JPS6150993A - ２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシルタイロノライド誘導体およびその製造法 - Google Patents
２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシルタイロノライド誘導体およびその製造法Info
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- JPS6150993A JPS6150993A JP59171748A JP17174884A JPS6150993A JP S6150993 A JPS6150993 A JP S6150993A JP 59171748 A JP59171748 A JP 59171748A JP 17174884 A JP17174884 A JP 17174884A JP S6150993 A JPS6150993 A JP S6150993A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野） ゛
゛本発明は、抗菌活性を示すマクロラクトン化合物およ
び該化合物の製造法に関する。本発明の化合物は、下記
一般式で示される２３．位ぶ塩基性基で置換されたマイ
カミノシルクイロノライド誘導体である。
び該化合物の製造法に関する。本発明の化合物は、下記
一般式で示される２３．位ぶ塩基性基で置換されたマイ
カミノシルクイロノライド誘導体である。
（式中、Ｒ１は、低級アルキル基または、シクロアルキ
ル基を、Ｒ′は、炭素数がｌ〜ＩＱの分枝を有していて
もよｔ・アルコキシ基、アリルオキシ基、テトラヒドロ
フラニル基、フラニル基、ヘンシルオキシ基マたはベン
ズヒドリルオキシ基を、ｎはｌ乃至２の整数を。
ル基を、Ｒ′は、炭素数がｌ〜ＩＱの分枝を有していて
もよｔ・アルコキシ基、アリルオキシ基、テトラヒドロ
フラニル基、フラニル基、ヘンシルオキシ基マたはベン
ズヒドリルオキシ基を、ｎはｌ乃至２の整数を。
意味する。）で示される基または
（式中 Ｒ５とＲ６とは１両者同じであるかまたは相互
て異って水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級アルコキシメチル基またはベンジルオキシメチル
基を、Ｘは、メチン・イ基または酸素原子を、意味する
。
て異って水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級アルコキシメチル基またはベンジルオキシメチル
基を、Ｘは、メチン・イ基または酸素原子を、意味する
。
また、１は前記と同じである。）で示される基を Ｂ２
は、水素原子または水酸基を、意味する。コ は：：：二５８゜。１＋ ７Ｗ、ｉ ／ ｙ ／？ ｐ
４コノライドまたは該化合物の４′位の水酸基が脱離
された４′−デオキ７マイカミノシルクイロノライドの
２３位が塩基性置換基で置換されている点に化学構造上
の゛特徴を有する新規化合物である。
は、水素原子または水酸基を、意味する。コ は：：：二５８゜。１＋ ７Ｗ、ｉ ／ ｙ ／？ ｐ
４コノライドまたは該化合物の４′位の水酸基が脱離
された４′−デオキ７マイカミノシルクイロノライドの
２３位が塩基性置換基で置換されている点に化学構造上
の゛特徴を有する新規化合物である。
かかる化合物を掲記した文献は存在しな（・。
（目的化合物の具体的説明）
上記一般式（Ｉ） Ｋ包含される化合物をさらに説明す
ると次の通力である。
ると次の通力である。
本明細書の一般式の基の定義忙おいて「低級」なる語は
、炭素数１、〜４個を有する直鎖状または。
、炭素数１、〜４個を有する直鎖状または。
分枝状の炭素鎖を意味する。従って、上記一般式ＣＩ）
及び後記の一般式において、「低級アルキル基」として
は、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基。
及び後記の一般式において、「低級アルキル基」として
は、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基。
インブチル基・ノ１１ピ血リープチル基、 ｔｅｒｔ
−ブチル基が、「低級アルコキシ基」としては、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ等が挙げら
れる。
−ブチル基が、「低級アルコキシ基」としては、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ等が挙げら
れる。
また「シクロアルキル基」としては、炭素数５乃至６個
を有するシクロペンチル基、シクロヘキシル基を、「ハ
ロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等が挙げられる。
を有するシクロペンチル基、シクロヘキシル基を、「ハ
ロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等が挙げられる。
「炭素数が１〜１０の分枝を有していてもよいアルコキ
シ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、インプロポキシ基、ブトキシ基、インブトキシ基、
５ｅｅ−ブトキシ基。
シ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、インプロポキシ基、ブトキシ基、インブトキシ基、
５ｅｅ−ブトキシ基。
ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペ
ンチルオキシ基、１−メチルブトキシ基。
ンチルオキシ基、１−メチルブトキシ基。
２−メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｌ−エ
チルプロポキシ基、 １．１−ジメチルプロポキシ基、
ｎ−へキシルオキシ基。
チルプロポキシ基、 １．１−ジメチルプロポキシ基、
ｎ−へキシルオキシ基。
インへキシルオキシ基、ｌ−メチルペンチルオキシ基、
２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペノチルオキ
シ基、１．ｌ−ジメチルブトキシ基≠４億−ジメチルブ
トキシ基、２．２−ジメチルブトキシ基、 ２．３−
’ジメチルブトキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基、
１−エチルブトキシ基、２−エチルブトキシ基、 １
，１．２−トリメチルプロポキシ基、 １，２．２−
） ！Ｊメチルプロポキシ基、１−エチル−２−メチ
ルプロポキシ基、ｎ−へブチルオキシ基、イソへブチル
オキシ基、２−メチルへキシルオキシ基、３−メ゛ チ
ルヘキシルオキシ基、４−メチルへキシルオ゛キシ基、
４−メチルへキシルオキシ基、 ２．２−ジメチルペ
ンチルオキシ基、２，３−ジメチルペンチルオキシ基、
３．３−ツメチルペンチルオキシ基、３，４−ジメ
チルペンチルオキシ基、４，４−ジメチルペンチルオキ
シ基、２−エチル−２−メチルブトキシ基、２−エチル
−３−メチルブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イン
オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、インノニルオ
キシ基、ｎ−デシルオキシ基、インデシルオキシ基等が
挙げられる。
２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペノチルオキ
シ基、１．ｌ−ジメチルブトキシ基≠４億−ジメチルブ
トキシ基、２．２−ジメチルブトキシ基、 ２．３−
’ジメチルブトキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基、
１−エチルブトキシ基、２−エチルブトキシ基、 １
，１．２−トリメチルプロポキシ基、 １，２．２−
） ！Ｊメチルプロポキシ基、１−エチル−２−メチ
ルプロポキシ基、ｎ−へブチルオキシ基、イソへブチル
オキシ基、２−メチルへキシルオキシ基、３−メ゛ チ
ルヘキシルオキシ基、４−メチルへキシルオ゛キシ基、
４−メチルへキシルオキシ基、 ２．２−ジメチルペ
ンチルオキシ基、２，３−ジメチルペンチルオキシ基、
３．３−ツメチルペンチルオキシ基、３，４−ジメ
チルペンチルオキシ基、４，４−ジメチルペンチルオキ
シ基、２−エチル−２−メチルブトキシ基、２−エチル
−３−メチルブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イン
オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、インノニルオ
キシ基、ｎ−デシルオキシ基、インデシルオキシ基等が
挙げられる。
（発明の効果）
本発明の目的化合物（Ｉ）はグラム陽性およびグラム陰
性に属する広範囲の微生物に対し抗菌活性を示し、また
、静脈注射による急性毒性も非常に弱いという特徴をも
つ。
性に属する広範囲の微生物に対し抗菌活性を示し、また
、静脈注射による急性毒性も非常に弱いという特徴をも
つ。
次表に化合物（Ｉ）の最少発育阻止濃度を示す。
（製造法の具゛一体的説明り
本発明の目的化合物（Ｉ）は次の方法によって製造する
ことができる。
ことができる。
化合物（Ｉ）
１式中、Ｂはハロゲン原子を意味する。また。
Ｒ”、ＴＬ２．Ａは前記と同じである。〕本方法を行さ
に社、化合物（ＩＩ）で示されるアルデヒド基が保護さ
れたマイカミノフルタイロノライドまたはその４′−デ
オキシ誘導体（ｎ） Ｋ 。
に社、化合物（ＩＩ）で示されるアルデヒド基が保護さ
れたマイカミノフルタイロノライドまたはその４′−デ
オキシ誘導体（ｎ） Ｋ 。
アミノ化合物（Ｒ１−Ｈ）を反応させ（第１工程）。
次いでアルデヒド基の保饅基を除去すること（第２工程
）により行うことができる。
）により行うことができる。
原料化合物において「保護されたアルデヒド基」として
は、アセタールまたはチオアセタールで保護されたもの
で、具体的には、ジメチルアセタール、ジエチルアセタ
ール、ジエチルチオアセタール、エチレンアセタール、
エチレンチオアセタール、プロピレンアセタールまたは
これらにメチル基などの置換基を有するものである。
は、アセタールまたはチオアセタールで保護されたもの
で、具体的には、ジメチルアセタール、ジエチルアセタ
ール、ジエチルチオアセタール、エチレンアセタール、
エチレンチオアセタール、プロピレンアセタールまたは
これらにメチル基などの置換基を有するものである。
化合物（ｎ）と化合物（ＩＩｉ）との反応は１通常アセ
トニトリル、テトラヒトΩフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、エーテルなどの非プロトン性の溶媒中
で、室温下または加熱還流下に行うことができる。
トニトリル、テトラヒトΩフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、エーテルなどの非プロトン性の溶媒中
で、室温下または加熱還流下に行うことができる。
得られた化合物（ＥＶ）は次いでアルデヒド基の保ｍ基
を除−去、する（第２工葡司貴保護基の除去は１通常、
塩酸、硫酸などの無機酸またはトリフルオロ酢酸、トリ
クロル酢酸などの有機酸で処理することによって行われ
る。
を除−去、する（第２工葡司貴保護基の除去は１通常、
塩酸、硫酸などの無機酸またはトリフルオロ酢酸、トリ
クロル酢酸などの有機酸で処理することによって行われ
る。
こうして生成した目的化合物（Ｉ）は、有機溶媒による
抽出、カラムクΩマドグラフィー等に付して単離、精製
される。
抽出、カラムクΩマドグラフィー等に付して単離、精製
される。
得られた目的化合物（Ｉ）は通常の製剤用担体る用いて
０錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤。
０錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤。
注射剤等に調製して、経口的または非経口的に投与する
ことができる。
ことができる。
投与＆！−，１Ｅｌｃツき、 ｔｏ 〜ｉ、ｏｏｏ
ｍｇを１日１〜４回″行うのが適当である。つぎに２本
鼻明をさらに説明するため、前記一般式（Ｉ）Ｋ包含さ
れる下表の化合物について実−施例な掲記する。
ｍｇを１日１〜４回″行うのが適当である。つぎに２本
鼻明をさらに説明するため、前記一般式（Ｉ）Ｋ包含さ
れる下表の化合物について実−施例な掲記する。
実施例 １
１．０ｇの２３４′−ジデオキシ−２３−ヨードマイカ
ミノシルクイロノライド ７エチル アセタールトＮ−
（２−メトキシエチル）−Ｎ−エチルアミン６８０１Ｔ
Ｉｇを１０ ｍｌのアセトニトリルに溶解し、２時間加
熱還（１した。反応終了後反応液を濃縮し。
ミノシルクイロノライド ７エチル アセタールトＮ−
（２−メトキシエチル）−Ｎ−エチルアミン６８０１Ｔ
Ｉｇを１０ ｍｌのアセトニトリルに溶解し、２時間加
熱還（１した。反応終了後反応液を濃縮し。
得られた残渣なりロロホルムで溶解し、水、飽和炭酸水
素ナトリウム水、水の順で各１回洗浄後。
素ナトリウム水、水の順で各１回洗浄後。
クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮し
た。
た。
得られた残渣を８ ｒｎＬの０．５Ｎ塩酸に溶解し、６
０分間反応させ、アセタール基を水解した。反応液に４
．２ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水を加えて反応を停
