JPS6141107A - テ−パカツプリング素子の製造方法 - Google Patents

テ−パカツプリング素子の製造方法

Info

Publication number
JPS6141107A
JPS6141107A JP16185884A JP16185884A JPS6141107A JP S6141107 A JPS6141107 A JP S6141107A JP 16185884 A JP16185884 A JP 16185884A JP 16185884 A JP16185884 A JP 16185884A JP S6141107 A JPS6141107 A JP S6141107A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
coupling element
core layer
taper coupling
gaas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP16185884A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2502494B2 (ja
Inventor
Takeshi Hamada
健 浜田
Takao Shibuya
隆夫 渋谷
Masaru Wada
優 和田
Yuichi Shimizu
裕一 清水
Kunio Ito
国雄 伊藤
Iwao Teramoto
寺本 巖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP59161858A priority Critical patent/JP2502494B2/ja
Publication of JPS6141107A publication Critical patent/JPS6141107A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2502494B2 publication Critical patent/JP2502494B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1228Tapered waveguides, e.g. integrated spot-size transformers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光情報処理機器に用いることができるテーパカ
ップリング素子の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点 近年、テーパカップリング素子は光通信においての光情
達の伝達素子として注目を集めている。
光通信は伝送容量が大きい、減衰が少ない、雑音に強い
など従来の通信方法に比べて多くの利点を有している。
その中で光通信ネットワークの中で、光を一方向に安定
に伝えるテーパカップリング素子は従来その製造方法が
難しく、新しい製造方法が求められてい・る。
以下、図面を参照しながら、上述したような従来のテー
パカップリング素子の製造方法について説明する。
第1図a −aは従来のテーパカップリング素子の製造
方法の各工程における断面図を示すものである。第1図
において、1はGaAs基板である。
2はGa1−yA1アABクラッド層で、3はGaAs
:+7層、4はGa1.−、AJ、As コア層で、6
はGa1?l yAsクラッド層である。
以上のように構成されたテーパカップリング素子につい
て、以下その動作を説明する。
まず第1図の右方コア層4から入射された光はコア層3
との界面の斜面部でカップリングを生じコア層3へ伝達
される。しかし反対にコア層3側から入射した光は屈折
率の差によりコア層6へは。
伝達されず、光の方向制御を行なうテーパカップリング
素子が形成される。
しかしながら、第1図に示したような作製方法では、斜
面部の傾きは約60度と非常に急しゅんとなり、そのた
めに十分なカップリングが行なわれず、反射される光が
多いという欠点を有していた。
発明の目的 するものである。
発明の構成 この目的を達成するために本発明のテーパカップリング
素子の製造方法は、(100) GaAs基板上にGa
AJAsクラッド層、GaAs :17層、GaAlA
sキャップ層を連続成長させる工程と、〈011〉方向
に平行にキャップ層からコア層まで化学エツチングによ
り段差を形成する工程とをそなえてから構成されており
、この構成によってテーパ部のゆるやかなテープカップ
リング素子の作製が可能となる。
実施例の説明 以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
第2図a −dは本発明の第1の実施例におけるテーパ
カップリング素子の製造方法の各工程における断面図を
示すものである。従来例を示す第1図と同一箇所には同
一番号を付している。
(100) GaAs基板1上にGa0.6AJ。、、
Asクラッド層2を2 μm 1GaAs :7ア層3
を11irrn −、Gao 、3Alo 、 7As
キャップ層4を1μmの厚さに連続成長を行なう(第2
図a)。成長後の表面にフォトマスクをかけ〈oll〉
方向に平行にコア層3とクラッド層2の界面まで化学エ
ツチングによシ段差を形成する。エッチャントは硫酸系
のものを用い、室温でエツチングを行なう。GaAJA
sとGaA sのエツチング速度の差により、GaAg
コア層3の段差部は第2図すに示すように傾きの非常に
ゆるやかな斜面となる。
Ga0.3AJL0.7A8キャップ層4を選、択エツ
チングに・より除去した後、Ga。、g5A10.。s
As  コア層6及びGa。、 5AJ。sAsクラッ
ド層6を成長させ、テーパカップリング素子が形成され
る。
以上のように本実施例によれば、GaAs  コア層の
上にGaA/Asキャップ層をつけ、その上から化学エ
ツチングを行なうことにょシ、テーパ部の傾きの非常に
ゆるやかなテーパカップリング素子を作製することがで
きる。
発明の効果 以上のように本発明は、コア層の上にGaj’uAsキ
ャップ層を形成し、その上からエツチングを行なう工程
を設けることにより、テーパ部の傾きの非常にゆるやか
なテーパカップリング素子を作製することができ、その
実用的効果は大なるものがある。
【図面の簡単な説明】
第1図a −Cは従来のテーパカップリング素子の製造
方法の各工程における断面図、第2図a〜dは本発明の
実施例におけるテーパカップリング素子の製造方法の各
工程における断面図である。 1・・・・・・GaAs基板、2・・・・・・Ga1−
VAlアA8クラッド層、3・・・・・・GaAs コ
ア層、4・・・・・・♀a 1.Al zAmキャップ
層、5・・・・・・Ga、−8A/ xAtrコア層、
6・・・・・・Ga 1s−も48クラッド層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (100)GaAs基板上にGaAlAsクラッド層、
    GaAsコア層、GaAlAsキャップ層を順次成長さ
    せる工程と、<01@1@>方向に平行に前記キャップ
    層の上から前記コア層まで化学エッチングして段差を形
    成する工程とを含むことを特徴とするテーパカップリン
    グ素子の製造方法。
JP59161858A 1984-08-01 1984-08-01 テ−パカツプリング素子の製造方法 Expired - Lifetime JP2502494B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59161858A JP2502494B2 (ja) 1984-08-01 1984-08-01 テ−パカツプリング素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59161858A JP2502494B2 (ja) 1984-08-01 1984-08-01 テ−パカツプリング素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6141107A true JPS6141107A (ja) 1986-02-27
JP2502494B2 JP2502494B2 (ja) 1996-05-29

