chemical Company, New York, N.I. (V.St.A.) | Verfahren zur vollständigen Reduktion von Organosiliciumverbindungen |
US3496206A (en) * | 1967-06-01 | 1970-02-17 | Gen Electric | Method for making silicon hydrides |
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-
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- 1981-07-08 JP JP56105706A patent/JPS589809A/ja active Granted
-
1982
- 1982-07-06 EP EP82901984A patent/EP0083374B1/en not_active Expired
- 1982-07-06 WO PCT/JP1982/000254 patent/WO1983000140A1/ja active IP Right Grant
- 1982-07-06 US US06/485,121 patent/US4542005A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-07-06 DE DE8282901984T patent/DE3262134D1/de not_active Expired
- 1982-07-08 CA CA000406871A patent/CA1203668A/en not_active Expired
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1984002517A1 (en) * | 1982-12-21 | 1984-07-05 | Mitsui Toatsu Chemicals | Process for preparing silanes |
JPS59179726A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-12 | Kawasaki Steel Corp | 難還元性鉱石の予備還元法 |
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JPH0328305A (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-06 | Kawasaki Steel Corp | 鉄あるいは非鉄鉱石の流動層式予備還元炉 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO1983000140A1 (en) | 1983-01-20 |
EP0083374A1 (en) | 1983-07-13 |
EP0083374B1 (en) | 1985-01-30 |
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EP0083374A4 (en) | 1983-07-04 |
CA1203668A (en) | 1986-04-29 |
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US4542005A (en) | 1985-09-17 |
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