止後、クロロホルムにて２回抽出した。クロロホルム層
を合わせ水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮
後得られた残渣をシリカゲル［ワコーゲルＣ−２００、
溶媒系クロロホルム−メタノール−２８％アンモニア水
（１５： １ ： ０．１ ） ］カラムＩｃ テＭｌ
製Ｌ ７８０ ｍｇ （収率８９％） ノ２３．４’−
ジデオキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ
−エチルアミノ）］マイカミノシルクイロノライドを得
た。
０分間反応させ、アセタール基を水解した。反応液に４
．２ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水を加えて反応を停
止後、クロロホルムにて２回抽出した。クロロホルム層
を合わせ水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮
後得られた残渣をシリカゲル［ワコーゲルＣ−２００、
溶媒系クロロホルム−メタノール−２８％アンモニア水
（１５： １ ： ０．１ ） ］カラムＩｃ テＭｌ
製Ｌ ７８０ ｍｇ （収率８９％） ノ２３．４’−
ジデオキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ
−エチルアミノ）］マイカミノシルクイロノライドを得
た。
Ｏ元素分析 ｃ３ａ Ｈ６□、Ｎ２０．として０％
６％ Ｎ％ 実験値 ６５．．０１ ９．２５ ４．．３．２計
算値 ６４．８４ ９．３７ ４．Ｚ００比旋比変
光 ［α］＋２７°（ｃｉ、ｏ、 ＣＨＣｌ３ ）１５
８．１１６゜ ０核磁気共鳴スペクトル（ＰＭＲ） （δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ ｉｎ ＣＤＣｌ３
）δ： １．８０ ［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ、 Ｍｅ
（２２） ］、 ２．２７（６［（＋ Ｓ ＋ ３’−
ＮＭｅ２ ） ｙ ３．３３ （３Ｈ＋ Ｓ ＋ ＯＭ
ｅ ） 。
６％ Ｎ％ 実験値 ６５．．０１ ９．２５ ４．．３．２計
算値 ６４．８４ ９．３７ ４．Ｚ００比旋比変
光 ［α］＋２７°（ｃｉ、ｏ、 ＣＨＣｌ３ ）１５
８．１１６゜ ０核磁気共鳴スペクトル（ＰＭＲ） （δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ ｉｎ ＣＤＣｌ３
）δ： １．８０ ［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ、 Ｍｅ
（２２） ］、 ２．２７（６［（＋ Ｓ ＋ ３’−
ＮＭｅ２ ） ｙ ３．３３ （３Ｈ＋ Ｓ ＋ ＯＭ
ｅ ） 。
４．２２（ＩＨ，ｄ、’ Ｊ ｌ’、２’、 ７．５Ｈ
ｚ、 Ｈ１’ ）、 ４．７５（ＩＨ，ｍ、 Ｈ１５
）、 ５．６６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈ２゜
Ｈ１３） 、６．２８ （ＬＨ＋ ｄ ＋ Ｊ ｔｏ、
ｏ １６Ｈｚ ＋ Ｈ１０） ＋７．３６（ＬＨ，ｄ、
Ｈ−１１）、 ９．７５（ＬＨ，ｓ、、、 Ｈ２０）
。
ｚ、 Ｈ１’ ）、 ４．７５（ＩＨ，ｍ、 Ｈ１５
）、 ５．６６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈ２゜
Ｈ１３） 、６．２８ （ＬＨ＋ ｄ ＋ Ｊ ｔｏ、
ｏ １６Ｈｚ ＋ Ｈ１０） ＋７．３６（ＬＨ，ｄ、
Ｈ−１１）、 ９．７５（ＬＨ，ｓ、、、 Ｈ２０）
。
実施例 ２゜
１．０ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマイ
カミノシルクイロノライド ジエチル アセタールと０
．７６ ｇの２，６−ジメチルモルホリンをｌｏｍｔの
アセトニ） ＩＪルに溶解し２時間加熱還流した。反応
液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解し。
カミノシルクイロノライド ジエチル アセタールと０
．７６ ｇの２，６−ジメチルモルホリンをｌｏｍｔの
アセトニ） ＩＪルに溶解し２時間加熱還流した。反応
液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解し。
水、飽和炭酸水素すｌ−ＩＪウム水溶液、水の順で各１
回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
得られた残渣を１６ｍｔの０．５Ｎ塩酸に溶解し、６０
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に８．
４ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を
停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に８．
４ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を
停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−
ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（２０：ｌ ：０．１）］カラムにて
精製しＱ、６０ｇ （収率６８％）の２３．４’ −ジ
デオキシ−２３−（２，６−ジメチルモルホリノ）マイ
カミノソルタイロノライドを得た。
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−
ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（２０：ｌ ：０．１）］カラムにて
精製しＱ、６０ｇ （収率６８％）の２３．４’ −ジ
デオキシ−２３−（２，６−ジメチルモルホリノ）マイ
カミノソルタイロノライドを得た。
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
ｌ３ ） ： １．８０［３Ｈ。
ｌ３ ） ： １．８０［３Ｈ。
ｓ、Ｍｅ（２２）］、２．２８（６Ｈ，ｓ、３’−ＮＭ
ｅ２）。
ｅ２）。
４．２２（ＬＨ，ｄ、 Ｊ＋’、２’７．５Ｈｚ、
Ｈ−１’＞、 ４．７８（ＩＨ，ｍ、 Ｈ１５）、
５．７８（ＩＨ，ｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈ２゜Ｈ
１３）、 ６．３０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｏ、ｕ１６Ｈｚ
、 Ｈ１０）。
Ｈ−１’＞、 ４．７８（ＩＨ，ｍ、 Ｈ１５）、
５．７８（ＩＨ，ｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈ２゜Ｈ
１３）、 ６．３０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｏ、ｕ１６Ｈｚ
、 Ｈ１０）。
７．３６（ＬＨ，ｄ、Ｈ１１）、９．７６（ＩＨ，ｓ、
Ｈ−２０）。
Ｈ−２０）。
実施例 ３゜
１．０ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマイ
カミノシルクイロノライド ジエチル アセタールト０
．６７ｇのホモモルホリンを１０ｍ７のアセトニトリル
に溶解し２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、得られ
た残渣をクロロホルムで溶解し。
カミノシルクイロノライド ジエチル アセタールト０
．６７ｇのホモモルホリンを１０ｍ７のアセトニトリル
に溶解し２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、得られ
た残渣をクロロホルムで溶解し。
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で各１回洗
浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥しａｇした。
浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥しａｇした。
得られた残渣な８ ｍｌの０．５ Ｎ塩酸に溶解し、６
０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液Ｋ
４．２ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルムてて２回抽出した。
０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液Ｋ
４．２ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルムてて２回抽出した。
クロロホルムを合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−ケ
ルＣ−２ｏｏ、溶媒系クロロホルム−メタ） −／ｌ／
−２８％アンモニア水（１５： １ ： ０．１ ）
コカラムにて精製し６５０１１１ｇ （収率７４％）の
２３．４’ −ジデオキシ−２３−ホモモルホリノマイ
ヵミノシルタイロノライドを得た。
燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−ケ
ルＣ−２ｏｏ、溶媒系クロロホルム−メタ） −／ｌ／
−２８％アンモニア水（１５： １ ： ０．１ ）
コカラムにて精製し６５０１１１ｇ （収率７４％）の
２３．４’ −ジデオキシ−２３−ホモモルホリノマイ
ヵミノシルタイロノライドを得た。
ＭＡＳＳ （ｒｒｖ’ｅ ）： ６６４［Ｍ＋コ、
５３６，４９６，３８９゜１７４、１５９．１１
５ ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ 、 ｉｎ ＣＤ
Ｃｌ３ ） ： １．７９［３Ｈ，ｄ。
５３６，４９６，３８９゜１７４、１５９．１１
５ ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ 、 ｉｎ ＣＤ
Ｃｌ３ ） ： １．７９［３Ｈ，ｄ。
Ｊ−ＩＨｚ、 Ｍｅ（２２）工 ２．２８（６Ｈ，ｓ
、３’ ＮＭｅ、、）。
、３’ ＮＭｅ、、）。
４．２３（ＩＨ，ｄ、 Ｊｌｌ、２Ｉ７．５Ｈｚ、 Ｈ
−１’）、 ４．７８（ＩＨ。
−１’）、 ４．７８（ＩＨ。
ｍ、 Ｈ１５）、 ５．８０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ１３．＋
４１０Ｈｚ。
４１０Ｈｚ。
Ｈ１３）、 ６．３１（ＩＨ，ｄ、 、Ｌｏ、＋４１０
Ｈｚ、 Ｈ１０）。
Ｈｚ、 Ｈ１０）。
７．３６（ＩＨ，ｄ、 Ｈ１１）、 ９．７６（ＬＨ，
ｓ、 Ｈ−２０）。
ｓ、 Ｈ−２０）。
実施例 ４゜
２．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと１．４ｇの
Ｎ−（２−メトキシエチル−Ｎ−エチルアミンを２０
ｍｌのアセトニトリルに溶解し２時間加熱還流した。反
応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解し、
水、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液、水の順で各１
回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと１．４ｇの
Ｎ−（２−メトキシエチル−Ｎ−エチルアミンを２０
ｍｌのアセトニトリルに溶解し２時間加熱還流した。反
応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解し、
水、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液、水の順で各１
回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
得られた残渣を１６ ｔｎｌの０．５Ｎ塩酸に溶解し、
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
８．４ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
８．４ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合°わせ、水洗後無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ
−ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−
２８％アンモニア水（１ｏ ： １ ：０．１） ］カ
ラムにて稍製し＋ １．１０ｇ （収率６１％）の２３
−デオキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ
−二チルアミノ］マイカミノシルクイロノライドを得た
。
で乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ
−ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−
２８％アンモニア水（１ｏ ： １ ：０．１） ］カ
ラムにて稍製し＋ １．１０ｇ （収率６１％）の２３
−デオキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ
−二チルアミノ］マイカミノシルクイロノライドを得た
。
Ｂｒ
ＰＭＲ［δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
ｌ３ ） ： １．８０（３Ｈ，ｄ。
ｌ３ ） ： １．８０（３Ｈ，ｄ。
、Ｊ−ＩＨｚ 、Ｍｅ（２２）工 ２．５０（６Ｈ，ｓ
、３’ −ＮＭｅ２）。
、３’ −ＮＭｅ２）。
３．３２（３Ｈ，ｓ、 ＯＭｅ）、 ４．２８（ＩＨ，
ｄ、 Ｊ１’２’７．５Ｈｚ、 Ｈ１’）、 ４．７５
（ＬＨ，ｍ、Ｈ１５）。
ｄ、 Ｊ１’２’７．５Ｈｚ、 Ｈ１’）、 ４．７５
（ＬＨ，ｍ、Ｈ１５）。
５．７７（ＩＨ，ｄ、 Ｊｒ３＋４１０Ｈｚ、 Ｈ１３
）、 ６．２６（ｌＨ，ｄ、 Ｊｌｏ、＋４１０Ｈｚ、
Ｈ１０）、 ７．３７（ＬＨ。
）、 ６．２６（ｌＨ，ｄ、 Ｊｌｏ、＋４１０Ｈｚ、
Ｈ１０）、 ７．３７（ＬＨ。
ｄ、 Ｈ−１１）、 ９．７２（ＩＨ，＋、 Ｈ−２０
）。
）。
実施例 ５゜
１．７ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルタイロノライド ジメチル アセタールと１．１４ｇ
のホモモルホリンを１７ｍＡのアセトニトリルに溶解し
２時間加熱還流した。反応液を濃縮し。
ルタイロノライド ジメチル アセタールと１．１４ｇ
のホモモルホリンを１７ｍＡのアセトニトリルに溶解し
２時間加熱還流した。反応液を濃縮し。
得られた残渣をクロロホルムで溶解し、水、飽和炭酸水
素す） ＩＪウム水溶液、水の順で各１回洗浄後無水硫
酸ナト’ＩＪウムにて乾燥し濃縮した。
素す） ＩＪウム水溶液、水の順で各１回洗浄後無水硫
酸ナト’ＩＪウムにて乾燥し濃縮した。
得られ廿テｆをｌＡ：、”ｍｔの０．５ Ｎ塩酸に溶解
し、 ６０分間反応させてアセタール基を水解した。反
応液に７．２ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加え
て反応を停止後、クロロボルムにて２回抽出した。
し、 ６０分間反応させてアセタール基を水解した。反
応液に７．２ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加え
て反応を停止後、クロロボルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカケル［フコ−
ケルＣ−２００，溶媒系クロロホ／Ｌ／ ムーメタノー
ルー２８％アンモニア水（１０：１：０．１）コカラム
にて精製し１．１６ｇ （収率７５％）の２３−デオキ
シ−２３−ホモモルホリノマイヵミノシルクイロノライ
ドを得た。
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカケル［フコ−
ケルＣ−２００，溶媒系クロロホ／Ｌ／ ムーメタノー
ルー２８％アンモニア水（１０：１：０．１）コカラム
にて精製し１．１６ｇ （収率７５％）の２３−デオキ
シ−２３−ホモモルホリノマイヵミノシルクイロノライ
ドを得た。
４２５、１７４．１３２．１１４ 。
ＩＲ（ａｍ−ｚ ） ： １７１０．１６６５．１
５９０゜（ＫＢｒ） ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
ｌ３ ）、 ： １．８０［ＩＦ（、ｄ。
５９０゜（ＫＢｒ） ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
ｌ３ ）、 ： １．８０［ＩＦ（、ｄ。
Ｊ〜ＩＨｚ、 Ｍｅ（２２）］、 ２．５０（６Ｈ，ｓ
、３’ ＮＭｅ、、）。
、３’ ＮＭｅ、、）。
４．２７（ｌＨｌｄｌ Ｊｌ’、２’７．５Ｈｚ、 Ｈ
−１’）、 ４．７８（Ｉｆ（、ｍ、 ｆ（１５）１５
．７８（ＩＪｄ） Ｊ１３．＋４１０８Ｚ。
−１’）、 ４．７８（Ｉｆ（、ｍ、 ｆ（１５）１５
．７８（ＩＪｄ） Ｊ１３．＋４１０８Ｚ。
１（−１３）、 ６．２９（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｏ、ｏ１
６Ｈｚ、 Ｈ１０）＋７．３４（ＬＨ，ｄ、 Ｈ−１１
）、 ９．７３（ＩＨ，ｓ、 Ｈ−２０）。
６Ｈｚ、 Ｈ１０）＋７．３４（ＬＨ，ｄ、 Ｈ−１１
）、 ９．７３（ＩＨ，ｓ、 Ｈ−２０）。
実施例 ６゜
２．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．１ｇの
Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−シクロヘキシルアミ
ンを２０ ｒｎｌのアセトニトリルに溶解し６時間加熱
還流した。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホル
ムで溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の
順で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮し
た。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．１ｇの
Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−シクロヘキシルアミ
ンを２０ ｒｎｌのアセトニトリルに溶解し６時間加熱
還流した。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホル
ムで溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の
順で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮し
た。
得られた残渣を１３ｍｔのＩＮ塩酸に溶解し、６０分間
反応させてアセタール基を水解した。反応液に１４ｍ１
のＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を停止後、
クロロホルムにて２回抽出した。クロロホルム層を合わ
せ、水洗後無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥し、濃縮した
。得られた残渣をシリカゲル［１７−ｘ−ケルｃ−２０
０１溶媒系クロロホルム−メタノール−２８％アンそニ
ア水（１０：１：０．１）］カラムにて精製し１．１０
ｇ （収率５６％）の２３−デオキシ−２３−［Ｎ−（
２−メトキシエチル）−Ｎ−シクロヘキシルアミノコマ
イカミノシルタイロノライドを得た。
反応させてアセタール基を水解した。反応液に１４ｍ１
のＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を停止後、
クロロホルムにて２回抽出した。クロロホルム層を合わ
せ、水洗後無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥し、濃縮した
。得られた残渣をシリカゲル［１７−ｘ−ケルｃ−２０
０１溶媒系クロロホルム−メタノール−２８％アンそニ
ア水（１０：１：０．１）］カラムにて精製し１．１０
ｇ （収率５６％）の２３−デオキシ−２３−［Ｎ−（
２−メトキシエチル）−Ｎ−シクロヘキシルアミノコマ
イカミノシルタイロノライドを得た。
１７４、１７０゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．８０［３Ｈ＋ｄ＋Ｊ〜ＩＨｚ、 Ｍ
ｅ（２２） ］、 ２．５１（６Ｈ，ｓ、 ３’−ＮＭ
ｅｚ）。
１３） ： １．８０［３Ｈ＋ｄ＋Ｊ〜ＩＨｚ、 Ｍ
ｅ（２２） ］、 ２．５１（６Ｈ，ｓ、 ３’−ＮＭ
ｅｚ）。
３．３２（３Ｈ，ｓ、 ＯＭｅ）、 ４．２８（ＩＨ
，ｄ、 Ｊｌ’、２’７．５Ｈｚ、 Ｈ−１’）、 ４
．７４（ＩＨ，ｍ、 Ｋ−１５）、 ５．７５（ＬＨ９
ｄ＋ Ｊ１３，１４１０Ｈ１Ｉ Ｈ１３）＋ ６−２６
（ｌＨ＋ｄ＋ＪＩＧ、１１１６Ｈ１，Ｈ１０）、 ７
．３４（ＬＨ，ｄ、 Ｈ−１１）。
，ｄ、 Ｊｌ’、２’７．５Ｈｚ、 Ｈ−１’）、 ４
．７４（ＩＨ，ｍ、 Ｋ−１５）、 ５．７５（ＬＨ９
ｄ＋ Ｊ１３，１４１０Ｈ１Ｉ Ｈ１３）＋ ６−２６
（ｌＨ＋ｄ＋ＪＩＧ、１１１６Ｈ１，Ｈ１０）、 ７
．３４（ＬＨ，ｄ、 Ｈ−１１）。
９．７３（ＩＨ，ｓ、 Ｈ−２０）。
実施例 ７゜
１．６ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセクールと１．３７ｇ
のＮ−（２−イソプロピルオキシエチル）−Ｎ−エチル
アミンを１６ｍ＆のアセトニトリルに溶解し６時間加熱
還流した。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホル
ムで溶解し、水、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液、
水の頭で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムは１同１燥し
濃縮した。
ルクイロノライド ジメチル アセクールと１．３７ｇ
のＮ−（２−イソプロピルオキシエチル）−Ｎ−エチル
アミンを１６ｍ＆のアセトニトリルに溶解し６時間加熱
還流した。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホル
ムで溶解し、水、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液、
水の頭で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムは１同１燥し
濃縮した。
得られた残渣を１３ｍ１の０．５Ｎ塩酸に溶解し、６０
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に７
ｍｌのＩＮ水酸化す） ＩＪウム水溶液を加えて反応を
停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に７
ｍｌのＩＮ水酸化す） ＩＪウム水溶液を加えて反応を
停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸す） ＩＪウ
ムで乾燥し、濃縮した。得られた残直なシリカゲル［ワ
コーゲルＣ−２００，ｉａ系クロロホルム−メタノール
−２８％アンモニア水（１０： １ ：０．１）］カラ
ムにて精製し１．２０ｇ （収率８０％）の２３−デオ
キシ−２３−［Ｎ−（２−イソプロピルオキシエチル）
−Ｎ−エチルアミノ］マイカミノシルクイロノライドを
得た。
ムで乾燥し、濃縮した。得られた残直なシリカゲル［ワ
コーゲルＣ−２００，ｉａ系クロロホルム−メタノール
−２８％アンモニア水（１０： １ ：０．１）］カラ
ムにて精製し１．２０ｇ （収率８０％）の２３−デオ
キシ−２３−［Ｎ−（２−イソプロピルオキシエチル）
−Ｎ−エチルアミノ］マイカミノシルクイロノライドを
得た。
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．７９［３Ｈ，ｓ。
１３） ： １．７９［３Ｈ，ｓ。
Ｍｅ（２，２）］、 ２．５０（６Ｈ，ｓ、３’ ＮＭ
ｅｚ）、 ４．２６（ＩＨ，ｄ、 Ｊｌ’、２’ ７．
５Ｈ２，Ｈ−’１’）、 ４．７３（ＩＨ。
ｅｚ）、 ４．２６（ＩＨ，ｄ、 Ｊｌ’、２’ ７．
５Ｈ２，Ｈ−’１’）、 ４．７３（ＩＨ。
ｍ、 Ｈ１５）１５．７２（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋３，１４
１０Ｈ１゜Ｈ１３）、 ６．２３（ＬＨ，ｄ、 Ｊｔ
ｏ、ｏ１６Ｈｚ、 Ｈ１０）。
１０Ｈ１゜Ｈ１３）、 ６．２３（ＬＨ，ｄ、 Ｊｔ
ｏ、ｏ１６Ｈｚ、 Ｈ１０）。
７．３０（ＩＨ，ｄ、 ［（１１）、 ９．６６（Ｌ
Ｈ，ｓ、 Ｈ２０）。
Ｈ，ｓ、 Ｈ２０）。
実施例 ８゜
４．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと３．４ｇの
Ｎ−エチル−Ｎ−テトラヒドロフルフリルアミンを２０
ｒｎｌのアセトニトリルに溶解し３．５時間加熱還流
した。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで
溶解し、水、飽和炭酸水素すｌ−ＩＪウム水溶液、水の
順で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮し
た。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと３．４ｇの
Ｎ−エチル−Ｎ−テトラヒドロフルフリルアミンを２０
ｒｎｌのアセトニトリルに溶解し３．５時間加熱還流
した。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで
溶解し、水、飽和炭酸水素すｌ−ＩＪウム水溶液、水の
順で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮し
た。
得られた残渣な３２ ｍｌの０．５Ｎ塩酸に溶解し、６
０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液Ｋ
１８ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応
を停止後、クロロホルムてて２回抽出した。
０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液Ｋ
１８ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応
