JPS6138620A - 処理剤の自動溶解装置 - Google Patents
処理剤の自動溶解装置Info
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- JPS6138620A JPS6138620A JP15922784A JP15922784A JPS6138620A JP S6138620 A JPS6138620 A JP S6138620A JP 15922784 A JP15922784 A JP 15922784A JP 15922784 A JP15922784 A JP 15922784A JP S6138620 A JPS6138620 A JP S6138620A
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- tank
- vessel
- treating agent
- stirrer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は工業用水、排水等の水処理に用いる処理剤の自
動溶解装置に関する。
動溶解装置に関する。
（従来の技術）
従来、工業用水、生活排水、都市下水等で排出される水
な浄化する目的で用いる処理剤の溶解装置としてｒｉ第
５図に示す如く、上面に給水装置ａと処理剤供給装置す
とを設け、内部に攪拌機Ｃを取付け、下方に溶解液の放
出口ｄを設けて成る溶解槽ｅを一般とする。尚図中ｆＨ
攪拌機Ｃを駆動させるモーターを示す。
な浄化する目的で用いる処理剤の溶解装置としてｒｉ第
５図に示す如く、上面に給水装置ａと処理剤供給装置す
とを設け、内部に攪拌機Ｃを取付け、下方に溶解液の放
出口ｄを設けて成る溶解槽ｅを一般とする。尚図中ｆＨ
攪拌機Ｃを駆動させるモーターを示す。
しかし前記装置では溶解液を全量取出した後、再度水と
処理剤とを溶解槽ｅ内に供給・し・処・、理剤を水に溶
解させて溶液となす工程の繰返しであるから一回の溶解
量を多ぐする必要かあり、従って溶解槽ｅは大型となり
、更に溶解液の水処理工程への補給な連続して行わせる
には溶解槽ｅを２基設けなければならない問題があす、
溶解槽を２基使用し交互運転する場合には設備費が高く
なり、溶解槽１基の場合は溶解楕円への水および処理剤
の供給等の前準備に長時間必要であり、かつ省力化、装
置のスペースの関係から高濃度の溶解液となすため一夏
に多量の処理剤を水に溶解させるのに強大な攪拌力が必
要となり、処理剤の不溶解（いわゆるままこ）或いは°
港溶解分が溶液中に存在する欠点かるり、また溶解液を
自然放置するとままと或いは未溶解分が沈降して溶解液
の上下で濃度差異が生ずるため溶解液の使用前に再度攪
拌しなければならない欠点がある。
処理剤とを溶解槽ｅ内に供給・し・処・、理剤を水に溶
解させて溶液となす工程の繰返しであるから一回の溶解
量を多ぐする必要かあり、従って溶解槽ｅは大型となり
、更に溶解液の水処理工程への補給な連続して行わせる
には溶解槽ｅを２基設けなければならない問題があす、
溶解槽を２基使用し交互運転する場合には設備費が高く
なり、溶解槽１基の場合は溶解楕円への水および処理剤
の供給等の前準備に長時間必要であり、かつ省力化、装
置のスペースの関係から高濃度の溶解液となすため一夏
に多量の処理剤を水に溶解させるのに強大な攪拌力が必
要となり、処理剤の不溶解（いわゆるままこ）或いは°
港溶解分が溶液中に存在する欠点かるり、また溶解液を
自然放置するとままと或いは未溶解分が沈降して溶解液
の上下で濃度差異が生ずるため溶解液の使用前に再度攪
拌しなければならない欠点がある。
特に処理剤として例えばポリアクリルアミドのような高
分子処理剤を用いた場合には長時間攪拌或いは攪拌力が
強いことによるこの高分子凝集剤の分子構造が剪断され
凝集力が低下し・処理効果に影響を与える問題がある。
分子処理剤を用いた場合には長時間攪拌或いは攪拌力が
強いことによるこの高分子凝集剤の分子構造が剪断され
凝集力が低下し・処理効果に影響を与える問題がある。
処理剤のままこ或いに未浴解分がなくかつ上下で濃度差
