JPS6133157A - ３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 - Google Patents
３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法Info
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- JPS6133157A JPS6133157A JP59153231A JP15323184A JPS6133157A JP S6133157 A JPS6133157 A JP S6133157A JP 59153231 A JP59153231 A JP 59153231A JP 15323184 A JP15323184 A JP 15323184A JP S6133157 A JPS6133157 A JP S6133157A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
技術分野
本発明は、３−シアノ−３，５，５−１−リメチルシク
ロヘキサノンの製造方法に関するものである。
ロヘキサノンの製造方法に関するものである。
詳しく述べると、イソホロンと青酸とを第四級アンモニ
ウムハイドロオキサイドまたは第四級ホスホニウムハイ
ドロオキサイドの存在下に反応させることにより高収率
で３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを製造する方法に関するものである。
ウムハイドロオキサイドまたは第四級ホスホニウムハイ
ドロオキサイドの存在下に反応させることにより高収率
で３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを製造する方法に関するものである。
先行技術
３− シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノ
ンは、水素添加とアミノ化とを経て１−アミノ−３−ア
ミノメチル−３，５，５−１−リメチルシクロヘキサン
とし、エポキシ樹脂用硬化剤として、またさらに３−イ
ソシアネートメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘ
キシルイソシアネートとし、高級エラストマー、ポリウ
レタン塗料、レザー表面処理原料等として使用される。
ンは、水素添加とアミノ化とを経て１−アミノ−３−ア
ミノメチル−３，５，５−１−リメチルシクロヘキサン
とし、エポキシ樹脂用硬化剤として、またさらに３−イ
ソシアネートメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘ
キシルイソシアネートとし、高級エラストマー、ポリウ
レタン塗料、レザー表面処理原料等として使用される。
従来よりイソホロンと青酸を原料として３−シアノ−３
，５，５−トリメチルシクロヘキサノンを製造すること
は知られている。例えばＷ、Ｆ、Ｗｈｔｔｌｌｌｏｒｅ
およびＣ，Ｗ、 Ｒｏｂｅｒｔｓ、 Ｊ 、 Ｏ，Ｃ，
。
，５，５−トリメチルシクロヘキサノンを製造すること
は知られている。例えばＷ、Ｆ、Ｗｈｔｔｌｌｌｏｒｅ
およびＣ，Ｗ、 Ｒｏｂｅｒｔｓ、 Ｊ 、 Ｏ，Ｃ，
。
ユ、３１（１９４８）ではイソホロンとシアン化ナトリ
゛ウムをメタノールと水と酢酸の混合溶媒中で室温にて
１週間反応させることにより約４５％の収率で３−シア
ノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンを冑てい
る。しかしながら、この方法は低収率でかつ反応日数を
要するため工業的方法として問題にならないことは明白
である。
゛ウムをメタノールと水と酢酸の混合溶媒中で室温にて
１週間反応させることにより約４５％の収率で３−シア
ノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンを冑てい
る。しかしながら、この方法は低収率でかつ反応日数を
要するため工業的方法として問題にならないことは明白
である。
また特公昭４０−７４８６号公報によれば固体担体に付
着させたアルカリ性触媒上に、イソホロンに対し、青酸
が約１０重量％以下のイソホロン−青酸混合物をガス状
で供給して３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロ
ヘキサノンを連続的に合成している。しかしながら、こ
の方法は、副生ずる青酸重合物により触媒が被毒し寿命
が短いのと多量のイソホロンの回収を必要とするため、
工業的方法としては問題がある。
着させたアルカリ性触媒上に、イソホロンに対し、青酸
が約１０重量％以下のイソホロン−青酸混合物をガス状
で供給して３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロ
ヘキサノンを連続的に合成している。しかしながら、こ
の方法は、副生ずる青酸重合物により触媒が被毒し寿命
が短いのと多量のイソホロンの回収を必要とするため、
工業的方法としては問題がある。