を停止後、クロロホルムてて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸す） ＩＪウ
ムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［ワ
コーケルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メｌ ／
Ｆｉｔ−Ｂｌ、に−４−２８％アンモニア水（１ｏ ：
ｌ：Ｏ，ｚ） ］カラムにて精製し２．９９ｇ （収率
８０％）の２３−チオキシ−２３−（Ｎ−エチル−Ｎ−
テトラヒドロフルフリルアミノ）マイカミノシルクイロ
ノライドを得た。
ムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［ワ
コーケルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メｌ ／
Ｆｉｔ−Ｂｌ、に−４−２８％アンモニア水（１ｏ ：
ｌ：Ｏ，ｚ） ］カラムにて精製し２．９９ｇ （収率
８０％）の２３−チオキシ−２３−（Ｎ−エチル−Ｎ−
テトラヒドロフルフリルアミノ）マイカミノシルクイロ
ノライドを得た。
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
ｌ３ ） ： １．７９［３Ｈ，ｓ。
ｌ３ ） ： １．７９［３Ｈ，ｓ。
Ｍｅ （２２） ］、２．５０ （６Ｈ＋ ｓ ＋ ３
’ ＮＭｅ２ ）＋ ４．２６（Ｉ Ｈ＋ ｄ ｒ Ｊ
＋／、 ２’７−５ Ｈｚ ＋ Ｈｌ’ ）＋ ４．
７５ （ＬＨ、ｍ ＩＨ−１５）、 ５．７６（ＩＨ，
ｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈｚ、 Ｈ１３）。
’ ＮＭｅ２ ）＋ ４．２６（Ｉ Ｈ＋ ｄ ｒ Ｊ
＋／、 ２’７−５ Ｈｚ ＋ Ｈｌ’ ）＋ ４．
７５ （ＬＨ、ｍ ＩＨ−１５）、 ５．７６（ＩＨ，
ｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈｚ、 Ｈ１３）。
６．２６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｏ、ｏ１６Ｈｚ、 Ｈ１０
）、 ７．３４（ＩＨ，ｄ、 Ｈ１１）、 ９．７２（
ＩＨ，ｓ、 Ｈ２０）。
）、 ７．３４（ＩＨ，ｄ、 Ｈ１１）、 ９．７２（
ＩＨ，ｓ、 Ｈ２０）。
実施例 ９
４、Ｏｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと３．３ｇの
Ｎ−エルルーＮ−フルフリルアミンを２０ｍｔのアセト
ニトリルに溶解し２．５時間加熱還流した。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと３．３ｇの
Ｎ−エルルーＮ−フルフリルアミンを２０ｍｔのアセト
ニトリルに溶解し２．５時間加熱還流した。
反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホ）ｖムで溶解
し、水、飽斯千チτ素す） ＩＪウム水溶−よ、水の順
で各１回洗浄後無水硫酸す） ＩＪウムてて乾燥し濃縮
した。
し、水、飽斯千チτ素す） ＩＪウム水溶−よ、水の順
で各１回洗浄後無水硫酸す） ＩＪウムてて乾燥し濃縮
した。
得られた残渣を３２ ｍｌの０．５Ｎ塩酸に溶解し、６
０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に１
８ｍｔのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応ヲ停
止後、クロロホルムにて２回抽出した。
０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に１
８ｍｔのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応ヲ停
止後、クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮した。得られた残渣を７９カゲル［ワコー
ゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１ｏ：ｔ：ｏ、ｔ）］カラムにて精
製し２．６３ｇ （収率７０％）の２３−デオキシ−２
３−（Ｎ−エチル−Ｎ−フルフリルアミ、））マイカミ
ノシルクイロノライドを得た。
乾燥し、濃縮した。得られた残渣を７９カゲル［ワコー
ゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１ｏ：ｔ：ｏ、ｔ）］カラムにて精
製し２．６３ｇ （収率７０％）の２３−デオキシ−２
３−（Ｎ−エチル−Ｎ−フルフリルアミ、））マイカミ
ノシルクイロノライドを得た。
１７４、１３８゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．８０［３８，ｄ。
１３） ： １．８０［３８，ｄ。
Ｊ〜ｌＨｚ、 Ｍｅ（２２） １２．５１（６Ｈ，ｓ
、３’−ＮＭｅ２）。
、３’−ＮＭｅ２）。
３．６°０（２Ｈ，ｓ、 Ｔｈ４．２６（ＬＨ，ｄ。
Ｊ＋１２１７−５Ｈｚ＋ Ｈ１’ ）、４．７３（ＩＨ
，ｍ、 Ｈ１５）。
，ｍ、 Ｈ１５）。
５．７３（ＬＨ，ｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈｚ、 Ｈ１
３）、 ６．１７゜６．３４ 、７．３８ （計３Ｈ，
大、オレフィン部プロトン）、 ９．７２（ＩＨ，ｓ
、 Ｈ−２０）。
３）、 ６．１７゜６．３４ 、７．３８ （計３Ｈ，
大、オレフィン部プロトン）、 ９．７２（ＩＨ，ｓ
、 Ｈ−２０）。
実施例 １０゜
３．０ｇの２３−チオキノ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．３ｇの
３−メトキシピペリジンを３０ ｍｌのアセトニトリル
に溶解し、２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、得ら
れた残渣をクロロホルムで溶解し。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．３ｇの
３−メトキシピペリジンを３０ ｍｌのアセトニトリル
に溶解し、２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、得ら
れた残渣をクロロホルムで溶解し。
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で各１回洗
浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
得られた残渣を２４ ｍＮ、ｓ Ｎ塩酸に溶解し、 ６
ｄ田間反応させてアセタール基を水解した。反応液π１
３ｍｔのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止後、 クロロホルムにて２回抽出した。クロロホルム
層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、Ｃ縮
した。得られた残渣をシリカゲル「ワコーゲ−二」２ｏ
ｏ、−溶媒系クロロホルム−メタノール−２８％アンモ
ニア水（１０：１：０．１）］カラム−にて精製し１．
６２ｇ （収率５９％）の２３−デオキシ−２３−（３
−メトキシピペリジン）マイクミノシルクイロノライド
を得た。
ｄ田間反応させてアセタール基を水解した。反応液π１
３ｍｔのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止後、 クロロホルムにて２回抽出した。クロロホルム
層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、Ｃ縮
した。得られた残渣をシリカゲル「ワコーゲ−二」２ｏ
ｏ、−溶媒系クロロホルム−メタノール−２８％アンモ
ニア水（１０：１：０．１）］カラム−にて精製し１．
６２ｇ （収率５９％）の２３−デオキシ−２３−（３
−メトキシピペリジン）マイクミノシルクイロノライド
を得た。
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．８０［３Ｈ，Ｓ。
１３） ： １．８０［３Ｈ，Ｓ。
Ｍｅ （２２） ］ ＋ ２．５０ （６Ｆ（＋ Ｓ
ｌ ３’−ＮＭａ２ ）＋ ３−３２ ＋ ３β賞ＩＪ
ピ、ｚ’７．５Ｈｚ、 Ｈ１’）、 ４．７６（１
）（、ｍ、 Ｈ匂；５−７６ （ＩＨ＋ ｄ ！ Ｊ
１３１４１０ Ｈｚ ｒ Ｈ１３）、６．２６（ＩＨ５
ｄ＋ Ｊ＋ｏ、ｏ１６Ｈｚ、 Ｈ１０）、７．３３（ｌ
Ｈ＋ｄ。
ｌ ３’−ＮＭａ２ ）＋ ３−３２ ＋ ３β賞ＩＪ
ピ、ｚ’７．５Ｈｚ、 Ｈ１’）、 ４．７６（１
）（、ｍ、 Ｈ匂；５−７６ （ＩＨ＋ ｄ ！ Ｊ
１３１４１０ Ｈｚ ｒ Ｈ１３）、６．２６（ＩＨ５
ｄ＋ Ｊ＋ｏ、ｏ１６Ｈｚ、 Ｈ１０）、７．３３（ｌ
Ｈ＋ｄ。
Ｈ−１１）、 ９．７３（ＬＨ，ｓ、 Ｈ２０）。
実施例 １１゜
３．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．３ｇの
２−メトキシメチ二！解りジンを３０ｍ＆のアセトニト
リルに溶解し１．５時間加熱還流した。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．３ｇの
２−メトキシメチ二！解りジンを３０ｍ＆のアセトニト
リルに溶解し１．５時間加熱還流した。
反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解し
、水、飽和炭酸水素ナト１，１ウム水溶液、水の順で各
１回洗浄後無水硫酸ナトＩＪウムてて乾燥し濃縮した。
、水、飽和炭酸水素ナト１，１ウム水溶液、水の順で各
１回洗浄後無水硫酸ナトＩＪウムてて乾燥し濃縮した。
得られた残渣を３０ｍ１の０，５Ｎ塩酸に溶解し、６０
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に１６
ｍ４のＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を停止
後、 クロロホルムてて２回抽出した。
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に１６
ｍ４のＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応を停止
後、 クロロホルムてて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、ａ縮した。得られた残渣をシリカゲル［ワコー
ゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１０：１：０．１）］カラムにて精
製し１．８６ｇ （収率６６％）の２３−デオキシ−２
３−（２−メトキンメチルピペリジノ）マイカミノシル
クイロノライドを得た。
乾燥し、ａ縮した。得られた残渣をシリカゲル［ワコー
ゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１０：１：０．１）］カラムにて精
製し１．８６ｇ （収率６６％）の２３−デオキシ−２
３−（２−メトキンメチルピペリジノ）マイカミノシル
クイロノライドを得た。
（ＫＢ ｒ ）
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ’Ｉ’！ｍ幀”ｊＪｎ
ＣＤＣｌ５） ： １．８０ＣＩＨ，ｓ、Ｍｅ（２２）
１２．５０（６Ｈ，ｓ 、 ３’−ＮＭｅ２）、 ３．
３３（３Ｈ，ｓ 。
ＣＤＣｌ５） ： １．８０ＣＩＨ，ｓ、Ｍｅ（２２）
１２．５０（６Ｈ，ｓ 、 ３’−ＮＭｅ２）、 ３．
３３（３Ｈ，ｓ 。
Ｈ−１’）、 ４．７６（１）Ｉ、ｍ、 Ｈ−１５）、
５．７８（ＡＨ，ｄ。
５．７８（ＡＨ，ｄ。
Ｊ１３．＋４１０Ｈｚ、Ｈ１３）＋ ６．２６（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＋ｏ、。
ｄ、Ｊ＋ｏ、。
１６Ｈｚ、 Ｈ１０）、 ７．３２（ＬＨ，ｄ、 Ｈ−
１１）、 ９．７４（ＬＨ，ｓ、Ｈ２０）。
１１）、 ９．７４（ＬＨ，ｓ、Ｈ２０）。
実施例 １２゜
１．５ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．０ｇの
２−ベンジルオキシメチルピペリジンを１５齢のアセト
ニトリルに溶解し４時間加熱還流した。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと２．０ｇの
２−ベンジルオキシメチルピペリジンを１５齢のアセト
ニトリルに溶解し４時間加熱還流した。
反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解し
、水、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液、氷の順で各
１回洗浄後無水硫酸ナトリウムてて乾燥し濃縮した。
、水、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液、氷の順で各
１回洗浄後無水硫酸ナトリウムてて乾燥し濃縮した。
得られた残渣を４．５ ｍｌの０．５．Ｎ塩酸に溶解し
、６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液
に２．４ ｍｌのＩＮ水酸化す） ＩＪウム水溶液を加
えて反応を停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