のない溶解液を連続して供給出来る装置の開発が望まれ
る。
のない溶解液を連続して供給出来る装置の開発が望まれ
る。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明はかかる要望に適合する処理剤の自動溶解装置？
提供することを目−的としたものである。
提供することを目−的としたものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明は給水装置と処理剤供給装置とを付設した溶解槽
と、該溶解槽と連なる待機槽とを設け８、両槽にそれぞ
れ攪拌機を取付けると共に該待機槽に溶解液放出口を設
けて成る。
と、該溶解槽と連なる待機槽とを設け８、両槽にそれぞ
れ攪拌機を取付けると共に該待機槽に溶解液放出口を設
けて成る。
（実施例）
以下本発明を図面により説明する。
第１図ないし第３図は本発明実施の１例な示すもので、
図面で（１）ハ給水装置（２）と処理剤供給装と連なる
待機槽を示し、待機槽（４）は第１待機槽（４ａ）と第
２待機槽（４ｂ）との２槽で構成し、第１図に示すごと
く大型の槽Ａ内を仕切板（５）で仕切って溶解槽（１）
の左隣りに隣接して第１待機槽（４ａ）な、これらの背
面に位置して第２待機槽（４ｂ）を形成させて成り、溶
解槽α）と第１溶解槽（４ａ）とは仕切板（５）の下部
に設けた開口（６）を介して連通させ、第１待機槽（４
ａ）と第２待機槽（４ｂ）とは仕切板（５）の上縁を切
欠いて、堰（７）を形成し、該層（７）す介して連通さ
せた。
図面で（１）ハ給水装置（２）と処理剤供給装と連なる
待機槽を示し、待機槽（４）は第１待機槽（４ａ）と第
２待機槽（４ｂ）との２槽で構成し、第１図に示すごと
く大型の槽Ａ内を仕切板（５）で仕切って溶解槽（１）
の左隣りに隣接して第１待機槽（４ａ）な、これらの背
面に位置して第２待機槽（４ｂ）を形成させて成り、溶
解槽α）と第１溶解槽（４ａ）とは仕切板（５）の下部
に設けた開口（６）を介して連通させ、第１待機槽（４
ａ）と第２待機槽（４ｂ）とは仕切板（５）の上縁を切
欠いて、堰（７）を形成し、該層（７）す介して連通さ
せた。
図面で（８ａ）（８ｂ）（８ｃ）は６槽（１）−（４ａ
）（４ｂ）内に臨ませた攪拌機、（９ａ）（９ｂ）（
９ｃ）Ｕこれを駆動するモーター、 （１Ｇは第２待機
槽（４ｂ）に施した水位検知器、ｔｔｎは第２待機槽（
４ｂ）に設けた溶解液の放出口、ａｚは該放出口（１１
１に連なる放出管（１３）＆Ｃ設けた電磁弁である。
）（４ｂ）内に臨ませた攪拌機、（９ａ）（９ｂ）（
９ｃ）Ｕこれを駆動するモーター、 （１Ｇは第２待機
槽（４ｂ）に施した水位検知器、ｔｔｎは第２待機槽（
４ｂ）に設けた溶解液の放出口、ａｚは該放出口（１１
１に連なる放出管（１３）＆Ｃ設けた電磁弁である。
尚給水装置（２）と処理剤供給装置（３）とは従来一般
に知られているものと特に変るところなく、給水装置（
２）は、電磁弁（２ａ）を介在させた給水路（２ｂ）と
、給水路（２ｂ）に連なる下面に給水口・ （２ｃ）？
介在はせた誘導樋（２ｄ）とからなり、該誘導樋（２ｄ
）の上面に処理剤供給装置（３］を臨ませたもので、処
理剤供給装置（３）はホツノぞ−（３ａ）からなり該ホ
ツノＲ−（３ａ）内には回転ロール（図示しない）を備
えその回転によって下面の放出口（３ｂ）から誘導樋（
２ｄ）内に粉体その他処理剤を供給するごとく構成され
ている。
に知られているものと特に変るところなく、給水装置（
２）は、電磁弁（２ａ）を介在させた給水路（２ｂ）と
、給水路（２ｂ）に連なる下面に給水口・ （２ｃ）？
介在はせた誘導樋（２ｄ）とからなり、該誘導樋（２ｄ
）の上面に処理剤供給装置（３］を臨ませたもので、処
理剤供給装置（３）はホツノぞ−（３ａ）からなり該ホ
ツノＲ−（３ａ）内には回転ロール（図示しない）を備
えその回転によって下面の放出口（３ｂ）から誘導樋（
２ｄ）内に粉体その他処理剤を供給するごとく構成され
ている。
尚攪拌機（８ａ）（８ｂ）−（８ｃ）としては図示する
攪拌翼な備える式のものに限ることなく例えばエア噴出