さらに西独特許１，０８５．８７１号明細書によれば、
ジメチルア′セトアミドのごとき極性溶媒中でアルカリ
金属塩類を触媒としてインホロンと青酸とを反応せしめ
て３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを合成している。しかしながら、この方法による３−
シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの収
率は約７０％と低い上に、溶媒の回収に多大の経費を必
要とする。
ジメチルア′セトアミドのごとき極性溶媒中でアルカリ
金属塩類を触媒としてインホロンと青酸とを反応せしめ
て３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを合成している。しかしながら、この方法による３−
シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの収
率は約７０％と低い上に、溶媒の回収に多大の経費を必
要とする。
さらにまた、西独特許１，２４０．８５４号明細書によ
れば、メタノールを溶媒としてアルカリ金属環触媒の存
在下にイソホロンと青酸を反応させて３−シアノ−３，
５，５−トリメチルシクロヘキサノンを合成している。
れば、メタノールを溶媒としてアルカリ金属環触媒の存
在下にイソホロンと青酸を反応させて３−シアノ−３，
５，５−トリメチルシクロヘキサノンを合成している。
しかしながら、この方法を追試したところ、多量の青Ｗ
Ｉ重合物が副生じ、′ ３−シアル ３，５．５−トリ
メｉ“ルシクロヘキサノンの収率は約８０％と低いこと
が判明した。
Ｉ重合物が副生じ、′ ３−シアル ３，５．５−トリ
メｉ“ルシクロヘキサノンの収率は約８０％と低いこと
が判明した。
つぎに特開昭５７−１１６．０３８号公報によ、 れ
ば、無機の塩基性触媒とグリコール類の存在下に青酸の
重合物の副生を避けるべく、大過剰のイソホロンに青酸
を反応せしめて ３−シアノ〜 ３．５．５−トリメチ
ルシクロヘキサノンを合成している。
ば、無機の塩基性触媒とグリコール類の存在下に青酸の
重合物の副生を避けるべく、大過剰のイソホロンに青酸
を反応せしめて ３−シアノ〜 ３．５．５−トリメチ
ルシクロヘキサノンを合成している。
しかしながら、この方法を追試したところ、３−シアノ
−３，Ｓ、５−トリメチルシクロヘキサノンの収率（青
酸基準）は約８０％と低く、未反応のイソホロンを大量
に回収する必要が有し、工業的には問題がある。
−３，Ｓ、５−トリメチルシクロヘキサノンの収率（青
酸基準）は約８０％と低く、未反応のイソホロンを大量
に回収する必要が有し、工業的には問題がある。
発明の目的
したがって、本発明の目的は、新規な３−シアノ−３，
５，５−１−リメチルシクロヘキサノンの＠進方法を提
供することにある。本発明の他の目的は、塩基性化合物
を可溶化するための溶媒が不要でありかつ青酸重合物の
副生を避けるためにイソホロンを過剰に用いて大量の未
反応イソホロンを回収する必要もなく、高収率で３−シ
アノ−３，５，５−トリメデルシクロヘキサノンを製造
する方法を提供することにある。
５，５−１−リメチルシクロヘキサノンの＠進方法を提
供することにある。本発明の他の目的は、塩基性化合物
を可溶化するための溶媒が不要でありかつ青酸重合物の
副生を避けるためにイソホロンを過剰に用いて大量の未
反応イソホロンを回収する必要もなく、高収率で３−シ
アノ−３，５，５−トリメデルシクロヘキサノンを製造
する方法を提供することにある。
これらの開目的は、第四級アンモニウムハイドロオキサ
イドまたは第四級ホスホニウムハイドロオキサイドの存
在下に、イソホロンと青酸とを反。
イドまたは第四級ホスホニウムハイドロオキサイドの存
在下に、イソホロンと青酸とを反。
応させることを特徴とする３−シアノ−３，５，５−ト
リメチルシクロヘキサノンの製造方法により達成される
。
リメチルシクロヘキサノンの製造方法により達成される
。
また、本発明は、反応に使用した第四級アンモニウムハ
イドロオキサイドまたは第四級ホスホニウムハイドロオ
キサイドは回収されて次回の反応に循環して使用されて
なる３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサ
ノンの製造方法である。
イドロオキサイドまたは第四級ホスホニウムハイドロオ
キサイドは回収されて次回の反応に循環して使用されて
なる３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサ
ノンの製造方法である。
発明の構成
本発明は、前記のように、第四級アンモニウムハイドロ
オキサイドまたは第四級ホスホニウムハイドロオキサイ
ドの存在下にイソホロンと青酸とを反応させることによ
り３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを製造するものであるが、該方法において用いられる
第四級アンモニウムハイドロオキサイドとしては、一般
式ｒまたは〜２４、好ましくは１〜１２のアルキル基ま
たは任意に置換されていてもよいベンジル基であり、ま
