JPS6133918A - 封止装置 - Google Patents
封止装置Info
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- JPS6133918A JPS6133918A JP15411484A JP15411484A JPS6133918A JP S6133918 A JPS6133918 A JP S6133918A JP 15411484 A JP15411484 A JP 15411484A JP 15411484 A JP15411484 A JP 15411484A JP S6133918 A JPS6133918 A JP S6133918A
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- Japan
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- cap
- container
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明はyh口の封止装置、特に医療用架液を樹脂製
容器に封入するための封止装置に関する〇 (技術的背影) 近年、生理食塩水、ぶどう糖液等の医療用輸液等をビン
様の一脂製容器に封入するに当シ、容器にこれらの液を
充撫した後、必要に応じて容器内空間をNガスでtii
換し、螺子等による着脱自在の蓋を有し、或いは有しな
いキャップを各6口に熱浴着して密封したものが用いら
れている。
容器に封入するための封止装置に関する〇 (技術的背影) 近年、生理食塩水、ぶどう糖液等の医療用輸液等をビン
様の一脂製容器に封入するに当シ、容器にこれらの液を
充撫した後、必要に応じて容器内空間をNガスでtii
換し、螺子等による着脱自在の蓋を有し、或いは有しな
いキャップを各6口に熱浴着して密封したものが用いら
れている。
これらの封止部分の溶層のための加熱には柚々の方法が
考えられる0岐も簡暎には、ヒートブロックによる加熱
が考えられるが、医薬品、負品等を封入する場合、異物
が混入する可能性を出来うる限シ減する必要があり、ヒ
ートブロックに接触しての加熱は好ましくない。また、
超音波俗朕、摩擦溶接は、皺朕面の擦合いによって発熱
するも○であり、細粉の発生をさけることができない。
考えられる0岐も簡暎には、ヒートブロックによる加熱
が考えられるが、医薬品、負品等を封入する場合、異物
が混入する可能性を出来うる限シ減する必要があり、ヒ
ートブロックに接触しての加熱は好ましくない。また、
超音波俗朕、摩擦溶接は、皺朕面の擦合いによって発熱
するも○であり、細粉の発生をさけることができない。
そして、このような細粉の混入が好ましくないことは云
う艦もない。
う艦もない。
(発明の目的)
この発明は、非接触的に加熱することによシ異物混入の
恐れが最も少々く、また、封止部分を滅菌する効果も期
待出来る封止装置を得ようとするものである。
恐れが最も少々く、また、封止部分を滅菌する効果も期
待出来る封止装置を得ようとするものである。
(発明の構成)
この発明の封止装置は、四按物を充填したポリオレフィ
ン等の熱溶着性の樹脂製の容器と、とれに溶着するキャ
ップをターンテーブル上に保持し、上記容器とキャップ
の軌道に沿って遠赤外ヒーターを配置し、該ヒーターに
よって嵌面が浴融状態になった封止部分を圧着・冷却し
て容器を密層封止する。また、上記ターンテーブルの容
器保持部には進退自在にN2ガスの噴射口を設け、封止
部分の圧着前にNガスを噴射して容器中及びキャップ中
の空気をN2ガスで置換する (実施りU) 以下図面を参照して実施列について詐細に説明する。
ン等の熱溶着性の樹脂製の容器と、とれに溶着するキャ
ップをターンテーブル上に保持し、上記容器とキャップ
の軌道に沿って遠赤外ヒーターを配置し、該ヒーターに
よって嵌面が浴融状態になった封止部分を圧着・冷却し
て容器を密層封止する。また、上記ターンテーブルの容
器保持部には進退自在にN2ガスの噴射口を設け、封止
部分の圧着前にNガスを噴射して容器中及びキャップ中
の空気をN2ガスで置換する (実施りU) 以下図面を参照して実施列について詐細に説明する。
第1図はこの発明の封止装置の全体配置を示す里面図で
