JPS6139918A - 薄膜磁気ヘツド用スライダ - Google Patents
薄膜磁気ヘツド用スライダInfo
- Publication number
- JPS6139918A JPS6139918A JP16128184A JP16128184A JPS6139918A JP S6139918 A JPS6139918 A JP S6139918A JP 16128184 A JP16128184 A JP 16128184A JP 16128184 A JP16128184 A JP 16128184A JP S6139918 A JPS6139918 A JP S6139918A
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- Japan
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- thin film
- slider
- magnetic head
- film magnetic
- tin
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、スライダの端面に磁性体、導電体および絶縁
体の積層物よりなる薄膜トランスジューツ金被着させた
形態のいわゆる薄膜磁気ヘッドに使用する好適なスライ
ダに関する。
体の積層物よりなる薄膜トランスジューツ金被着させた
形態のいわゆる薄膜磁気ヘッドに使用する好適なスライ
ダに関する。
磁気ディスクファイルの分野においてこの種の薄膜磁気
ヘッドは磁気ディスクより浮上した状態で使用する方法
が広く採用されている。データ処理技術が進歩し、デー
タが記憶ディスク面により高密度に詰め込まれると、ヘ
ッドはディスク面により近い距離を保って使用すること
が必要とされる。
ヘッドは磁気ディスクより浮上した状態で使用する方法
が広く採用されている。データ処理技術が進歩し、デー
タが記憶ディスク面により高密度に詰め込まれると、ヘ
ッドはディスク面により近い距離を保って使用すること
が必要とされる。
このようか薄膜磁気ベッド用のスライダ材は、該ヘッド
形成プロセスにおいて薬品や熱等に対して安定であるこ
と、機械加工時に変形や変質しないこと、寸法精度が十
分に出やすいこと、切削、研削、研摩等が容易に行える
こと、及び磁気ディスクとの摺動性に優れること等が必
要である。そのためスライダ材に要求される物性として
は、（１）熱膨張係数が薄膜トランスジューサを含む磁
気ヘッドアセンブリに使用する材料と近いこと、（２）
ヤング率が大きいこと、（３）熱伝導率が大きいこと、
（４）硬さが極端に大きくなく、好ましくけビッカース
硬さで１５００ ”／−２以下であること、（５）比重
が小さいこと、などが挙げられる。
形成プロセスにおいて薬品や熱等に対して安定であるこ
と、機械加工時に変形や変質しないこと、寸法精度が十
分に出やすいこと、切削、研削、研摩等が容易に行える
こと、及び磁気ディスクとの摺動性に優れること等が必
要である。そのためスライダ材に要求される物性として
は、（１）熱膨張係数が薄膜トランスジューサを含む磁
気ヘッドアセンブリに使用する材料と近いこと、（２）
ヤング率が大きいこと、（３）熱伝導率が大きいこと、
（４）硬さが極端に大きくなく、好ましくけビッカース
硬さで１５００ ”／−２以下であること、（５）比重
が小さいこと、などが挙げられる。
従来の薄膜磁気ヘッド用スライダ材である例えば特公昭
５８−５４７０号公報に開示されているＡｌ２Ｏ３とＴ
ＩＣの混合物から製造されるスライダ材は、熱伝導率が
大きくないこと、硬さが著しく大きいとと等のために長
時間の使用中に磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触によ
る事故が発生し易く、必ずしも信頼性の点で十分でない
という問題があった。
５８−５４７０号公報に開示されているＡｌ２Ｏ３とＴ
ＩＣの混合物から製造されるスライダ材は、熱伝導率が
大きくないこと、硬さが著しく大きいとと等のために長
時間の使用中に磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触によ
る事故が発生し易く、必ずしも信頼性の点で十分でない
という問題があった。
本発明の目的は従来の薄膜磁気ヘッド用スライダ材にお
ける不具合点を解消し、特に熱伝導率が大きく、硬さが
極端に大きくないへ、磁気ディスクとの摺動性の優れた
薄膜磁気ヘッド用スライダを提供するにある。
ける不具合点を解消し、特に熱伝導率が大きく、硬さが
極端に大きくないへ、磁気ディスクとの摺動性の優れた
薄膜磁気ヘッド用スライダを提供するにある。