によって攪拌を行う式のものであっても良いこと申すま
でもない。
攪拌翼な備える式のものに限ることなく例えばエア噴出
によって攪拌を行う式のものであっても良いこと申すま
でもない。
第３図は水芸置！？作動させるためのシーケンス回路を
示す。これを説明すると、該シーケンス。
示す。これを説明すると、該シーケンス。
回路は、攪拌機（８ａ）（８ｂ）（８ｃ）のモーター（
９ａ）（９ｂ）（９ｃ）を駆動する駆動回路Ａ；Ｂ。
９ａ）（９ｂ）（９ｃ）を駆動する駆動回路Ａ；Ｂ。
Ｃと給水装置（２）に介在する電磁弁（２ａ）を制御す
る給水回路りと、処理剤供給装置（３）に設けた回転ロ
ールの駆動モーターを制御する処理剤供給回路Ｅと王ス
イッチ８８１を介入させた操作回路Ｆを備えて成５゜ 次に本装置の作動を該回路に従って説明する。
る給水回路りと、処理剤供給装置（３）に設けた回転ロ
ールの駆動モーターを制御する処理剤供給回路Ｅと王ス
イッチ８８１を介入させた操作回路Ｆを備えて成５゜ 次に本装置の作動を該回路に従って説明する。
今操作回路Ｆに主スィッチ８８１を投入するときは、こ
れと直列に介゛入するリレーＸ１が励磁し、各回路Ａな
いしＥに、介入するそのリレー接点真１を閉じる。この
ため各回路人ないしＦは作動状態に準備される。
れと直列に介゛入するリレーＸ１が励磁し、各回路Ａな
いしＥに、介入するそのリレー接点真１を閉じる。この
ため各回路人ないしＦは作動状態に準備される。
と同時に第２待機槽（４ｂ）の水位が低いとき換言すれ
ば、第２待機槽（４ｂ）に一定高さまで水位が上昇する
までは、供給回路Ｅ並びに給水回路りに介入する水位検
知器ａαの接点ＬＶＳＩ。
ば、第２待機槽（４ｂ）に一定高さまで水位が上昇する
までは、供給回路Ｅ並びに給水回路りに介入する水位検
知器ａαの接点ＬＶＳＩ。
ＬＶＳ２が閉じているため、給水回路りに介入するリレ
ーＳＶＩが励磁し、電磁弁ＳＶに介入するそのリレー接
点ｓｖ１ を閉じるため電磁弁Ｓ■が開き溶解槽（１
）に給水する。
ーＳＶＩが励磁し、電磁弁ＳＶに介入するそのリレー接
点ｓｖ１ を閉じるため電磁弁Ｓ■が開き溶解槽（１
）に給水する。
と同時に処理剤供給回路Ｅに介入するタイマーＴ１に時
限を開始させる。そして該時限の完了でリレーＸ２とタ
イマーＴ２に直列に介入するその接点ｔｌを閉じるため
該リレーＸ２の励磁によりリレー接点ｘ２を閉じモータ
ーＭが回転しホッパー（３ａ）に介在させた回転ロール
が駆動され、給水動作に遅れて処理剤の供給がなされる
。そしてタイマーＴ２の時限の完了で該リレーｘ２の励
磁？解（ため回転ロールに介入するタイマーＴ２のｂ接
点を開くこのため処理剤の供給が断たれる。
限を開始させる。そして該時限の完了でリレーＸ２とタ
イマーＴ２に直列に介入するその接点ｔｌを閉じるため
該リレーＸ２の励磁によりリレー接点ｘ２を閉じモータ
ーＭが回転しホッパー（３ａ）に介在させた回転ロール
が駆動され、給水動作に遅れて処理剤の供給がなされる
。そしてタイマーＴ２の時限の完了で該リレーｘ２の励
磁？解（ため回転ロールに介入するタイマーＴ２のｂ接
点を開くこのため処理剤の供給が断たれる。
かくて給水と処理剤の供給を行うことで第２待機槽（４
ｂ）の水位が一定高さ位置まで上昇すると、接点ＬＶＳ
Ｉ、ＬＶＳ２が開き、コノタメ給水回路り並びに処理剤
供給回路Ｅが不作動となり、給水を中止−する。
ｂ）の水位が一定高さ位置まで上昇すると、接点ＬＶＳ
Ｉ、ＬＶＳ２が開き、コノタメ給水回路り並びに処理剤
供給回路Ｅが不作動となり、給水を中止−する。
それと同時に操作回路ＦＶｃ介入する水位検出器ｆｉＧ
の接点ＬＶＳ３を閉じタイマーＴ３に時限を開始させる
。このため各駆動回路Ａ、Ｂ、Ｃに介入させたそのタイ
マー接点ｔ３を一定時間例えば９０分閉じる。
の接点ＬＶＳ３を閉じタイマーＴ３に時限を開始させる
。このため各駆動回路Ａ、Ｂ、Ｃに介入させたそのタイ
マー接点ｔ３を一定時間例えば９０分閉じる。
従って６槽（ＩＮ４ａ）（４ｂ）内の各攪拌機（８ａ）
（８ｂ）（８ｃ）に水位がＬｏｗレベルに達するか又は
タイマーＴ３の時限完了まで攪拌作業を持続する。
（８ｂ）（８ｃ）に水位がＬｏｗレベルに達するか又は