あυ、2は充填ず与の容器及びキャップを封止装置1に
供給する口〜ダー、3は溶着完了の容器を搬出するため
のアンローダ−でるる。封止装置1のA部は予備的なN
2ガスの置換部、B部がヒーターによる加熱部、0部は
Nガス置換部、D部はキャップの圧着部である0第2図
は封止装置の部分断面図であシ、ターンテーブル4は熱
溶着性の餉脂I!!■ビン形容器5を保持するためのボ
トルホルダー6、ネックホルダー7、N2ガスノズル8
が固設され、浴着すべきキャップ9を[1上下動自在に
保持されたキャップ成層ヘン、ド10と共に回動する。
あυ、2は充填ず与の容器及びキャップを封止装置1に
供給する口〜ダー、3は溶着完了の容器を搬出するため
のアンローダ−でるる。封止装置1のA部は予備的なN
2ガスの置換部、B部がヒーターによる加熱部、0部は
Nガス置換部、D部はキャップの圧着部である0第2図
は封止装置の部分断面図であシ、ターンテーブル4は熱
溶着性の餉脂I!!■ビン形容器5を保持するためのボ
トルホルダー6、ネックホルダー7、N2ガスノズル8
が固設され、浴着すべきキャップ9を[1上下動自在に
保持されたキャップ成層ヘン、ド10と共に回動する。
11は吸着ヘッド10の昇降カムでめシ、カムフォロア
12によって吸−・ヘッド10を昇降させる。13はI
&瀘ヘッド10及びネックホルダ7へIv却水を供給す
るための給排水パイプ、14は遠赤外脚ヒーターであシ
、ホルダー15によって機枠に固定保持されている。
′第3図、第4図tlN2ガスの置興装置の詳細図であ
シ、Nガスノズル8は容器用の下向きノズル16とキャ
ップ用の上向きノズル17を有し、アーム18に固着さ
れ、保持枠19によって摺動自在に保持される。20は
カムであ如、機枠に固定され、突出部A’、C’はそれ
ぞれ第1図のA部、0部に対応する0ノズ〃8は通常は
第3図に示すように引込んだ位置にあるが、カム7オロ
ア21によってA′部、−σ部では容器5の上、キャッ
プ9の下に迄前進し、ノズル16,17からN2ガスを
噴出して容器とキャップ中の空気をN2ガスで置換する
。
12によって吸−・ヘッド10を昇降させる。13はI
&瀘ヘッド10及びネックホルダ7へIv却水を供給す
るための給排水パイプ、14は遠赤外脚ヒーターであシ
、ホルダー15によって機枠に固定保持されている。
′第3図、第4図tlN2ガスの置興装置の詳細図であ
シ、Nガスノズル8は容器用の下向きノズル16とキャ
ップ用の上向きノズル17を有し、アーム18に固着さ
れ、保持枠19によって摺動自在に保持される。20は
カムであ如、機枠に固定され、突出部A’、C’はそれ
ぞれ第1図のA部、0部に対応する0ノズ〃8は通常は
第3図に示すように引込んだ位置にあるが、カム7オロ
ア21によってA′部、−σ部では容器5の上、キャッ
プ9の下に迄前進し、ノズル16,17からN2ガスを
噴出して容器とキャップ中の空気をN2ガスで置換する
。
第5図はキャップ吸着ヘッドの詳細図である。
吸着ヘッド10はシャフト22、カムフォロア12によ
って上下動されるが、シャフト22には吸気孔23が設
けられ、キャップ9を減圧によって吸着する。24は冷
却水油路、25祉シヤフト22の回動防止のカムであシ
、26はカムフォロアである◎ 円脛物が充填され7’cWi5がローダ−によって供給
され、ボトルホルダー6、ネックホルダー7によって保
持固定され、同時にキャップ吸着ヘッド10はキャップ
9を吸気孔23から排気するととによって吸着保持する
。ターンテーブル4の回動によシ容器5とキャップ9は
A部に進入し、カム20によってガスノズル8が前進し
、ノズル16.17からN2ガスを噴出して容器5とキ
ャップ9円の空気を予備的にN2ガスで置換する。
って上下動されるが、シャフト22には吸気孔23が設
けられ、キャップ9を減圧によって吸着する。24は冷
却水油路、25祉シヤフト22の回動防止のカムであシ
、26はカムフォロアである◎ 円脛物が充填され7’cWi5がローダ−によって供給
され、ボトルホルダー6、ネックホルダー7によって保
持固定され、同時にキャップ吸着ヘッド10はキャップ
9を吸気孔23から排気するととによって吸着保持する
。ターンテーブル4の回動によシ容器5とキャップ9は
A部に進入し、カム20によってガスノズル8が前進し
、ノズル16.17からN2ガスを噴出して容器5とキ
