JPS6141107A - テ−パカツプリング素子の製造方法 - Google Patents
テ−パカツプリング素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS6141107A JPS6141107A JP16185884A JP16185884A JPS6141107A JP S6141107 A JPS6141107 A JP S6141107A JP 16185884 A JP16185884 A JP 16185884A JP 16185884 A JP16185884 A JP 16185884A JP S6141107 A JPS6141107 A JP S6141107A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- coupling element
- core layer
- taper coupling
- gaas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1228—Tapered waveguides, e.g. integrated spot-size transformers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光情報処理機器に用いることができるテーパカ
ップリング素子の製造方法に関するものである。
ップリング素子の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
近年、テーパカップリング素子は光通信においての光情
達の伝達素子として注目を集めている。
達の伝達素子として注目を集めている。
光通信は伝送容量が大きい、減衰が少ない、雑音に強い
など従来の通信方法に比べて多くの利点を有している。
など従来の通信方法に比べて多くの利点を有している。
その中で光通信ネットワークの中で、光を一方向に安定
に伝えるテーパカップリング素子は従来その製造方法が
難しく、新しい製造方法が求められてい・る。
に伝えるテーパカップリング素子は従来その製造方法が
難しく、新しい製造方法が求められてい・る。
以下、図面を参照しながら、上述したような従来のテー
パカップリング素子の製造方法について説明する。
パカップリング素子の製造方法について説明する。
第1図a −aは従来のテーパカップリング素子の製造
方法の各工程における断面図を示すものである。第1図
において、1はGaAs基板である。
方法の各工程における断面図を示すものである。第1図
において、1はGaAs基板である。
2はGa1−yA1アABクラッド層で、3はGaAs
:+7層、4はGa1.−、AJ、As コア層で、6
はGa1?l yAsクラッド層である。
:+7層、4はGa1.−、AJ、As コア層で、6
はGa1?l yAsクラッド層である。
以上のように構成されたテーパカップリング素子につい
て、以下その動作を説明する。
て、以下その動作を説明する。
まず第1図の右方コア層4から入射された光はコア層3
との界面の斜面部でカップリングを生じコア層3へ伝達
される。しかし反対にコア層3側から入射した光は屈折
率の差によりコア層6へは。
との界面の斜面部でカップリングを生じコア層3へ伝達
される。しかし反対にコア層3側から入射した光は屈折
率の差によりコア層6へは。
伝達されず、光の方向制御を行なうテーパカップリング
素子が形成される。
素子が形成される。
しかしながら、第1図に示したような作製方法では、斜
面部の傾きは約60度と非常に急しゅんとなり、そのた
めに十分なカップリングが行なわれず、反射される光が
多いという欠点を有していた。
面部の傾きは約60度と非常に急しゅんとなり、そのた
めに十分なカップリングが行なわれず、反射される光が
多いという欠点を有していた。
発明の目的
するものである。
発明の構成
この目的を達成するために本発明のテーパカップリング
素子の製造方法は、(100) GaAs基板上にGa
AJAsクラッド層、GaAs :17層、GaAlA
sキャップ層を連続成長させる工程と、〈011〉方向
に平行にキャップ層からコア層まで化学エツチングによ
り段差を形成する工程とをそなえてから構成されており
、この構成によってテーパ部のゆるやかなテープカップ
リング素子の作製が可能となる。
素子の製造方法は、(100) GaAs基板上にGa
AJAsクラッド層、GaAs :17層、GaAlA
sキャップ層を連続成長させる工程と、〈011〉方向
に平行にキャップ層からコア層まで化学エツチングによ
り段差を形成する工程とをそなえてから構成されており
、この構成によってテーパ部のゆるやかなテープカップ
リング素子の作製が可能となる。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第2図a −dは本発明の第1の実施例におけるテーパ
カップリング素子の製造方法の各工程における断面図を
示すものである。従来例を示す第1図と同一箇所には同
一番号を付している。
カップリング素子の製造方法の各工程における断面図を
示すものである。従来例を示す第1図と同一箇所には同
一番号を付している。
(100) GaAs基板1上にGa0.6AJ。、、
Asクラッド層2を2 μm 1GaAs :7ア層3
を11irrn −、Gao 、3Alo 、 7As
キャップ層4を1μmの厚さに連続成長を行なう(第2
図a)。成長後の表面にフォトマスクをかけ〈oll〉