タイマーＴ３の時限完了まで攪拌作業を持続する。
か＼る作業を繰返して溶解槽（１）で水に処理剤を混入
させ、該溶解槽（１）内に設けた攪拌機（８ａ）でこれ
を攪拌し水に処理剤を溶解させた後、第１待機槽（４ａ
）内で更に攪拌機（８ｂ）によって攪拌しつつ第２待機
槽（４ｂ）を径て放出口ｕ１１から放出させる。従つそ
水に充分処理剤が溶解された状態で放出口ｔｔｎから放
出出来る。この両待機槽（４ａ）（４ｂ）に設けた攪拌
機（８ｂ）（８ｃ）は、主として水と処理剤との分離を
防ぐためのもので、溶解槽（１）に設けた攪拌機（８ａ
）に比し充分に小さいもので良く、場合によっては第２
待機槽（，４ｂ ）のそれは省略出来る。
させ、該溶解槽（１）内に設けた攪拌機（８ａ）でこれ
を攪拌し水に処理剤を溶解させた後、第１待機槽（４ａ
）内で更に攪拌機（８ｂ）によって攪拌しつつ第２待機
槽（４ｂ）を径て放出口ｕ１１から放出させる。従つそ
水に充分処理剤が溶解された状態で放出口ｔｔｎから放
出出来る。この両待機槽（４ａ）（４ｂ）に設けた攪拌
機（８ｂ）（８ｃ）は、主として水と処理剤との分離を
防ぐためのもので、溶解槽（１）に設けた攪拌機（８ａ
）に比し充分に小さいもので良く、場合によっては第２
待機槽（，４ｂ ）のそれは省略出来る。
尚第３図に於いてＳＷは各回路人ないしＥに介入させた
手動に切換へるためのスイッチである。
手動に切換へるためのスイッチである。
第４図に本考案の他の実施例を示し、給水装置（２）と
処理剤供給装置ｆ（３１とを備える前記溶解槽（１）と
、待機槽（４）とを独立させて設け、両槽（１） （４
）を電磁弁Ｉを介在させた通水管１１５で連通し、且つ
６槽（１１（４）に攪拌機１６１を設けると共に６槽（
１） （４）にそれぞれ水位検知器＋ｔ（ｌｌを設け、
前述の実施例とはソ同様に給水装置（２）と処理剤供給
装置（３）並びに溶解槽（１）に設けた攪拌機ｆ１６１
の制御を行うと共に、待機槽（４）に設けた水位検出器
（１０１によって該槽（４１内の攪拌器＋ｔ６１の制御
と通水管（１５１に介在する電磁弁■の制御とを行わせ
るようにした。
処理剤供給装置ｆ（３１とを備える前記溶解槽（１）と
、待機槽（４）とを独立させて設け、両槽（１） （４
）を電磁弁Ｉを介在させた通水管１１５で連通し、且つ
６槽（１１（４）に攪拌機１６１を設けると共に６槽（
１） （４）にそれぞれ水位検知器＋ｔ（ｌｌを設け、
前述の実施例とはソ同様に給水装置（２）と処理剤供給
装置（３）並びに溶解槽（１）に設けた攪拌機ｆ１６１
の制御を行うと共に、待機槽（４）に設けた水位検出器
（１０１によって該槽（４１内の攪拌器＋ｔ６１の制御
と通水管（１５１に介在する電磁弁■の制御とを行わせ
るようにした。
かぐするときは、溶解槽（１）内に処理剤の溶解液な常
に作っておき待機槽（４）の放出口（１１１からの該溶
解液の放出により水位が一定高さ以下に減る毎に溶解槽
（１）内の溶解液を待機槽（４）に電磁弁（１４１で供
給すれば、誤って未溶解の処理剤が未溶解のままで放出
口（ＩＤから放出されることはない。
に作っておき待機槽（４）の放出口（１１１からの該溶
解液の放出により水位が一定高さ以下に減る毎に溶解槽
（１）内の溶解液を待機槽（４）に電磁弁（１４１で供
給すれば、誤って未溶解の処理剤が未溶解のままで放出
口（ＩＤから放出されることはない。
尚この実施例に於いて電磁弁（１４１１Ｃ変えてポンプ
を設け、該ポンプで溶解槽（１）から待機槽（４）に谷
解液を供給させるようにも出来る。
を設け、該ポンプで溶解槽（１）から待機槽（４）に谷
解液を供給させるようにも出来る。
（発明の効果）
このように本発明によると＠は、給水装置と処理剤供給
装置とを附設し７を溶解槽と該溶解槽と連なる待機槽と
を設け、両槽にそれぞれ攪拌機を取付けると共に、該待
機槽に溶解液放出口を設けたので溶解槽に於いて水に処
理斉を溶解されたものが、待機槽に供給されこれが放出
口から放出されるため処理剤が未溶解のま＼で放出され
ることが防げると共に６槽に攪拌機・、があ・・るため
、各槽内での処理剤の沈降分離等による濃度の変化等の