本発明は上記の薄膜磁気ヘッド用スライダ材として具備
すべき条件を満足する材料として端とＴｉＮより製造さ
れた材料゛が極めて優れていることを見い出１−たこと
に基づく。すなわち、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライ
ダは、ＡｌＮとＴｉＮとの容量比が５０ ： ５０ない
し９９：１の範囲にあるＡｌＮとＴｉＮとの混合物から
製造された焼結体からなること全特徴とするものである
。
すべき条件を満足する材料として端とＴｉＮより製造さ
れた材料゛が極めて優れていることを見い出１−たこと
に基づく。すなわち、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライ
ダは、ＡｌＮとＴｉＮとの容量比が５０ ： ５０ない
し９９：１の範囲にあるＡｌＮとＴｉＮとの混合物から
製造された焼結体からなること全特徴とするものである
。
本発明になる上記ＡｌＮとＴｉＮとの焼結体よりなるス
ライダは、薄膜磁気ヘッド素子を形成するプロセスにお
いて使用する薬品や熱等に対して安定であること、熱膨
張係数が薄膜トランス−ジューサを含む磁気ヘッドアセ
ンブリに使用する材料に近くできること、ヤング率が大
きく変形等が起らないこと、熱伝導率が大きく従って薄
膜磁気ヘッドとして使用している時に発生する熱を逃し
やすいこと、ビッカース硬さが１５００Ｙ７．以下で長
時間の使用に際しても磁気ディスクに対してダメージを
与えないこと、比重が小さく従って磁気ディスク上への
浮上が容易に行えること等の点で従来材にない利点を持
ち、特に磁気ディスクとの摺動性が従来の材料に比べ著
しく優れる。
ライダは、薄膜磁気ヘッド素子を形成するプロセスにお
いて使用する薬品や熱等に対して安定であること、熱膨
張係数が薄膜トランス−ジューサを含む磁気ヘッドアセ
ンブリに使用する材料に近くできること、ヤング率が大
きく変形等が起らないこと、熱伝導率が大きく従って薄
膜磁気ヘッドとして使用している時に発生する熱を逃し
やすいこと、ビッカース硬さが１５００Ｙ７．以下で長
時間の使用に際しても磁気ディスクに対してダメージを
与えないこと、比重が小さく従って磁気ディスク上への
浮上が容易に行えること等の点で従来材にない利点を持
ち、特に磁気ディスクとの摺動性が従来の材料に比べ著
しく優れる。
実施例１
純度９８チで平均粒径が３μｒｎ （Ｄ ＡｌＮ粉末に
純度９９チで平均粒径が２μｍのＴｉＮ粉末を夫々１．
５．１０．２０．３０および５０ ｖｏＪ ％添加し、
同材質のボールから成るボールミルを用いて１００時間
粉砕混合した諏粉末混合物全夫々成形後、黒鉛型の中に
入れ、温度２０００℃、荷重３ Ｑ ＭＰａで１時間窒
素ミス（７６０Ｔｏｒｒ）中：で゛・ホットプレスして
焼結体を得た。
純度９９チで平均粒径が２μｍのＴｉＮ粉末を夫々１．
５．１０．２０．３０および５０ ｖｏＪ ％添加し、
同材質のボールから成るボールミルを用いて１００時間
粉砕混合した諏粉末混合物全夫々成形後、黒鉛型の中に
入れ、温度２０００℃、荷重３ Ｑ ＭＰａで１時間窒
素ミス（７６０Ｔｏｒｒ）中：で゛・ホットプレスして
焼結体を得た。
本実施例によって得た夫々の焼結体の密度はいずれもＡ
ｌＮとＴｉＮが夫々上記の量で混合されているとして単
純に計算した密度に対して９９．７〜１００．６％の範
囲にあった。すなわち、空隙率が極めて低いものであっ
た。また、該焼結体の破面、或いは鏡面研摩面を走査型
電子顕微鏡を用いて観察した結果では気孔は観察されな
かった。
ｌＮとＴｉＮが夫々上記の量で混合されているとして単
純に計算した密度に対して９９．７〜１００．６％の範
囲にあった。すなわち、空隙率が極めて低いものであっ
た。また、該焼結体の破面、或いは鏡面研摩面を走査型
電子顕微鏡を用いて観察した結果では気孔は観察されな
かった。
さらにＸ線回折の結果は）ＪＨ＋ ＴｉＮの回折ピーク
が主ピークであり、該焼結体はり＋ ＴｉＮの混合物が
主成分であることがわかった。第１表に該焼結体の特性
を示す。熱伝導率が大きく、ビッカース硬さが１５００
ｋｇ／ｖｍ２以下であることが形成したものの例で、
薄膜磁気ヘッドは該焼結体より成るスライダ１０と薄膜
トランスジューサ２より成る。薄膜トランスデユーサ２
は基体をなすスライダ１の端面に形成されており、磁性
体、導電体および絶縁体の積層物よりなる。
が主ピークであり、該焼結体はり＋ ＴｉＮの混合物が
主成分であることがわかった。第１表に該焼結体の特性
を示す。熱伝導率が大きく、ビッカース硬さが１５００
ｋｇ／ｖｍ２以下であることが形成したものの例で、
薄膜磁気ヘッドは該焼結体より成るスライダ１０と薄膜
トランスジューサ２より成る。薄膜トランスデユーサ２