、６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液
に２．４ ｍｌのＩＮ水酸化す） ＩＪウム水溶液を加
えて反応を停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後ｉ”５Ｅ脣クナトｌ／
ウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［
ワコーゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノー
ル−２８％アンモニア水（１０：１ ：０．１） ］カ
ラムにて精製し５００ ｍｇ （収率３７％）の２３−
デオキシ−２３−（２−ベンジルオキシメチルピペリジ
ノ）マイカミノシルクイロノライドを得た。
ウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［
ワコーゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノー
ル−２８％アンモニア水（１０：１ ：０．１） ］カ
ラムにて精製し５００ ｍｇ （収率３７％）の２３−
デオキシ−２３−（２−ベンジルオキシメチルピペリジ
ノ）マイカミノシルクイロノライドを得た。
１７４゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．Ｑ［３Ｈ，ｓ。
１３） ： １．Ｑ［３Ｈ，ｓ。
Ｍｅ（２２） ］、 ２．５０（６Ｈ，ｓ 、 ３’−
ＮＭｅｔ ）、 ４．２８（ＩＨ，ａ、 Ｊｌｌ、２／
７５Ｈｚ、 Ｈ−１’）、 ４．５２（２Ｈ，ｓ。
ＮＭｅｔ ）、 ４．２８（ＩＨ，ａ、 Ｊｌｌ、２／
７５Ｈｚ、 Ｈ−１’）、 ４．５２（２Ｈ，ｓ。
５．７８（ＩＨＩ Ｈ−１３）＋ ６．２４（ＩＨｌ
ｄｌ ＪＩＧ、１１１６Ｈｚ’。
ｄｌ ＪＩＧ、１１１６Ｈｚ’。
実施例 １３゜
１．５ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと０．８８ｇ
のＮ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−メチルアミンを１
５ｍｔのアセトニトリルに溶解し、３時間加熱還流した
。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解
し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で各１
回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと０．８８ｇ
のＮ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−メチルアミンを１
５ｍｔのアセトニトリルに溶解し、３時間加熱還流した
。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶解
し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で各１
回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
得られた残渣を１２ｍ７の０．５Ｎ塩酸て溶解し、６０
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に７
ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応ヲ停止
後、クロロホルムにて２回抽出した。
分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に７
ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応ヲ停止
後、クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−
ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（ｌｏ ： ｌ ：０．１） ］カラ
ムにて精製しＱ、９０ｇ （収率６８％）の２３ 、デ
オキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−メ
チルアミン］マイカミノシルクイロノライドを得た。
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−
ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（ｌｏ ： ｌ ：０．１） ］カラ
ムにて精製しＱ、９０ｇ （収率６８％）の２３ 、デ
オキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−メ
チルアミン］マイカミノシルクイロノライドを得た。
１７４．１３２．１０２゜
ＩＲ（ｃｍ−＋ ） ： １７１５．１６．７０．
１５９０．１４５０．８３０ 。
１５９０．１４５０．８３０ 。
（ＫＢｒ）
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤ’
Ｃ５） ： １．８０［３Ｈ，ｄ、 ＪへＩＨｚ、Ｍｅ
（２２）］ｔ２．２２（３）Ｉ、ｓｒ Ｉ−ｉ、”＠）
２．４８（ｉ、Ｓ、 ３’−ＮＭｅ２）、 ３−３２（
３Ｈ，ｓ。
Ｃ５） ： １．８０［３Ｈ，ｄ、 ＪへＩＨｚ、Ｍｅ
（２２）］ｔ２．２２（３）Ｉ、ｓｒ Ｉ−ｉ、”＠）
２．４８（ｉ、Ｓ、 ３’−ＮＭｅ２）、 ３−３２（
３Ｈ，ｓ。
Ｌぜ・
吸
４．２６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ１１２１７．５Ｈｚ、 Ｈ−
１’）、 ４．７６（ＩＨ，ｍ、 Ｈ−１５）、
５．７５（ＩＨ，ｄｔ Ｊ１３，１４１０Ｈｚ。
１’）、 ４．７６（ＩＨ，ｍ、 Ｈ−１５）、
５．７５（ＩＨ，ｄｔ Ｊ１３，１４１０Ｈｚ。
Ｈ−１３）、 ６．２６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｏ、ｏ１
６Ｈｚ、 Ｈ１０）。
６Ｈｚ、 Ｈ１０）。
７．３４（ＩＨ，ｄ、 Ｈ１１）、 ９．７２（ＩＨ，
ｓ、 Ｈ−２０）。
ｓ、 Ｈ−２０）。
実施例 １４゜
３．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイヵミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと３．３ｇの
Ｎ−（２−ベンジルオキシエチル）−Ｎ−メチルアミン
を３０ ｍｌのアセトニトリルに溶解シ。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと３．３ｇの
Ｎ−（２−ベンジルオキシエチル）−Ｎ−メチルアミン
を３０ ｍｌのアセトニトリルに溶解シ。
２時間加熱還流した。反応液を濃縮し、得られた残渣を
クロロホルムで溶解し、水、飽和炭酸水素す） ＩＪウ
ム水溶液、水の順で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムに
て乾燥し濃縮した。
クロロホルムで溶解し、水、飽和炭酸水素す） ＩＪウ
ム水溶液、水の順で各１回洗浄後無水硫酸ナトリウムに
て乾燥し濃縮した。
得られた残渣を２４ ｍｌの０．５ Ｎ塩酸に溶解し、
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
１４ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応
を停止後、 クロロホルムにて２回抽出した。
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
１４ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応
を停止後、 クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、＠縮した。得られた残渣をシリカゲル［ワコー
ゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１０：１：０．１）コカラムにて精
製し２．４４ｇ （収率８３％）の２３−デオキシ−２
３−［Ｎ−（２−ベンジルオキシエチル） −Ｎ−メチ
ルアミン］マイカミノシルクイロノライドを得た。
乾燥し、＠縮した。得られた残渣をシリカゲル［ワコー
ゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１０：１：０．１）コカラムにて精
製し２．４４ｇ （収率８３％）の２３−デオキシ−２
３−［Ｎ−（２−ベンジルオキシエチル） −Ｎ−メチ
ルアミン］マイカミノシルクイロノライドを得た。
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．７９［３Ｈ，ｄ、 Ｊ２．４８（６Ｈ
，ｓ、 ３’ ＮＭｅ２ ）、 ４？ｌＱ〒Ｆｆ’：
ｄ 、 Ｊｓ％ｚ’７．５Ｈｚ、Ｈ１’）、４．５１
（２Ｈ，ｓ。
１３） ： １．７９［３Ｈ，ｄ、 Ｊ２．４８（６Ｈ
，ｓ、 ３’ ＮＭｅ２ ）、 ４？ｌＱ〒Ｆｆ’：
ｄ 、 Ｊｓ％ｚ’７．５Ｈｚ、Ｈ１’）、４．５１
（２Ｈ，ｓ。
Ｎｉ＠。７ユ乃）、４．７４ （Ｉ Ｈ＋ ｍ＋ Ｈ１
５）１５．７３（ＩＨ，ｄ、 Ｊｌｌ ｘ４１０ｔ（ｚ
、 Ｈ１３）、 ６．２４（ＩＨ＋ ｄ ＋ Ｊ＋ｏ
ｎ １６Ｈｚ ＋ Ｈ１０） ＋ ７．３’２（ｌ
Ｈ５ｄ ＋９．７２（ＩＨ，ｓ、Ｈ２０）。
５）１５．７３（ＩＨ，ｄ、 Ｊｌｌ ｘ４１０ｔ（ｚ
、 Ｈ１３）、 ６．２４（ＩＨ＋ ｄ ＋ Ｊ＋ｏ
ｎ １６Ｈｚ ＋ Ｈ１０） ＋ ７．３’２（ｌ
Ｈ５ｄ ＋９．７２（ＩＨ，ｓ、Ｈ２０）。
実施例 １５゜
１．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと０．６９
ｇのＮ−（２−エトキシエチル）−Ｎ−メチルアミンを
１０ｍ１のアセトニトリルに溶解し、２時間加熱還流し
た。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶
解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で各
１回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと０．６９
ｇのＮ−（２−エトキシエチル）−Ｎ−メチルアミンを
１０ｍ１のアセトニトリルに溶解し、２時間加熱還流し
た。反応液を濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶
解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で各
１回洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
得られた残渣を８ ｍｌの０．５ Ｎ塩酸に溶゛解し、
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
４．５ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルミ２響抽出した。
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
４．５ ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルミ２響抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−
ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１０：１：０．１）コカラムにて精
製し３６０ ｍｇ （収率４０％）の２３−デオキシ−
２３−［Ｎ’−（２−エトキシエチル）−Ｎ−メチルア
ミノコマイカミノシルクイロノライドを得た。
乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［フコ−
ゲルＣ−２００，溶媒系クロロホルム−メタノール−２
８％アンモニア水（１０：１：０．１）コカラムにて精
製し３６０ ｍｇ （収率４０％）の２３−デオキシ−
２３−［Ｎ’−（２−エトキシエチル）−Ｎ−メチルア
ミノコマイカミノシルクイロノライドを得た。
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．８０［３）（、ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚＩ
Ｍｅ（２２）］、 ２．２２（３Ｈ，ｓ、 Ｎ７
）。
１３） ： １．８０［３）（、ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚＩ
Ｍｅ（２２）］、 ２．２２（３Ｈ，ｓ、 Ｎ７
）。
２．４９（６Ｈ，ｓ、 ３’ ＮＭｅｘ ）、 ４．２
６（ＩＨ，ｄ、 Ｊｌｌ、２’７．５Ｈｚ、 Ｈｌ’）
、４．７５（ＬＨ，ｍ、 Ｈ−１５）。
６（ＩＨ，ｄ、 Ｊｌｌ、２’７．５Ｈｚ、 Ｈｌ’）
、４．７５（ＬＨ，ｍ、 Ｈ−１５）。
５．７６（ＬＨ，ｄ、 ＪＩ３１４１０Ｈｚ、 Ｈ１３
）、 ６．２６（ＩＨ。
）、 ６．２６（ＩＨ。
ｄ、 Ｊｔｏ、ｏ１６Ｈｚ、 Ｈ１０）、 ９．７２（
ＩＦ（、ｓ、、。
ＩＦ（、ｓ、、。
Ｈ−２０）。
実施例 １６゜
６００ ｍｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミ
ノシルクイロノライド ジメチル アセタールと４８Ｏ
ｒＩｌｇのＮ−（２−）二ロキシエチル）−Ｎ−メチル
アミンを５ ｍｌのアセトニトリルに溶解し、１８時間
加熱還流した。反応液を濃縮し、得られた残渣を酢酸エ
チルに溶解し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濃縮した。
ノシルクイロノライド ジメチル アセタールと４８Ｏ
ｒＩｌｇのＮ−（２−）二ロキシエチル）−Ｎ−メチル
アミンを５ ｍｌのアセトニトリルに溶解し、１８時間
加熱還流した。反応液を濃縮し、得られた残渣を酢酸エ
チルに溶解し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、
濃縮した。
得られた残渣をシリカゲル［ワコーゲルＣ−２００溶媒
系クロロホルム−メタノール−２８％アン−Ｅ−二７水
（１５：１：０．１）］カラムにて精製し１４０ ｆ［
１ｇ（２１，２％）の目的物のアセタール体を得た。
系クロロホルム−メタノール−２８％アン−Ｅ−二７水
（１５：１：０．１）］カラムにて精製し１４０ ｆ［
１ｇ（２１，２％）の目的物のアセタール体を得た。
このアセタール体１１４ ｍｇを０．５ Ｎ塩酸２ｍｌ
に溶解し、６０分間反応させて、アセタール基を水解し
た。反応液にＩＮ水酸化ナトリウム１ ｍｌを加え中和
後、クロロホルム５０ ｍｌで抽出し、水洗後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、ａ縮した。
に溶解し、６０分間反応させて、アセタール基を水解し
た。反応液にＩＮ水酸化ナトリウム１ ｍｌを加え中和
後、クロロホルム５０ ｍｌで抽出し、水洗後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、ａ縮した。
２３−デオキシ−２３−［Ｎ−（２−ノニロキシエチル
） −Ｎ−メチルアミノ］マイカジノシルタイロノライ
ド９７■（８９，８％）を得た。
） −Ｎ−メチルアミノ］マイカジノシルタイロノライ
ド９７■（８９，８％）を得た。
２１４．１７４，１６７゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．８０［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ、 Ｍ
ｅ（２２）］、 ２．２２（３Ｈ，Ｓ、 Ｎ 、”
。（０Ｈ”ンｓＭｅ ）。
１３） ： １．８０［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ、 Ｍ
ｅ（２２）］、 ２．２２（３Ｈ，Ｓ、 Ｎ 、”
。（０Ｈ”ンｓＭｅ ）。
ヒ
２．５０ （６Ｊ ｓ 、３’ ＮＭｅ２ ）＋ ４−
２６ （ＬＨ＋ ｄ ＋ Ｊｒ’ ｚ’７．５Ｈｚ、
Ｈ１’）、 ４．７４（ＬＨ，ｍ、 Ｈ−１５）、
５．７６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｘ、＋４１０．Ｈｚ、 Ｈ
１３）＋ ６．２６（ｉＦ（、ｄ。
２６ （ＬＨ＋ ｄ ＋ Ｊｒ’ ｚ’７．５Ｈｚ、
Ｈ１’）、 ４．７４（ＬＨ，ｍ、 Ｈ−１５）、
５．７６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｘ、＋４１０．Ｈｚ、 Ｈ
１３）＋ ６．２６（ｉＦ（、ｄ。
Ｊｎ、ｕ１６Ｈｚ、 Ｈ−１０）、 ９．７２（ＩＨ，
ｓ、 Ｈ−２０）。
ｓ、 Ｈ−２０）。
実施例 １７゜
３．００ ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミ
゛ノシルタイロノライド ジメチル アセタール
３．８５ ｇのＮ−（２−ジフェニルメチルオキンエチ
ル）−Ｎ−メチルアミンを３０ ｍｌのアセトニトリル
に溶解し、２０時間加熱還流した。反応液を濃縮し。
゛ノシルタイロノライド ジメチル アセタール
３．８５ ｇのＮ−（２−ジフェニルメチルオキンエチ
ル）−Ｎ−メチルアミンを３０ ｍｌのアセトニトリル
に溶解し、２０時間加熱還流した。反応液を濃縮し。
得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮した。
ナトリウムで乾燥し、濃縮した。
得られた残渣をシリカゲル［ワコーゲルＣ−２００゜溶
媒系クロロホルム−アブノール−２８％、アンモニア水
（１５： １ ： ０．１ ＞コカラムにて精製し１．
４７ ｇ（４２，５％）の目的物のアセタール体を得た
。
媒系クロロホルム−アブノール−２８％、アンモニア水
（１５： １ ： ０．１ ＞コカラムにて精製し１．
４７ ｇ（４２，５％）の目的物のアセタール体を得た
。
このアセタール体１．４５ｇを０゜５Ｎ塩酸８ ｍｌに
溶解し、１．５時間反応させて、アセタール基を水解し
た。
溶解し、１．５時間反応させて、アセタール基を水解し
た。
反応液ＫＩＮ水酸化ナトリウム４ ｍｌを加え中和後ク
ロロホルム１００ ｍｌで抽出し、水洗後無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濃縮した。
ロロホルム１００ ｍｌで抽出し、水洗後無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濃縮した。
２３−デオキシ−２３−［Ｎ−（２−シフ−ニルメチル
オキシエチル）−Ｎ−メチルアミノコマイカミノシルク
イロノライド１．３４ｇ （９７，５％）を得た。
オキシエチル）−Ｎ−メチルアミノコマイカミノシルク
イロノライド１．３４ｇ （９７，５％）を得た。
２５４、１７４゜
１３１０、８４０．７５０．７００゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．７６［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜。
１３） ： １．７６［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜。
〜０Ｃ１（ダ。
ＩＨｚ、 Ｍｅ（２２）］、 ２．２４（３Ｈ，ｓ、
Ｎ、 ）。
Ｎ、 ）。
ヒ
２．５０ （６Ｈ＋ ｓ＋ ３’ ”Ｍｅ２） ＋ ４
−２６ （Ｉ Ｈ＋ ｄ ｒ Ｊｒ’、ｚ’７．５Ｈｚ
、 Ｈ−１’）、 ４．７２（ＩＨ，ｍ、 Ｈ−１５）
、 ５．７６（ｌＨ＋ｄ＋ Ｊ＋３．＋４１０Ｈｚ、’
Ｈ％２．２４（ＬＨ２ｄ、’ Ｊ＋ｏ、＋４１０Ｈｚ
、 Ｈ１０）、 ９．７２（ＩＨ，ｓ。
−２６ （Ｉ Ｈ＋ ｄ ｒ Ｊｒ’、ｚ’７．５Ｈｚ
、 Ｈ−１’）、 ４．７２（ＩＨ，ｍ、 Ｈ−１５）
、 ５．７６（ｌＨ＋ｄ＋ Ｊ＋３．＋４１０Ｈｚ、’
Ｈ％２．２４（ＬＨ２ｄ、’ Ｊ＋ｏ、＋４１０Ｈｚ
、 Ｈ１０）、 ９．７２（ＩＨ，ｓ。
Ｈ−２０）。
実施例 １８゜
２．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルクイロノライド ジメチル アセタールと１．５ｇの
Ｎ−（２−アリルオキシエチル）−Ｎ−メチルアミンを
２Ｏｒｃｒｔのアセトニトリルに溶解し、２時間加熱還
流した。反応液を濃縮し、得られｔ−残渣をクロロホル
ムで溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の
頭で各１個洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮
した。
ルクイロノライド ジメチル アセタールと１．５ｇの
Ｎ−（２−アリルオキシエチル）−Ｎ−メチルアミンを
２Ｏｒｃｒｔのアセトニトリルに溶解し、２時間加熱還
流した。反応液を濃縮し、得られｔ−残渣をクロロホル
ムで溶解し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の
頭で各１個洗浄後無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮
した。
得られた残渣を１６ｍ／、の０．５ Ｎ塩酸に溶解し、
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
９ ｍｌのＩＮ水酸化す） ＩＪウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
６０分間反応させてアセタール基を水解した。反応液に
９ ｍｌのＩＮ水酸化す） ＩＪウム水溶液を加えて反
応を停止後、クロロホルムにて２回抽出した。
クロロホルム層を合わせ、水洗後無水硫酸ナトリ□
ラムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル［
ワコーゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メｐ ／
−ｉレ−２８％７ ンモ＝＝ｚ＞％’、４１ｏ ： ｌ
： ０．１ ） ］カラムにて不肖製し１．４４ｇ （
収率７８％）の２３−デオキシ−２３−［Ｎ−（２−ア
リルオキシエチル） −Ｎ−メチルアミノコマイカミノ
シルタイｏ ／ 、ｙイドを得た。
ワコーゲルＣ−２００、溶媒系クロロホルム−メｐ ／
−ｉレ−２８％７ ンモ＝＝ｚ＞％’、４１ｏ ： ｌ
： ０．１ ） ］カラムにて不肖製し１．４４ｇ （
収率７８％）の２３−デオキシ−２３−［Ｎ−（２−ア
リルオキシエチル） −Ｎ−メチルアミノコマイカミノ
シルタイｏ ／ 、ｙイドを得た。
１７４、１２８゜
８３０゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ： １．７９［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ、Ｍｅ
（２２）］＋２．２２（３Ｈ５ｓｔ Ｎｓ、 ０′Ａ
）。
１３） ： １．７９［３Ｈ，ｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ、Ｍｅ
（２２）］＋２．２２（３Ｈ５ｓｔ Ｎｓ、 ０′Ａ
）。
！
２．４９（６Ｆ（、！ 、 ３′−ＮＭｅｚ）、 ３．
９６（２Ｆ（、ｍ。
９６（２Ｆ（、ｍ。
１（−１５）、 ５．１４，５．２９，５．８６（計３
Ｈ，ｍ。
Ｈ，ｍ。
（ＩＨ，ｄ、 ＪＩ３，１４１０Ｈｚ、 Ｈ−１３）、
６．２６（ＩＨ。
６．２６（ＩＨ。
ｄ＋ Ｊ＋ｏ、ｏ１６Ｈｚ、 Ｈ−１ｏ）、 ７．３２
（ＬＨ＋ｄ＋Ｈ−１１）、 ９．７２（ＩＨ，ｓ、 Ｈ
−２０）。
（ＬＨ＋ｄ＋Ｈ−１１）、 ９．７２（ＩＨ，ｓ、 Ｈ
−２０）。
手続補正書（自発）
１ 事件の表示
昭和５９年特許願第１７１７４８号
２、発明の名称
２３位が塩基性基で置換されたマイカミ／シルフィロ／
ライド誘導体およびその製造法 ＆ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京部品用区上大崎３丁目１４番２３号名称 財
団法人 微生物化学研究会 代表者 市 川 篤 二 ４、代理人 住所 東京都板橋区小豆沢１丁目１番８号５、補正の対
象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ６ 補正の内容 ＋１１ 明細書第１４頁の表中、実施例魔１８の下に
次の実施例Ａ１９を追加する。
ライド誘導体およびその製造法 ＆ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京部品用区上大崎３丁目１４番２３号名称 財
団法人 微生物化学研究会 代表者 市 川 篤 二 ４、代理人 住所 東京都板橋区小豆沢１丁目１番８号５、補正の対
象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ６ 補正の内容 ＋１１ 明細書第１４頁の表中、実施例魔１８の下に
次の実施例Ａ１９を追加する。
（２）同第２１頁７行の［［δｐｐｍＪを［（δｐｐｍ
Ｊに同行ｒ （３Ｈ，Ｊをｌ”［３Ｈ２］に、同第２７
頁下から３行「Ｎ−エル７Ｊを「Ｎ−エチルＪにそれぞ
れ訂正する。
Ｊに同行ｒ （３Ｈ，Ｊをｌ”［３Ｈ２］に、同第２７
頁下から３行「Ｎ−エル７Ｊを「Ｎ−エチルＪにそれぞ
れ訂正する。
（３） 同第４３頁最終行に続けて行を変えて次の実
施例１９を挿入する。
施例１９を挿入する。
「実施例 １９
２８０ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマイ
カミノライ シルタイロア法ド ジメチル ７セクールと２．３ｇの
Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−プロピルアミンを２
８ ｍｌのアセトニトリルに溶解し、６時間加熱還流し
た。反応ｉを濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶
解し、水。
カミノライ シルタイロア法ド ジメチル ７セクールと２．３ｇの
Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−プロピルアミンを２
８ ｍｌのアセトニトリルに溶解し、６時間加熱還流し
た。反応ｉを濃縮し、得られた残渣をクロロホルムで溶
解し、水。
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で各１回洗浄後
〕無水硫戯ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
〕無水硫戯ナトリウムにて乾燥し濃縮した。
得られた残漬を１８．２ ｍｌの０．５Ｎ塩酸に溶解し
、 ６０分間反応させて７セタール基を水解した。反応
液に９．２ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて
反応液を停止後。
