JPH031053Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、悪臭ガスなどの洗浄装置であつ
て、特に洗浄液を２つのタンクに分散貯留するこ
とによつて装置の敷地面積と高さの比を適当なも
のとできるガス洗浄装置に関する。

〔従来の技術〕

従来から、この種の装置として第２図に示した
ようなガス洗浄装置が知られている。

処理槽１の内部には洗浄液が貯留されている。
この処理槽１の底部にはポンプ２の吸込み側が接
続されている。このポンプ１の吐出側は、流量調
整弁３、流量計４を介しエジエクタ５に接続され
ている。エジエクタ５のガス吸込口６は被処理ガ
スである悪臭ガス発生箇所に接続され、エジエク
タ５の吐出端７はインラインミキサ８を介し、処
理槽１の上部に接続されている。そして、処理槽
１の上部一端には処理済ガスを排出口９が設けら
れている。このような従来の装置にあつて、ポン
プ１を駆動すると処理槽１内の洗浄液がエジエク
タ６に供給される。すると、エジエクタ６の吸引
作用によつて被処理ガスである悪臭ガス発生源か
ら吸引される。この被処理ガスはエジエクタ７に
よつて洗浄液と接触混合され、さらにインライン
ミキサ８内でもう一度接触混合される。そして、
この気液の接触混合により、被処理ガス中の悪臭
成分は洗浄液中に溶解される。そして、この悪臭
成分を溶解した洗浄液は処理槽１に戻り、悪臭成
分を溶解除去された処理済ガスは排出口９から排
出される。このようにして被処理ガスの処理が行
なわれる。

〔考案が解決しようとする問題点〕

このような従来の装置においては、エジエクタ
を利用するため、気液接触のための装置の大きさ
を比較的小さくできるが、ガスと洗浄液の接触を
効果的に行うためには所定量の洗浄液をタンク内
に貯留する必要があり、またそのタンクの上方に
エジエクタを設けるため、装置全体の高さが非常
に高くなつてしまうという問題点があつた。

この考案に係るガス洗浄装置は、このような問
題点を解決するためになされたもので、十分な洗
浄液を貯留できるにもかかわらず、装置の高さを
低くできる装置を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

この考案のガス洗浄装置は洗浄液を貯留する貯
留タンクと、この貯留タンクの液面部に一端が開
口され他端が別に設けた処理槽の底部でその液面
が上記貯留タンクの液面より十分低い洗浄液滞留
部に開口されたオーバーフロー管と、この洗浄液
滞留部に吸込み側が接続されたポンプと、このポ
ンプの吐出側に接続され洗浄液を上記処理槽の上
方に設けた被処理ガスと洗浄液の混合を行うエジ
エクタに供給する第１の配管と、このポンプの吐
出側に同じく接続され上記貯留タンクに洗浄液を
循環する第２の配管と、上記エジエクタにおいて
被処理ガスと混合された洗浄液を上記洗浄液滞留
部に返送する返送部とを有することを特徴とす
る。

〔作用〕

ポンプを駆動すると、処理槽内の洗浄液滞留部
の洗浄液は第１の配管を通つて処理槽の上方に設
けられたエジエクタに供給される。このエジエク
タに洗浄液が供給されるとその吸引作用によつて
被処理ガスが吸引され、洗浄液と被処理ガスの混
合がここで行なわれる。そして、被処理ガスが混
合された洗浄液は処理槽底部の滞留部に戻る。そ
して、悪臭成分が洗浄液中に溶解除去された処理
済ガスは洗浄液から分離され排出される。

一方、ポンプから吐出された洗浄液の一部は、
第２の配管を通つて貯留タンクにも供給される。
この貯留タンクには、その液面部に開口するオー
バーフロー管が設けられており、貯留タンクに供
給された分だけ洗浄液がオーバーフロー管に流入
する。そして、このオーバーフロー管の他端はこ
の貯留タンクより低位の処理槽の洗浄液滞留部に
開口しているため、オーバーフロー管に流入した
洗浄液は処理槽の滞留部に戻ることになる。つま
り、洗浄液が貯留タンクに循環することになり、
処理槽内にすべての洗浄液を貯留しているのと同
じ効果が得られる。

〔実施例〕

貯留タンク１０は被処理ガスの処理に必要な量
の洗浄液を貯留する円筒状縦長のもので、内部に
洗浄液が貯留されている。この貯留タンク１０の
液面部には、オーバーフロー管１２の一端が開口
されている。このオーバーフロー管１２の他端は
処理槽１４の底部の洗浄液滞留部１６に開口され
ている。この洗浄液滞留部１６にはポンプ１８の
吸込み側２０が接続されている。ポンプ１８の吐
出側２２には第１の配管２４および第２の配管２
６の両方が接続されている。この第１の配管２４
および第２の配管２６の途中には、それぞれ流量
調整弁２８および流量計３０が設けられている。
第１の配管２４の他端はエジエクタ３２の液噴出
ノズル３４に接続されている。エジエクタ３２の
の吸引口３６は被処理ガスである悪臭ガスの発生
源（図示せず）に接続されている。エジエクタ３
２の気液混合液吐出口３８はインラインミキサ４
０に接続されている。このインラインミキサ４０
はその内部に90゜捻つたリボン状の板片が複数個
角度をずらして直列状に配置されている。このイ
ンラインミキサ４０の下端は処理槽１４の上部に
開口している。この処理槽１４の上部には処理済
ガス用の排出口４２が開口されている。また、第
２の配管２６は貯留タンク１０の底部に開口して
いる。