は基体をなすスライダ１の端面に形成されており、磁性
体、導電体および絶縁体の積層物よりなる。
第２表は本実施例になる第１表記載の各扁の材料をスラ
イダとして用いた第１図に示す薄膜磁気ヘッドのコンタ
クト・スタート・ストップ（Ｃ８Ｓ）寿命である。ここ
で、Ｃ８Ｓ寿命は周速５０ｒｎｌｔｓで測定したもので
あり、ヘッドクラッシュに至るまでの回数を従来のＡ７
２０ｇ−ＴｉＣ材の回数との比で示した。第２表から明
らかな通り、本実施例になる薄膜磁気ヘッドは従来のＡ
ノ２０３−ＴｉＣ材をスライ゛ダ材として用いたものに
比べ約１０〜２０倍の寿命がある。
イダとして用いた第１図に示す薄膜磁気ヘッドのコンタ
クト・スタート・ストップ（Ｃ８Ｓ）寿命である。ここ
で、Ｃ８Ｓ寿命は周速５０ｒｎｌｔｓで測定したもので
あり、ヘッドクラッシュに至るまでの回数を従来のＡ７
２０ｇ−ＴｉＣ材の回数との比で示した。第２表から明
らかな通り、本実施例になる薄膜磁気ヘッドは従来のＡ
ノ２０３−ＴｉＣ材をスライ゛ダ材として用いたものに
比べ約１０〜２０倍の寿命がある。
実施例２
純度９８チ、平均粒径３μｍのＡｌＮ粉末に純度９９チ
、平均粒径２μｍのＴｉＮ粉末を夫々１．５．１０．２
０．３０．５０ ｖｏＪＪチ、および純度９９．５％、
平均粒径１ ｐｍのＹ２Ｏ３粉末をＡ７Ｎに対して３０
０７％を加え、実施例１に記載した方法と同様にしてボ
ールミルで粉砕混合したのち夫々成形体に形成した。該
成形体を次いで窒素ガス中（７６０ｔｏｒｒ）で、温度
１８００℃で１時間焼成し、焼結体とした。紋焼結体の
密度はＡｌＮ 、 ＴｉＮ 、 Ｙ２Ｏ３がそれ°ぞれ
上記の量で混合されているとして計算した密度に対して
９９．３〜１００．３％であり、無気孔質の焼結体であ
った。該焼結体の特性は第３表に示す通りであった。熱
伝導率が太き′く、ビッカース硬さは１６００ ｋｌ？
／ｍｍ２以下であり、曲げ強さも大きいことがわかる。
、平均粒径２μｍのＴｉＮ粉末を夫々１．５．１０．２
０．３０．５０ ｖｏＪＪチ、および純度９９．５％、
平均粒径１ ｐｍのＹ２Ｏ３粉末をＡ７Ｎに対して３０
０７％を加え、実施例１に記載した方法と同様にしてボ
ールミルで粉砕混合したのち夫々成形体に形成した。該
成形体を次いで窒素ガス中（７６０ｔｏｒｒ）で、温度
１８００℃で１時間焼成し、焼結体とした。紋焼結体の
密度はＡｌＮ 、 ＴｉＮ 、 Ｙ２Ｏ３がそれ°ぞれ
上記の量で混合されているとして計算した密度に対して
９９．３〜１００．３％であり、無気孔質の焼結体であ
った。該焼結体の特性は第３表に示す通りであった。熱
伝導率が太き′く、ビッカース硬さは１６００ ｋｌ？
／ｍｍ２以下であり、曲げ強さも大きいことがわかる。
さらに同様に該焼結体を用いて第１図に示す薄膜磁気ヘ
ッドを製作し、実施例１に記載したものと同様にしてＣ
８Ｓ寿命を測定した結果を第３表に併記した。本実施例
になる焼結体も従来のＡ／２０３−Ｔｉｅ材全ス２イダ
材としたものに比べ約１０〜２０倍の寿命があることが
わかる。
ッドを製作し、実施例１に記載したものと同様にしてＣ
８Ｓ寿命を測定した結果を第３表に併記した。本実施例
になる焼結体も従来のＡ／２０３−Ｔｉｅ材全ス２イダ
材としたものに比べ約１０〜２０倍の寿命があることが
わかる。
本発明によるＡｌＮ−ＴｉＮ系セラミックス〜焼結体よ
りなるスライダは、熱伝導率、強度が大きく、硬さが極
端に大きくなく、薄膜磁気ヘッド用スライダ材としての
要求信頼度を満足する。
りなるスライダは、熱伝導率、強度が大きく、硬さが極
端に大きくなく、薄膜磁気ヘッド用スライダ材としての
要求信頼度を満足する。
また第１表、第２表及び第３表に示す特性のほか、耐熱
性、耐酸化性、耐食性、耐薬品性が優れる。さらに本発
明になるＡ／Ｎ−！ｒｉＮセラミックスはＴｉＮの量が
１０ ｖｏｌチより多くなると著しく電気抵抗率が少さ
くなり、抵抗体や導電材料として使用できる。
性、耐酸化性、耐食性、耐薬品性が優れる。さらに本発
明になるＡ／Ｎ−！ｒｉＮセラミックスはＴｉＮの量が
１０ ｖｏｌチより多くなると著しく電気抵抗率が少さ
くなり、抵抗体や導電材料として使用できる。
鴬〜〜驚Ｎ＼嶌へへ
第 １ 表
第 ２ 表
第 ３ 表
第１図は本発明のスライダーを用いた薄膜磁気ヘッドの
実施例の斜視図である。 １・・・スライダ ２・・・薄膜トランスジュー
サ第１図
実施例の斜視図である。 １・・・スライダ ２・・・薄膜トランスジュー
サ第１図
Claims (1)
- ＡｌＮとＴｉＮとの容量比が５０：５０ないし９９：１
の範囲にあるＡｌＮとＴｉＮとの混合物から製造された
焼結体からなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド用スラ