ャップ9円の空気を予備的にN2ガスで置換する。
ターンテーブル4が更に回転し、B部に進入すると、カ
ム20によってノズルBt後退すると共に遠赤外ヒータ
ー14によって容器5とキャップ9の#接面が輻射熱に
よりか溶融される。
ム20によってノズルBt後退すると共に遠赤外ヒータ
ー14によって容器5とキャップ9の#接面が輻射熱に
よりか溶融される。
このとき、溶着部近辺も加熱され、滅菌作用を受けるこ
とになる。
とになる。
0部に進入すると、再びカム20によってノズル8が罰
進し、N2ガスを噴出して容器5及びキャップ9円の9
気を完全にN2ガスで置換する。
進し、N2ガスを噴出して容器5及びキャップ9円の9
気を完全にN2ガスで置換する。
D部に進入すると、ノズル8は後退すると共に昇降カム
11によって吸着ヘッド10が降下し、キャップ9下面
の#細部を容と5上面の溶触部に圧着する。キャップ9
は吸着へラド10、シャフト22、カム7オロア120
自菖によって圧下されるが、WW5上端の浴着部はネッ
クホルダ7によってバックアンプされておシ、溶着部に
は強い圧力が作用し、確実に溶着される。
11によって吸着ヘッド10が降下し、キャップ9下面
の#細部を容と5上面の溶触部に圧着する。キャップ9
は吸着へラド10、シャフト22、カム7オロア120
自菖によって圧下されるが、WW5上端の浴着部はネッ
クホルダ7によってバックアンプされておシ、溶着部に
は強い圧力が作用し、確実に溶着される。
このときIik’4jヘッド10、ネックホルダ7には
冷却水が供給され、アンローダ−3に達する前に溶着部
は完全に冷却固化するように冷却される。もし、溶着部
に水滴が耐着していた場合、100℃以上でe、宥ヘッ
ドによる加圧が止むと、水分は急激に気化して浴着部に
気泡を形成してしまう口このため、冷却は100℃以下
になることが必要であるが、70℃以下[e迄に低下す
ることが望ましい。
冷却水が供給され、アンローダ−3に達する前に溶着部
は完全に冷却固化するように冷却される。もし、溶着部
に水滴が耐着していた場合、100℃以上でe、宥ヘッ
ドによる加圧が止むと、水分は急激に気化して浴着部に
気泡を形成してしまう口このため、冷却は100℃以下
になることが必要であるが、70℃以下[e迄に低下す
ることが望ましい。
また、この笑施的においては、芥姦5、キャップ゛9は
加熱中自転していないが、各姦或はボトル或いはその両
刀を自転させることによってより速く均一に加熱するこ
とが出来る口(発明■効果) この発明は上呂己の構成を有するので、■ ローダ−か
ら封止装置に供給された容器はターンテーブルがほぼ1
回転し、アンローダかも搬出される迄に、容器内の空気
は礼ガスで*tsされ、キャップによって完全に密封さ
れる。
加熱中自転していないが、各姦或はボトル或いはその両
刀を自転させることによってより速く均一に加熱するこ
とが出来る口(発明■効果) この発明は上呂己の構成を有するので、■ ローダ−か
ら封止装置に供給された容器はターンテーブルがほぼ1
回転し、アンローダかも搬出される迄に、容器内の空気
は礼ガスで*tsされ、キャップによって完全に密封さ
れる。
■ 溶着部の加熱は輻射によって非接触で行な・われる
ので、異物が内容物に混入する心配も力い許シか、輻射
熱で加熱される範囲で、浴rvs近傍の滅菌も行なうこ
とができる。
ので、異物が内容物に混入する心配も力い許シか、輻射
熱で加熱される範囲で、浴rvs近傍の滅菌も行なうこ
とができる。
■ 溶着部の加熱、N2ガスとの置換、圧接y#tは機
枠に固定したカム、ヒータで行なわれるので1捏のタイ
ミングが狂う恐れがない。
枠に固定したカム、ヒータで行なわれるので1捏のタイ
ミングが狂う恐れがない。
■ 圧着は溶着部が完全に固化するまで続けられるので
、完全な浴着部が得られる 等の顕著な効果を奏する。
、完全な浴着部が得られる 等の顕著な効果を奏する。
第1図はこの発明の封正装ff1O乎面図、第2図はそ
の部分断面図、第3図、第4図はN2ガス置換装置の詳
細図、@5図はヘッド成層ヘッドのW@図である 1:封止装置 2:ローダ 3:アンローダ4:夕−7
テーブル 5:容器 6.7:ホルダー 9:キャップ
1o:キャップ吸着ヘッド 11.2o:カム 12
.21:カムフォロア 13:給排水パイプ 14:遠