この貯蔵タンク１０の底部には沈澱物排出用ド
レーン手段である弁４４が取付けられた排出管４
６が接続されている。

次に、この実施例の装置の動作について説明す
る。ポンプ１８が駆動されると、処理槽１４内の
洗浄液滞留部１６の洗浄液はこのポンプ１８の吸
込み口２０から吸引される。そしてポンプ１８の
吐出側２２から吐出された洗浄液は第１の配管２
４と第23の配管２６の２つに分岐供給される。こ
の流量の比は流量調整弁２４によつて調整され、
流量計３０によつて確認される。通常は第１の配
管２４に９割、第２の配管２６に１割程度の比で
分配される。そして、貯留タンク１０に流入され
た量に対応する量の洗浄液は液面よりオーバーフ
ロー管１２に流れ込み、洗浄液滞留部１６に返送
される。一方、第１の配管２４内の洗浄液はエジ
エクタ３２の液噴出ノズル３４から噴出される。
するとエジエクタ３２の作用によつて、被処理ガ
スが上方の吸込み口３６から吸引され、エジエク
タ３２内で被処理ガスと洗浄液の混合が行なわれ
る。そして、この気液混合液はエジエクタ３２の
下端の気液混合液噴出口３８からインラインミキ
サ４０に流入する。インラインミキサ４０の内部
には複数のリボン状の板片が配置されているた
め、気液混合液は流れの方向がその都度90゜ずつ
変更され、被処理ガスと洗浄液の接触が促進され
る。そして、この気液の接触によつて被処理ガス
中に含まれている悪臭成分が洗浄液中に溶解し、
被処理ガス中から除去される。そして、気液混合
液は洗浄液滞留部１６に落下返送される。この洗
浄液滞留部１６においても最後の気液接触が行な
われ、悪臭成分が除去されてガスが処理済ガスと
して排出口４２から排出される。

一方、第２の配管２６に供給された洗浄液は貯
留タンク１０に流入する。この貯留タンク１０内
に導入される洗浄液は比較的少量なので、内部は
静かに保たれる。そこで、洗浄液中に粉体が含ま
れる場合はこの沈澱分離が行われる。そして、貯
留タンク１０の底部に沈澱された沈澱物は弁４４
を開くことによつて排出管４６から排出される。
悪臭成分、洗浄液の種類によつては洗浄液中に粉
体が発生する場合があるが、この構成によれば粉
体を分離除去でき、効果的ガス洗浄が続けられ
る。

ここで、洗浄液は水でも他の薬液ででもよい。
例えば、悪臭成分が硫化水素であればアルカリ性
液、アンモニアであれば酸性液がよい。また、悪
臭成分を酸化分解する次亜塩素酸ナトリウム溶液
やその他溶液も利用できる。なお、上記実施例で
は被処理ガスをエジエクタ３２の吸引力のみによ
つてエジエクタ３２に導入したが、ブロアなどに
よつて吸引したものを強制的にエジエクタ３２に
送つてもよい。

〔効果〕

以上のように、この考案のガス洗浄装置によれ
ば、処理槽とは別にこれとオーバーフロー管で接
続された貯留タンクを設け、洗浄液をここに貯留
するように構成したため、十分な量の洗浄液を貯
留するにもかかわらず、装置全体の高さを低くで
きるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この考案のガス洗浄装置の一実施例
を示す全体構成図、第２図は、従来のガス洗浄装
置の一例を示す全体構成図である。 １０……貯留タンク、１２……オーバーフロー
管、１４………処理槽、１６……洗浄液滞留部、
１８……ポンプ、２４……第１の配管、２６……
第２の配管、３２……エジエクタ、４０……イン
ラインミキサ（返送部）。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 洗浄液を貯留する貯留タンクと、 この貯留タンクの液面部に一端が開口され、
   他端が別に設けた処理槽の底部でその液面が上
   記貯留タンクの液面より十分低い洗浄液滞留部
   に開口されたオーバーフロー管と、 この洗浄液滞留部に吸込側が接続されたポン
   プと、 このポンプの吐出側に接続され洗浄液を上記
   処理槽の上方に設けた被処理ガスと洗浄液の混
   合を行うエジエクタに供給する第１の配管と、 このポンプの吐出側に同じく接続され上記貯
   留タンクに洗浄液を循環する第２の配管と、 上記エジエクタにおいて被処理ガスと混合さ
   れた洗浄液を上記洗浄液滞留部に返送する返送
   部と、を有することを特徴とするガス洗浄装
   置。 (2) 上記返送部はその内部にミキサを備えている
   ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１
   項記載のガス洗浄装置。 (3) 上記貯蔵タンクは底部に沈澱物排出用ドレー
   ン手段が備えていることを特徴とする実用新案
   登録請求の範囲第１項又は第２項記載のガス洗
   浄装置。