たＲ３およびＲ４は炭素原子数１〜１０１好ましくは１
〜１２のアルキル基を示す。）（ただし、式中、Ｒ５は
炭素原子数１〜２４、好ましくは１〜１２のアルキル基
であり、またＲ６は水素原子またはメチル基を示す。） 第四級アンモニウムハイドロオキサイドの具体例として
は、例えば、次の化合物があげられる。
オキサイドまたは第四級ホスホニウムハイドロオキサイ
ドの存在下にイソホロンと青酸とを反応させることによ
り３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを製造するものであるが、該方法において用いられる
第四級アンモニウムハイドロオキサイドとしては、一般
式ｒまたは〜２４、好ましくは１〜１２のアルキル基ま
たは任意に置換されていてもよいベンジル基であり、ま
たＲ３およびＲ４は炭素原子数１〜１０１好ましくは１
〜１２のアルキル基を示す。）（ただし、式中、Ｒ５は
炭素原子数１〜２４、好ましくは１〜１２のアルキル基
であり、またＲ６は水素原子またはメチル基を示す。） 第四級アンモニウムハイドロオキサイドの具体例として
は、例えば、次の化合物があげられる。
一般式Ｉを有する化合物として、テトラメチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム
ハイドロオキサイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ハイドロオキサイドトリエチルプロピルアンモニウムハ
イドロオキサイド、オクチルトリメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、ドデシルトリメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド、オクタデシルトリメチルアンモ
ニウムハイドロオキサイド、テトラコシルトリメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド、ジオクタデシルジメチ
ルアンモニウムハイド５０オキサイド、トリオクチルメ
チルアン”モニウムハイドロオキサイド゛等のテトラア
ルキル第四級アンモニウムハイドロオキサイドがある。
ウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム
ハイドロオキサイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ハイドロオキサイドトリエチルプロピルアンモニウムハ
イドロオキサイド、オクチルトリメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、ドデシルトリメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド、オクタデシルトリメチルアンモ
ニウムハイドロオキサイド、テトラコシルトリメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド、ジオクタデシルジメチ
ルアンモニウムハイド５０オキサイド、トリオクチルメ
チルアン”モニウムハイドロオキサイド゛等のテトラア
ルキル第四級アンモニウムハイドロオキサイドがある。
また、一般式■を有する化合物として、ベンジルトリメ
チルアンモニウムハイドロオキサイド、ベンジルトリエ
チルアンモニウムハイドロオキサイド、ベンジルプロピ
ルアンモニウムハイドロオキサイド、ベンジルエチルジ
プロピルアンモニウムハイドロオキサイド、ドデシルジ
メチルベンジルアンモニウムハイドロオキサイド、Ｏ−
、ｌ−またはｐ−メトキシベンジルトリエチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド、０−、ｌ−またはｐ−クロロ
ペンジルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド、
オクチルベンジルジメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド、ジエチルベンジルアンモニウムハイドロオキサイ
ド等のベンジルトリアルキルアンモニウムハイドロオキ
サイドおよびジベンジルアルキルアンモニウムハイドロ
オキサイド、Ｎ−メチルピリジニウムハイドロオキサイ
ド、Ｎ−エチルピリジニウムハイドロオキサイド、Ｎ−
ブチルピリジニウムハイドロオキサイド、Ｎ−ドデシル
ピリニウムハイドロオキサイド、Ｎ−オクタデシルピリ
ジニウムハイドロオキサイド、Ｎ−メチルビコリニウム
ハイドロオキサイド、Ｎ−ブチルピコリニウムハイドロ
オキサイド、Ｎ−ドデシルピコリニウムハイドロオキサ
イド等のＮ−アルキルピリジニウムハイドロオキサイド
およびＮ−アルキルとコリニウムハイドロオキサイドが
ある。
チルアンモニウムハイドロオキサイド、ベンジルトリエ
チルアンモニウムハイドロオキサイド、ベンジルプロピ
ルアンモニウムハイドロオキサイド、ベンジルエチルジ
プロピルアンモニウムハイドロオキサイド、ドデシルジ
メチルベンジルアンモニウムハイドロオキサイド、Ｏ−