Family

ID=15743292

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59161858A Expired - Lifetime JP2502494B2 (ja) 1984-08-01 1984-08-01 テ−パカツプリング素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2502494B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63158505A (ja) * 1986-12-23 1988-07-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd テ−パ状導波路の作製方法
JPH0673682U (ja) * 1993-03-22 1994-10-18 株式会社日東機工商会 水液捕集用の受け皿構造体
EP1400822A2 (en) * 2002-09-20 2004-03-24 Nippon Telegraph and Telephone Corporation Mode-field transforming planar optical waveguide device and manufacturing method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5269643A (en) * 1975-12-08 1977-06-09 Toshiba Corp Optical lens

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5269643A (en) * 1975-12-08 1977-06-09 Toshiba Corp Optical lens

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63158505A (ja) * 1986-12-23 1988-07-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd テ−パ状導波路の作製方法
JPH0673682U (ja) * 1993-03-22 1994-10-18 株式会社日東機工商会 水液捕集用の受け皿構造体
EP1400822A2 (en) * 2002-09-20 2004-03-24 Nippon Telegraph and Telephone Corporation Mode-field transforming planar optical waveguide device and manufacturing method
EP1400822A3 (en) * 2002-09-20 2004-04-21 Nippon Telegraph and Telephone Corporation Mode-field transforming planar optical waveguide device and manufacturing method
US7076135B2 (en) 2002-09-20 2006-07-11 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Optical module and manufacturing method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JP2502494B2 (ja) 1996-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN115275768A (zh) 高速电吸收调制激光器芯片及其制备方法
JPS6141107A (ja) テ−パカツプリング素子の製造方法
JPS6017910Y2 (ja) インテグラルレンズ発光ダイオ−ド構造体
JP2601173B2 (ja) 半導体光導波路およびその製造方法
JPS6352489A (ja) 発光ダイオ−ドの製造方法
KR930010131B1 (ko) 테이퍼형 반도체 도파관 및 그의 제조방법
JP3275993B2 (ja) 半導体光素子接合部の製造方法
JP2005156674A (ja) 複合光導波路
JPH10117045A (ja) 光半導体素子
JPS59227179A (ja) 半導体レ−ザ装置及びその製造方法
JPH0451569A (ja) 半導体集積化光源の製造方法
JP3716039B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPS6381887A (ja) 半導体レ−ザ装置およびその製造方法
CN118508236A (zh) 基于对接生长工艺的激光器制作方法以及激光器
JPH063541A (ja) 導波路型グレーティング及びその作製法
JPS6290969A (ja) 光集積回路の製造方法
JPH05304334A (ja) 半導体レーザの製造方法
JPH0387817A (ja) 光スイッチの製造方法
JPH0282678A (ja) 半導体発光装置の製造方法
JPH0897501A (ja) 半導体装置の作製方法
JPS61284985A (ja) 半導体レ−ザ装置の作製方法
JPH10303511A (ja) 半導体レ−ザ装置の製造方法
JPH02209782A (ja) リッジ導波路の製造方法
JP2002124731A (ja) 光半導体装置の製造方法
JPS60161688A (ja) 半導体レ−ザの製造方法