方向に平行にコア層3とクラッド層2の界面まで化学エ
ツチングによシ段差を形成する。エッチャントは硫酸系
のものを用い、室温でエツチングを行なう。GaAJA
sとGaA sのエツチング速度の差により、GaAg
コア層3の段差部は第2図すに示すように傾きの非常に
ゆるやかな斜面となる。
Asクラッド層2を2 μm 1GaAs :7ア層3
を11irrn −、Gao 、3Alo 、 7As
キャップ層4を1μmの厚さに連続成長を行なう(第2
図a)。成長後の表面にフォトマスクをかけ〈oll〉
方向に平行にコア層3とクラッド層2の界面まで化学エ
ツチングによシ段差を形成する。エッチャントは硫酸系
のものを用い、室温でエツチングを行なう。GaAJA
sとGaA sのエツチング速度の差により、GaAg
コア層3の段差部は第2図すに示すように傾きの非常に
ゆるやかな斜面となる。
Ga0.3AJL0.7A8キャップ層4を選、択エツ
チングに・より除去した後、Ga。、g5A10.。s
As コア層6及びGa。、 5AJ。sAsクラッ
ド層6を成長させ、テーパカップリング素子が形成され
る。
チングに・より除去した後、Ga。、g5A10.。s
As コア層6及びGa。、 5AJ。sAsクラッ
ド層6を成長させ、テーパカップリング素子が形成され
る。
以上のように本実施例によれば、GaAs コア層の
上にGaA/Asキャップ層をつけ、その上から化学エ
ツチングを行なうことにょシ、テーパ部の傾きの非常に
ゆるやかなテーパカップリング素子を作製することがで
きる。
上にGaA/Asキャップ層をつけ、その上から化学エ
ツチングを行なうことにょシ、テーパ部の傾きの非常に
ゆるやかなテーパカップリング素子を作製することがで
きる。
発明の効果
以上のように本発明は、コア層の上にGaj’uAsキ
ャップ層を形成し、その上からエツチングを行なう工程
を設けることにより、テーパ部の傾きの非常にゆるやか
なテーパカップリング素子を作製することができ、その
実用的効果は大なるものがある。
ャップ層を形成し、その上からエツチングを行なう工程
を設けることにより、テーパ部の傾きの非常にゆるやか
なテーパカップリング素子を作製することができ、その
実用的効果は大なるものがある。
第1図a −Cは従来のテーパカップリング素子の製造
方法の各工程における断面図、第2図a〜dは本発明の
実施例におけるテーパカップリング素子の製造方法の各
工程における断面図である。 1・・・・・・GaAs基板、2・・・・・・Ga1−
VAlアA8クラッド層、3・・・・・・GaAs コ
ア層、4・・・・・・♀a 1.Al zAmキャップ
層、5・・・・・・Ga、−8A/ xAtrコア層、
6・・・・・・Ga 1s−も48クラッド層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図
方法の各工程における断面図、第2図a〜dは本発明の
実施例におけるテーパカップリング素子の製造方法の各
工程における断面図である。 1・・・・・・GaAs基板、2・・・・・・Ga1−
VAlアA8クラッド層、3・・・・・・GaAs コ
ア層、4・・・・・・♀a 1.Al zAmキャップ
層、5・・・・・・Ga、−8A/ xAtrコア層、
6・・・・・・Ga 1s−も48クラッド層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図
Claims (1)
- (100)GaAs基板上にGaAlAsクラッド層、
GaAsコア層、GaAlAsキャップ層を順次成長さ
せる工程と、<01@1@>方向に平行に前記キャップ
層の上から前記コア層まで化学エッチングして段差を形
成する工程とを含むことを特徴とするテーパカップリン
グ素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59161858A JP2502494B2 (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | テ−パカツプリング素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59161858A JP2502494B2 (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | テ−パカツプリング素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6141107A true JPS6141107A (ja) | 1986-02-27 |
JP2502494B2 JP2502494B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=15743292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59161858A Expired - Lifetime JP2502494B2 (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | テ−パカツプリング素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2502494B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63158505A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | テ−パ状導波路の作製方法 |