イダ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16128184A JPS6139918A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 薄膜磁気ヘツド用スライダ |
| US06/757,493 US4639803A (en) | 1984-07-31 | 1985-07-22 | Thin film magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16128184A JPS6139918A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 薄膜磁気ヘツド用スライダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139918A true JPS6139918A (ja) | 1986-02-26 |
| JPH028998B2 JPH028998B2 (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=15732121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16128184A Granted JPS6139918A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 薄膜磁気ヘツド用スライダ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4639803A (ja) |
| JP (1) | JPS6139918A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62153173A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-07-08 | 株式会社東芝 | 窒化アルミニウム焼結体およびその製造方法 |
| JPS6317262A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | 株式会社東芝 | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
| JPS63281408A (ja) * | 1987-05-13 | 1988-11-17 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド用スライダおよびその製法 |
| JPS63291877A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-29 | Nippon Denso Co Ltd | 非酸化物セラミックスの製造方法 |
| JPS647316A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Hitachi Ltd | Magnetic disk device |
| JPH06166573A (ja) * | 1991-08-22 | 1994-06-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体 |
| JP2014507363A (ja) * | 2010-12-14 | 2014-03-27 | ヘクサテック，インコーポレイテッド | 多結晶質窒化アルミニウム焼結体の熱膨張処理、および半導体製造へのその応用 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0622053B2 (ja) * | 1986-04-23 | 1994-03-23 | 住友特殊金属株式会社 | 基板材料 |
| JPS6446216A (en) * | 1987-08-14 | 1989-02-20 | Tdk Corp | Magnetic head |
| US5734519A (en) * | 1993-03-25 | 1998-03-31 | International Business Machines Corporation | Contact magnetic recording disk file with improved head assembly |
| US5761001A (en) * | 1994-03-31 | 1998-06-02 | Nec Corporation | Magnetic head assembly and a magnetic disk apparatus using the same |