なく、更に少量の処理剤を断続的に溶解させ得るので、
装置を小型化することが出来る等の効果がある。
装置とを附設し７を溶解槽と該溶解槽と連なる待機槽と
を設け、両槽にそれぞれ攪拌機を取付けると共に、該待
機槽に溶解液放出口を設けたので溶解槽に於いて水に処
理斉を溶解されたものが、待機槽に供給されこれが放出
口から放出されるため処理剤が未溶解のま＼で放出され
ることが防げると共に６槽に攪拌機・、があ・・るため
、各槽内での処理剤の沈降分離等による濃度の変化等の
なく、更に少量の処理剤を断続的に溶解させ得るので、
装置を小型化することが出来る等の効果がある。
第１図は本発明実施の１例な示す平面図、第２図はその
■−■線截線面断面図３図は電気回路図、第４図に他の
実施例の裁断側面図、第５図は従来装置の側面図でおる
。 （１）・・・溶解槽 （２）・・・給水装置
（３）・・・処理剤供給装置 （４）・・・待機槽（
８ａ ） （８ｂ ） （８ｃ ）−・・攪拌機σト・
・放出口
■−■線截線面断面図３図は電気回路図、第４図に他の
実施例の裁断側面図、第５図は従来装置の側面図でおる
。 （１）・・・溶解槽 （２）・・・給水装置
（３）・・・処理剤供給装置 （４）・・・待機槽（
８ａ ） （８ｂ ） （８ｃ ）−・・攪拌機σト・
・放出口
Claims (1)
- 給水装置と処理剤供給装置とを付設した溶解槽と、該溶
解槽と連なる待機槽とを設け、両槽にそれぞれ撹拌機を
取付けると共に該待機槽に溶解液放出口を設けて成る処
理剤の自動溶解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15922784A JPS6138620A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 処理剤の自動溶解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15922784A JPS6138620A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 処理剤の自動溶解装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6138620A true JPS6138620A (ja) | 1986-02-24 |
Family
ID=15689113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15922784A Pending JPS6138620A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 処理剤の自動溶解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6138620A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005016401A1 (de) * | 2005-04-08 | 2006-10-12 | Stockhausen Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung konzentrierter Polymerlösungen |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP15922784A patent/JPS6138620A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005016401A1 (de) * | 2005-04-08 | 2006-10-12 | Stockhausen Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung konzentrierter Polymerlösungen |
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