、 ６０分間反応させて７セタール基を水解した。反応
液に９．２ｍｌのＩＮ水酸化ナトリウム水溶液を加えて
反応液を停止後。
クロロホルムにて２回抽出した。クロロホルム層を合わ
せ、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。得
られた残渣をシリカゲル［ワフーゲルＣ−２００，溶媒
系゛クーロホルムーメタ／−ル−２８％７ンモニ７水（
１５：１：０．１）］カラムにて精製し２３．４’−ジ
デオキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−
プロピル］マイカミノシルクイロノライド１．８７ｇ
（収率７２％）を得た。
せ、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。得
られた残渣をシリカゲル［ワフーゲルＣ−２００，溶媒
系゛クーロホルムーメタ／−ル−２８％７ンモニ７水（
１５：１：０．１）］カラムにて精製し２３．４’−ジ
デオキシ−２３−［Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ−
プロピル］マイカミノシルクイロノライド１．８７ｇ
（収率７２％）を得た。
１７４．１５８，１３０
１１１０．１０７０，１０４０，９８０，８３０，８０
５ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤ
Ｃｌ３ ） ： １７９［３Ｈ，ｄ。
５ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤ
Ｃｌ３ ） ： １７９［３Ｈ，ｄ。
Ｊ ＝ ＩＨｚ 、’ Ｍｅ （２２）コ、 ２．２
８（６Ｈ，ｓ、 ３’ −ＮＭｅｚ ）。
８（６Ｈ，ｓ、 ３’ −ＮＭｅｚ ）。
３．３２（３Ｈ，ｓ、 −ＯＭｅ）、 ４．２２（ＩＨ
，ｄ、 Ｊ、’、 ２’ ７．５）１ｚ。
，ｄ、 Ｊ、’、 ２’ ７．５）１ｚ。
Ｈ−１’）、 ４．７３（ＩＨ，ｍ、 Ｈ−１５）、
５．７７（ＩＨ，ｄ、 Ｊ、３．１４１０Ｈｚ、 Ｈ１
３）、 ６．２６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｏ、＋＋ １６Ｈ
ｚ、 Ｈ１０）。
５．７７（ＩＨ，ｄ、 Ｊ、３．１４１０Ｈｚ、 Ｈ１
３）、 ６．２６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＋ｏ、＋＋ １６Ｈ
ｚ、 Ｈ１０）。
７．３６（ＩＨ，ｄ、 Ｈ−１１）、 ９．７４（ＩＨ
，ｓ、 Ｈ−２０）。 」手続補正書（自発） 昭和６０年５月１４Ｌ日 昭和５９年特許願第１７１７４８号 ２、発明の名称 ２３位が塩基性基で置換されたマイカミ／シルタイＩ：
＋／ライド誘導体およびその製造法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京部品用区上大崎３丁目１４番２３号名称
財団法人 微生物化学研究会 山之内製薬株式会社 特許部内 ５、補正の対象 明細書の「−明の詳細な説明」の欄 ６、補正の内容 （１） 明細書第１４頁の表中、昭和５９年１０月３
０日提出の手続補正書にて追加した実施例４１９につづ
け１次の実施例２０〜２２を追加する。
，ｓ、 Ｈ−２０）。 」手続補正書（自発） 昭和６０年５月１４Ｌ日 昭和５９年特許願第１７１７４８号 ２、発明の名称 ２３位が塩基性基で置換されたマイカミ／シルタイＩ：
＋／ライド誘導体およびその製造法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京部品用区上大崎３丁目１４番２３号名称
財団法人 微生物化学研究会 山之内製薬株式会社 特許部内 ５、補正の対象 明細書の「−明の詳細な説明」の欄 ６、補正の内容 （１） 明細書第１４頁の表中、昭和５９年１０月３
０日提出の手続補正書にて追加した実施例４１９につづ
け１次の実施例２０〜２２を追加する。
「
」
（２） 同第４３頁最終行に、昭和５９年１０月３０
日提出のｉ続補正書にて挿入した実施例１９に続けて次
の実施例。
日提出のｉ続補正書にて挿入した実施例１９に続けて次
の実施例。
２０〜２２を挿入する。
「実施例２０
２．０ｇの ２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノ
シルタイル／ライド ジメチル ７七タールと２９ｇの
Ｎ−（２−ベンジルオキシエチル）−Ｎ−エチルアミン
を２０ｍ／、の７セトニトリルに溶解後４時間加熱還流
した。反応液を濃縮し、得られた残漬を酢酸エチルに溶
解し３回水洗後ＩＭ炭酸ナトリウム水溶液および水で各
１回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムにて
乾燥後濃縮した。
シルタイル／ライド ジメチル ７七タールと２９ｇの
Ｎ−（２−ベンジルオキシエチル）−Ｎ−エチルアミン
を２０ｍ／、の７セトニトリルに溶解後４時間加熱還流
した。反応液を濃縮し、得られた残漬を酢酸エチルに溶
解し３回水洗後ＩＭ炭酸ナトリウム水溶液および水で各
１回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムにて
乾燥後濃縮した。
得られた残漬を１６ｍｔの０．５ Ｎ塩酸にだ解し、６
０分間反応させ、ジメチル ７−ｔ！タール基を水解し
た。反応液に９ｍＩ１０ＩＭ炭酸ナトリ・ラム水溶液を
加えて反応を停止後、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エ
チル層を水洗後無水硫醗す）Ｖラムで乾燥し、濃縮した
。得られた残渣をシリカゲル〔キーゼルゲル６０ （２
３０−４００メ、シ、）、溶媒系りｇロホルムーメタノ
ール−２８％７ンモニア水（１０：１：０．１））カラ
ムにて精製し ２３−デオキシ−２３−（Ｎ−（２−ベ
ンジルオキシエチル） −Ｎ−□エチル７ミノ〕マイカ
ミ／シルタイロ／ライド１．７１ ｇ（収率８５％）を
得た。
０分間反応させ、ジメチル ７−ｔ！タール基を水解し
た。反応液に９ｍＩ１０ＩＭ炭酸ナトリ・ラム水溶液を
加えて反応を停止後、酢酸エチルにて抽出した。酢酸エ
チル層を水洗後無水硫醗す）Ｖラムで乾燥し、濃縮した
。得られた残渣をシリカゲル〔キーゼルゲル６０ （２
３０−４００メ、シ、）、溶媒系りｇロホルムーメタノ
ール−２８％７ンモニア水（１０：１：０．１））カラ
ムにて精製し ２３−デオキシ−２３−（Ｎ−（２−ベ
ンジルオキシエチル） −Ｎ−□エチル７ミノ〕マイカ
ミ／シルタイロ／ライド１．７１ ｇ（収率８５％）を
得た。
７４０．７００゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ ｉｎ ＣＤＣｌ
、） ： １．７７ （３Ｈｄ、 Ｊ〜ｌＨｚ。
、） ： １．７７ （３Ｈｄ、 Ｊ〜ｌＨｚ。
Ｍｅ （２２） ）、 ２．５０（６Ｈｓ、 ３’−Ｎ
Ｍｅｔ）、 ４．２７ （ＩＨｄ、 Ｊ＋’、 ｔ’
７．５’Ｈｚ、 Ｈ−１’ ）、 ４．５２ （２Ｈｓ
、 Ｃ％＠ ）、 ４．７６ （ＩＨｍ、 Ｈ−１５）
。
Ｍｅｔ）、 ４．２７ （ＩＨｄ、 Ｊ＋’、 ｔ’
７．５’Ｈｚ、 Ｈ−１’ ）、 ４．５２ （２Ｈｓ
、 Ｃ％＠ ）、 ４．７６ （ＩＨｍ、 Ｈ−１５）
。
５．７４ （ＩＨｄ、 Ｊ、、ｔ ＋ａ １０Ｈｚ、
Ｈ−１３）、 ６．２４ （ＩＨｄ、 Ｊ＋ｎ−ｕ１６
Ｈｚ、Ｈ−１０）７．３５（５Ｈｓ、ＣＩ（ｔ＠ ）
、９．７６（ＩＨｓ、Ｈ−実施例２１ ０．６ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマイ
ヵミノシルタイロ／ライド ジメチル アセタールと０
．８７ｇのＮ−（２−ベンジルオキシエチル）−Ｎ−エ
チルアミンを実施例２０と同様に反応、処理、精製い２
３．４’−ジデオキシ−２３−（Ｎ−（２−ベンジルオ
キシエチル）。
Ｈ−１３）、 ６．２４ （ＩＨｄ、 Ｊ＋ｎ−ｕ１６
Ｈｚ、Ｈ−１０）７．３５（５Ｈｓ、ＣＩ（ｔ＠ ）
、９．７６（ＩＨｓ、Ｈ−実施例２１ ０．６ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマイ
ヵミノシルタイロ／ライド ジメチル アセタールと０
．８７ｇのＮ−（２−ベンジルオキシエチル）−Ｎ−エ
チルアミンを実施例２０と同様に反応、処理、精製い２
３．４’−ジデオキシ−２３−（Ｎ−（２−ベンジルオ
キシエチル）。
−、Ｎ−エチルアミノ〕マイカミノシルクイロノライド
０．４７ｇ（収率７８％）を得た。
０．４７ｇ（収率７８％）を得た。
１９２．１５８゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ ｉｎ ＣＤＣｌ
５ ） ： １．７６〔３Ｈｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ。
５ ） ： １．７６〔３Ｈｄ、 Ｊ〜ＩＨｚ。
Ｍｅ （２２） ）、 ２．２７ （６Ｈｓ、 ３’−
ＮＭｅｔ ）、 ４．２３ （ＩＨｄ、 Ｊ＋・２・７
．５Ｈｚ、 Ｈ−１’）、 ４．３１ （２Ｈｓ、 −
Ｃ３＠ ）、 ４．７３（ＩＨｍ。
ＮＭｅｔ ）、 ４．２３ （ＩＨｄ、 Ｊ＋・２・７
．５Ｈｚ、 Ｈ−１’）、 ４．３１ （２Ｈｓ、 −
Ｃ３＠ ）、 ４．７３（ＩＨｍ。
Ｈ１５）、 ５．７５（ＩＨｄ、 Ｊ１３．１４１０Ｈ
ｚ、 Ｈ１３）、 ６．２６（ＩＨｄ。
ｚ、 Ｈ１３）、 ６．２６（ＩＨｄ。
Ｊｌｌｌ＃ ＋＋ １６Ｈｚ、 Ｈ１０）、 ７．３５
（５Ｈｓ、 −ｃａ、＠ ）、 ９．７６（ＩＨｓ、
Ｈ−２０） 実施例２２ ０．６１ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマ
イカｉ／シルタイｐノライド ジメチル ７−ｔ！ター
ルと０．６５ｇのＮ−シクロヘキシル−Ｎ−（２−メト
キシエチル）アミンを６．１ｍ乙の７セトニトリル中で
２４時間加熱還流した後、実施例２０と同様に反応、処
理、精製し、２３．４’−ジデオキシ−２３−（Ｎ、−
シクロヘキシル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アミン〕
マイカミノシルタイＩ：＋／ライド０．３５ｇ（収率５
９％）を得た。
（５Ｈｓ、 −ｃａ、＠ ）、 ９．７６（ＩＨｓ、
Ｈ−２０） 実施例２２ ０．６１ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマ
イカｉ／シルタイｐノライド ジメチル ７−ｔ！ター
ルと０．６５ｇのＮ−シクロヘキシル−Ｎ−（２−メト
キシエチル）アミンを６．１ｍ乙の７セトニトリル中で
２４時間加熱還流した後、実施例２０と同様に反応、処
理、精製し、２３．４’−ジデオキシ−２３−（Ｎ、−
シクロヘキシル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アミン〕
マイカミノシルタイＩ：＋／ライド０．３５ｇ（収率５
９％）を得た。
８４０゜
ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ ｉｎ ＣＤＣ１
，） ： １．７７ （３Ｈｄ、 Ｊ〜ｌＨｚ。
，） ： １．７７ （３Ｈｄ、 Ｊ〜ｌＨｚ。
Ｍｅ （２２） ）、 ２．２５ （６Ｈｓ、 ３’−
ＮＭｅｔ ）、 ３．３０ （３Ｈｓ、 ＯＭｅ）。
ＮＭｅｔ ）、 ３．３０ （３Ｈｓ、 ＯＭｅ）。
４−２２ （Ｉ Ｈｄ ｒ Ｊ＋゛、ａ’ ７．５ Ｈ
ｚ、 Ｈ１’ ）、４．７３ （Ｉ Ｈｍ、 Ｈ−１５
）。
ｚ、 Ｈ１’ ）、４．７３ （Ｉ Ｈｍ、 Ｈ−１５
）。
５．７６ （ＩＨｄ、 Ｊ＋ｓ＋＋４１０Ｈｚ、 Ｈ１
３）、 ６．２９ （ＩＨｄ、’ Ｊ＋。、１１１６Ｈ
ｚ、 Ｈ７１０）、 ７．３７ （ＩＨｄ、Ｈ−１１）
、 ９．７６（ＩＨｓ、 Ｈ−２０）。
３）、 ６．２９ （ＩＨｄ、’ Ｊ＋。、１１１６Ｈ
ｚ、 Ｈ７１０）、 ７．３７ （ＩＨｄ、Ｈ−１１）
、 ９．７６（ＩＨｓ、 Ｈ−２０）。
□」
手続補正書（自発）
昭和６０年６月２７日
１、事件の表示
昭和５９年特許願第１７１７４８号
２、発明の名称
２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシルクイロノ
ライド誘導体およびその製造法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 財団法人 微生物化学研究会 性 所 東京部品用区上大崎３丁目１４番２３号−代表
者 市川篤二 。
ライド誘導体およびその製造法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 財団法人 微生物化学研究会 性 所 東京部品用区上大崎３丁目１４番２３号−代表
者 市川篤二 。
４、代理人
住 所 東京！板橋区小豆沢１丁目１番８号
。
。
６、補正の内容
（１）明細書第１４頁の表中、昭和６０年５月１４日提
出の手続補正書にて追加した実施例２２にらづけて２次
の実施例２３〜２４を追加する。
出の手続補正書にて追加した実施例２２にらづけて２次
の実施例２３〜２４を追加する。
」
（２）昭和５９年１０月３０日提出の手続補正書簡３頁
１１行「Ｎ−プロピル」を「Ｎ−プロピルアミン」に訂
正する。
１１行「Ｎ−プロピル」を「Ｎ−プロピルアミン」に訂
正する。
（３）明細書第４３頁最終行に、昭和６０年５月１４日
提出の手続補正書にて挿入した実施例２２に続けて次の
実施例２３〜２４を挿入する。
提出の手続補正書にて挿入した実施例２２に続けて次の
実施例２３〜２４を挿入する。
１．０ｇの２３−デオキシ−２３−ヨードマイカミノシ
ルタイロノライド ジメチルアセタールと０．７８ ｇ
のＮ−インプロピル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アミ