JPH0673682U (ja) * | 1993-03-22 | 1994-10-18 | 株式会社日東機工商会 | 水液捕集用の受け皿構造体 |
EP1400822A2 (en) * | 2002-09-20 | 2004-03-24 | Nippon Telegraph and Telephone Corporation | Mode-field transforming planar optical waveguide device and manufacturing method |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5269643A (en) * | 1975-12-08 | 1977-06-09 | Toshiba Corp | Optical lens |
-
1984
- 1984-08-01 JP JP59161858A patent/JP2502494B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5269643A (en) * | 1975-12-08 | 1977-06-09 | Toshiba Corp | Optical lens |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63158505A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | テ−パ状導波路の作製方法 |
JPH0673682U (ja) * | 1993-03-22 | 1994-10-18 | 株式会社日東機工商会 | 水液捕集用の受け皿構造体 |
EP1400822A2 (en) * | 2002-09-20 | 2004-03-24 | Nippon Telegraph and Telephone Corporation | Mode-field transforming planar optical waveguide device and manufacturing method |
EP1400822A3 (en) * | 2002-09-20 | 2004-04-21 | Nippon Telegraph and Telephone Corporation | Mode-field transforming planar optical waveguide device and manufacturing method |
US7076135B2 (en) | 2002-09-20 | 2006-07-11 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical module and manufacturing method therefor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2502494B2 (ja) | 1996-05-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN115275768A (zh) | 高速电吸收调制激光器芯片及其制备方法 | |
JPS6141107A (ja) | テ−パカツプリング素子の製造方法 | |
JPS6017910Y2 (ja) | インテグラルレンズ発光ダイオ−ド構造体 | |
JP2601173B2 (ja) | 半導体光導波路およびその製造方法 | |
JPS6352489A (ja) | 発光ダイオ−ドの製造方法 | |
KR930010131B1 (ko) | 테이퍼형 반도체 도파관 및 그의 제조방법 | |
JP3275993B2 (ja) | 半導体光素子接合部の製造方法 | |
JP2005156674A (ja) | 複合光導波路 | |
JPH10117045A (ja) | 光半導体素子 | |
JPS59227179A (ja) | 半導体レ−ザ装置及びその製造方法 | |
JPH0451569A (ja) | 半導体集積化光源の製造方法 | |
JP3716039B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPS6381887A (ja) | 半導体レ−ザ装置およびその製造方法 | |
CN118508236A (zh) | 基于对接生长工艺的激光器制作方法以及激光器 | |
JPH063541A (ja) | 導波路型グレーティング及びその作製法 | |
JPS6290969A (ja) | 光集積回路の製造方法 | |
JPH05304334A (ja) | 半導体レーザの製造方法 | |
JPH0387817A (ja) | 光スイッチの製造方法 | |
JPH0282678A (ja) | 半導体発光装置の製造方法 | |
JPH0897501A (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
JPS61284985A (ja) | 半導体レ−ザ装置の作製方法 | |
JPH10303511A (ja) | 半導体レ−ザ装置の製造方法 | |
JPH02209782A (ja) | リッジ導波路の製造方法 | |
JP2002124731A (ja) | 光半導体装置の製造方法 | |
JPS60161688A (ja) | 半導体レ−ザの製造方法 |