赤外ヒータ 8:N2ガスノズル 23:吸気孔24:
冷却水通路 特許出願人 東洋製罐株式会社 出願人代理人 弁理士 佐 藤 文 男(ほか1
名) 第1図 第4図 第 5 図 、/ %。
の部分断面図、第3図、第4図はN2ガス置換装置の詳
細図、@5図はヘッド成層ヘッドのW@図である 1:封止装置 2:ローダ 3:アンローダ4:夕−7
テーブル 5:容器 6.7:ホルダー 9:キャップ
1o:キャップ吸着ヘッド 11.2o:カム 12
.21:カムフォロア 13:給排水パイプ 14:遠
赤外ヒータ 8:N2ガスノズル 23:吸気孔24:
冷却水通路 特許出願人 東洋製罐株式会社 出願人代理人 弁理士 佐 藤 文 男(ほか1
名) 第1図 第4図 第 5 図 、/ %。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)熱溶着性樹脂製の容器と、これに溶着されるキャッ
プとをターンテーブル上に保持し、該容器とキャップと
の通路に沿つて遠赤外ヒータを配設し、容器とキャップ
とが上記遠赤外ヒータ部を通過した後、両者を圧着する
ことを特徴とする封止装置 2)上記遠赤外ヒータ部を通過した直後、ノズルからN
_2ガスを噴出して容器及びキャップ内部の空気をN_
2ガスで置換することを特徴とする特許請求の範囲第1
項の封止装置 3)加熱押圧した溶着部が100℃以下になるよう加圧
冷却することを特徴とする特許請求の範囲第1項の封止
装置
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15411484A JPS6133918A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 封止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15411484A JPS6133918A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 封止装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6133918A true JPS6133918A (ja) | 1986-02-18 |
JPS6326009B2 JPS6326009B2 (ja) | 1988-05-27 |
Family
ID=15577227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15411484A Granted JPS6133918A (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 封止装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6133918A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6455394A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nippon Mining Co | Production of high-purity electrolytic copper |
-
1984
- 1984-07-26 JP JP15411484A patent/JPS6133918A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6455394A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nippon Mining Co | Production of high-purity electrolytic copper |
JPH055903B2 (ja) * | 1987-08-26 | 1993-01-25 | Nitsuko Kyoseki Kk |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6326009B2 (ja) | 1988-05-27 |
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