ンを１０ｍ乙の１こ アセトニトリ；Ｖｉａ解後３０時間加熱還流した。反応
液を４編し、得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、３回
水洗後ＩＭ炭酸水素す） ＩＪウム水溶液および水で各
１回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムにて
乾燥後濃縮した。
ルタイロノライド ジメチルアセタールと０．７８ ｇ
のＮ−インプロピル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アミ
ンを１０ｍ乙の１こ アセトニトリ；Ｖｉａ解後３０時間加熱還流した。反応
液を４編し、得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、３回
水洗後ＩＭ炭酸水素す） ＩＪウム水溶液および水で各
１回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムにて
乾燥後濃縮した。
得られた残渣を８ｍ４の０．５ Ｎ塩酸に溶解し、６０
分間反応させ、ジメチルアセタールを水解した。反応液
に４．５ｍｌの１Ｍ炭素す） ＩＪウム水溶液を加えて
反応を停止後。
分間反応させ、ジメチルアセタールを水解した。反応液
に４．５ｍｌの１Ｍ炭素す） ＩＪウム水溶液を加えて
反応を停止後。
酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシ
リカゲル〔キーゼルゲル６０ （２３０−４００メツシ
ユ）〕。
硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシ
リカゲル〔キーゼルゲル６０ （２３０−４００メツシ
ユ）〕。
〕溶媒系クロロホルムーメタノール２８％アンモニア水
（１０： １ ：０．１））カラムにて精製し、５２５
Ｉｒ１ｇ（収率５６％）の２３−デオキシ−２３−（Ｎ
−インプロピルーＮ−（：２−メトキシエチル）アミノ
洲〕マイカミノシルクイロノライドを得た。
（１０： １ ：０．１））カラムにて精製し、５２５
Ｉｒ１ｇ（収率５６％）の２３−デオキシ−２３−（Ｎ
−インプロピルーＮ−（：２−メトキシエチル）アミノ
洲〕マイカミノシルクイロノライドを得た。
１２６０．１１６０，１０５０，１０００，９７５，９
５０゜８３０゜ ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ：１．８２（３Ｈｓ、 Ｍｅ（２２））。
５０゜８３０゜ ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎ ＣＤＣ
１３） ：１．８２（３Ｈｓ、 Ｍｅ（２２））。
２．５１（ｂＨｓ、３’ −ＮＭｅ２）、４．２６（Ｉ
Ｈｄ、Ｊ＋’、２’７．５Ｈｚ、Ｈ−１’）、４．７４
（ＩＨｍ、Ｈ−１５）。
Ｈｄ、Ｊ＋’、２’７．５Ｈｚ、Ｈ−１’）、４．７４
（ＩＨｍ、Ｈ−１５）。
５．７２（ＩＨｄ、Ｊ＋ｓ＋＋＋１０Ｈｚ、Ｈ１３）＋
６．２４ （ＩＨｄ＋ ＪＩＯ＋１＋ １６Ｈｚ、 Ｈ
−１０）。
６．２４ （ＩＨｄ＋ ＪＩＯ＋１＋ １６Ｈｚ、 Ｈ
−１０）。
７．３２（ＩＨｄ、Ｈ１１）、９．７１（ＩＨｓ、Ｈ−
２０）。
２０）。
実施例２４
１．０ｇの２３．４’−ジデオキシ−２３−ヨードマイ
カミノシルクイロノライド ジメチルアセタールな実施
例２３と同様に反応処理精製を施し４９５ＩＴ１ｇ（収
率５３％）の２３．４’−ジ、デオキシ−２３−（Ｎ−
イソプロピル−Ｎ−（２−メトキシエテノ０アミノン〕
−マイカミノシルクイロノライドを得代１５８．１３０
゜ ９５０．８３０，７５０゜ ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎｃ ＣＤ
Ｃ１３） ： １．７９ （３Ｈｄ、 Ｊ〜ｌＨｚ。
カミノシルクイロノライド ジメチルアセタールな実施
例２３と同様に反応処理精製を施し４９５ＩＴ１ｇ（収
率５３％）の２３．４’−ジ、デオキシ−２３−（Ｎ−
イソプロピル−Ｎ−（２−メトキシエテノ０アミノン〕
−マイカミノシルクイロノライドを得代１５８．１３０
゜ ９５０．８３０，７５０゜ ＰＭＲ（δｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ、 ｉｎｃ ＣＤ
Ｃ１３） ： １．７９ （３Ｈｄ、 Ｊ〜ｌＨｚ。
Ｍｅ （２２））、 ２．１６（６Ｈｓ 、３’ ＮＭ
ｅ２）。
ｅ２）。
３．３２（３Ｈｓ、Ｎｅｏ”ｗＮ ）、４．１６（Ｉ
Ｈｄ。
Ｈｄ。
Ｊ、’、２’ ７．５Ｈｚ、 Ｈ−１’）、 ４．６７
（ＩＨｍ、Ｈ−１５）、 ・５．６８（Ｉ
Ｈｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈｚ、 Ｈ−１３）。
（ＩＨｍ、Ｈ−１５）、 ・５．６８（Ｉ
Ｈｄ、 Ｊ１３．＋４１０Ｈｚ、 Ｈ−１３）。
６．２２（ＩＨｄ、Ｊ＋ｇ、１１１６Ｈｚ、Ｈ１０）。
７．３０（ＩＨｄ、Ｈ−’１０）、９．６７（ＩＨｓ、
Ｈ−２０）。
Ｈ−２０）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１は 式▲数式、化学式、表等があります
▼ （ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｒ＾４ （式中、Ｒ＾３は低級アルキル基またはシ クロアルキル基を、Ｒ＾４は炭素数が１〜１０の分枝を
有していてもよいアルコキシ基、アリルオキシ基、テト
ラヒドロフラニル基、フラニル基、ベンジルオキシ基ま
たはベンズヒド リルオキシ基を、ｎは１乃至２の整数を意味する。） で示される基または 式▲数式、化学式、表等がありま
す▼ （式中、Ｒ＾５とＲ＾６は、両者同じであるかまたは相
互に異って水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルコキシメチル基 またはベンジルオキシメチル基を、Ｘはメチレン基また
は酸素原子を、意味する。またｎは前記と同じである。 ）で示される基を、Ｒ＾２は水素原子または水酸基を意
味する。］ で示される２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシ
ルタイロノライド誘導体。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ａは保護されたアルデヒド基を、Ｂはハロゲン
原子を、Ｒ＾２は水素原子または水酸基を、意味する。 ］で示されるタイロジン誘導体と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１は、式▲数式、化学式、表等があります
▼ （ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｒ＾４ （式中Ｒ＾３は、低級アルキル基またはシ クロアルキル基を、Ｒ＾４は炭素数が１〜１０の分枝を
有していてもよいアルコキシ基、アリルオキシ基、テト
ラヒドロフラニル基、フラニル基、ベンジルオキシ基ま
たはベンズヒドリルオキシ基を、ｎは１乃至２の整数を
、意味する。）で示される基または ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾５とＲ＾６とは、両者同じであるか、また
は相互に異って水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、低級アルコキシメチル基またはベンジルオキシ
メチル基を、Ｘは、メチレン基または酸素原子を、意味
する。またｎは前記と同じである。）で示されるアミノ
化合物とを反応させ、次いで、アルデヒド基の保護基を
除去することを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は前記と同じ。］ で示される２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシ
ルタイロノライド誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59171748A JPS6150993A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | ２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシルタイロノライド誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59171748A JPS6150993A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | ２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシルタイロノライド誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6150993A true JPS6150993A (ja) | 1986-03-13 |
| JPH0534360B2 JPH0534360B2 (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=15928958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59171748A Granted JPS6150993A (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | ２３位が塩基性基で置換されたマイカミノシルタイロノライド誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6150993A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5129485B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2013-01-30 | 公益財団法人微生物化学研究会 | 抗ペニシリン耐性肺炎球菌剤及び新規１６員環マクロライド誘導体 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5815997A (ja) * | 1981-07-09 | 1983-01-29 | Microbial Chem Res Found | 新規なタイロシン誘導体 |
| JPS5855497A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-04-01 | Microbial Chem Res Found | 新規タイロシン誘導体 |
| JPS5933298A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-23 | Microbial Chem Res Found | タイロシン誘導体 |
| JPS59128400A (ja) * | 1983-01-05 | 1984-07-24 | Microbial Chem Res Found | ２３−デオキシ−２３−ヘキサメチレンイミノマイカミノシルタイロノライドの誘導体 |
-
1984
- 1984-08-17 JP JP59171748A patent/JPS6150993A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5815997A (ja) * | 1981-07-09 | 1983-01-29 | Microbial Chem Res Found | 新規なタイロシン誘導体 |
| JPS5855497A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-04-01 | Microbial Chem Res Found | 新規タイロシン誘導体 |
| JPS5933298A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-02-23 | Microbial Chem Res Found | タイロシン誘導体 |
| JPS59128400A (ja) * | 1983-01-05 | 1984-07-24 | Microbial Chem Res Found | ２３−デオキシ−２３−ヘキサメチレンイミノマイカミノシルタイロノライドの誘導体 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5129485B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2013-01-30 | 公益財団法人微生物化学研究会 | 抗ペニシリン耐性肺炎球菌剤及び新規１６員環マクロライド誘導体 |
| US8507453B2 (en) | 2005-01-24 | 2013-08-13 | Microbial Chemistry Research Foundation | Anti-penicillin resistant pneumococci agent and novel 16-membered macrolide derivative |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0534360B2 (ja) | 1993-05-21 |
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