| US5687046A (en) * | 1994-05-25 | 1997-11-11 | Maxtor Corporation | Vertical recording using a tri-pad head |
| US5958813A (en) * | 1996-11-26 | 1999-09-28 | Kyocera Corporation | Semi-insulating aluminum nitride sintered body |
| JP3097663B2 (ja) * | 1998-06-09 | 2000-10-10 | 日本電気株式会社 | 磁気ディスク装置 |
| JP2003223704A (ja) * | 2002-01-25 | 2003-08-08 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッドおよびデータ記録再生装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4251841A (en) * | 1979-06-01 | 1981-02-17 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider assembly |
| JPS57198578A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Material for magnetic head and slider |
| DE3247985C2 (de) * | 1982-12-24 | 1992-04-16 | W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau | Keramischer Träger |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16128184A patent/JPS6139918A/ja active Granted
-
1985
- 1985-07-22 US US06/757,493 patent/US4639803A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62153173A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-07-08 | 株式会社東芝 | 窒化アルミニウム焼結体およびその製造方法 |
| JPS6317262A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | 株式会社東芝 | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
| JPS63281408A (ja) * | 1987-05-13 | 1988-11-17 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド用スライダおよびその製法 |
| JPS63291877A (ja) * | 1987-05-26 | 1988-11-29 | Nippon Denso Co Ltd | 非酸化物セラミックスの製造方法 |
| JPS647316A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Hitachi Ltd | Magnetic disk device |
| JPH06166573A (ja) * | 1991-08-22 | 1994-06-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体 |
| JP2014507363A (ja) * | 2010-12-14 | 2014-03-27 | ヘクサテック，インコーポレイテッド | 多結晶質窒化アルミニウム焼結体の熱膨張処理、および半導体製造へのその応用 |
| JP2018080103A (ja) * | 2010-12-14 | 2018-05-24 | ヘクサテック，インコーポレイテッド | 多結晶質窒化アルミニウム焼結体の熱膨張処理、および半導体製造へのその応用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH028998B2 (ja) | 1990-02-28 |
| US4639803A (en) | 1987-01-27 |
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