、ｌ−またはｐ−メトキシベンジルトリエチルアンモニ
ウムハイドロオキサイド、０−、ｌ−またはｐ−クロロ
ペンジルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド、
オクチルベンジルジメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド、ジエチルベンジルアンモニウムハイドロオキサイ
ド等のベンジルトリアルキルアンモニウムハイドロオキ
サイドおよびジベンジルアルキルアンモニウムハイドロ
オキサイド、Ｎ−メチルピリジニウムハイドロオキサイ
ド、Ｎ−エチルピリジニウムハイドロオキサイド、Ｎ−
ブチルピリジニウムハイドロオキサイド、Ｎ−ドデシル
ピリニウムハイドロオキサイド、Ｎ−オクタデシルピリ
ジニウムハイドロオキサイド、Ｎ−メチルビコリニウム
ハイドロオキサイド、Ｎ−ブチルピコリニウムハイドロ
オキサイド、Ｎ−ドデシルピコリニウムハイドロオキサ
イド等のＮ−アルキルピリジニウムハイドロオキサイド
およびＮ−アルキルとコリニウムハイドロオキサイドが
ある。
工業的にはテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テ
トラブチルアンモニウムハイドロオキサイドあるいはベ
ンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド等が
好ましく用いられる。
ド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テ
トラブチルアンモニウムハイドロオキサイドあるいはベ
ンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド等が
好ましく用いられる。
本発明において使用する第四級ホスホニウムハイドロオ
キサイドとしては一般式■で示される第四級ホスホニウ
ムハイドロオキサイドがあげられる。
キサイドとしては一般式■で示される第四級ホスホニウ
ムハイドロオキサイドがあげられる。
（ただし、式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲｈｏは炭素
原子数１〜２４、好ましくは１〜１２のアルキル基また
はフェニル基を示し、またＲ７はベンジル基であっても
よい。） 第四級ホスホニウムハイドロオキサイドの具体例として
は、テトラメチルホスホニウムハイドロオキサイド、テ
トラエチルホスホニウムハイドロオキサイド、テトラブ
チルホスホニウムハイドロオキサイド、オクチルトリエ
チルホスホニウムハイドロオキサイド、ヘキサデシルト
リエチルホスホニウムハイドロオキサイド、ヘキサデシ
ルトリエチルホスホニウムハイドロオキサイド、ドデシ
ルトリメチルホスホニウムハイドロオキサイド、トリオ
クチルエチルホスホニウムハイドロオキサイド、デトラ
コシルトリエチルホスホニウムハイドロオキサイド等の
テトラアルキルホスホニウムハイドロオキサイド、ペン
ジルトリエヂルホスホニウムハイドロオキサイド、ベン
ジルトリブチルホスホニウムハイドロオキサイド等のベ
ンジルトリアルキルホスホニウムハイドロオキサイド、
メチルトリノエニルホスホニウムハイドロオキサイド、
■チルトリフェニルホスホニウムハイドロオキサイド等
のアルキルトリフェニルホスホニウムハイドロオキサイ
ド、テトラフェニルホスホニウムハイドロオキサイド等
がある。
原子数１〜２４、好ましくは１〜１２のアルキル基また
はフェニル基を示し、またＲ７はベンジル基であっても
よい。） 第四級ホスホニウムハイドロオキサイドの具体例として
は、テトラメチルホスホニウムハイドロオキサイド、テ
トラエチルホスホニウムハイドロオキサイド、テトラブ
チルホスホニウムハイドロオキサイド、オクチルトリエ
チルホスホニウムハイドロオキサイド、ヘキサデシルト
リエチルホスホニウムハイドロオキサイド、ヘキサデシ
ルトリエチルホスホニウムハイドロオキサイド、ドデシ
ルトリメチルホスホニウムハイドロオキサイド、トリオ
クチルエチルホスホニウムハイドロオキサイド、デトラ
コシルトリエチルホスホニウムハイドロオキサイド等の
テトラアルキルホスホニウムハイドロオキサイド、ペン
ジルトリエヂルホスホニウムハイドロオキサイド、ベン
ジルトリブチルホスホニウムハイドロオキサイド等のベ
ンジルトリアルキルホスホニウムハイドロオキサイド、
メチルトリノエニルホスホニウムハイドロオキサイド、
■チルトリフェニルホスホニウムハイドロオキサイド等
のアルキルトリフェニルホスホニウムハイドロオキサイ
ド、テトラフェニルホスホニウムハイドロオキサイド等
がある。
本発明の方法は無溶媒でも実施できるが、溶媒を用いて
もよい。溶媒としては脂肪族および芳香族の炭化水素や
ハロゲン化炭化水素が好ましい。
もよい。溶媒としては脂肪族および芳香族の炭化水素や
ハロゲン化炭化水素が好ましい。
また本発明の方法は水の不存在下に実施できるが若−Ｆ
ｆｆｉの水の存在が好ましい。好ましい水の量はイソホ
ロンに対して０．１〜５０重量％、更に好ましくは１〜
１０重量％である。
ｆｆｉの水の存在が好ましい。好ましい水の量はイソホ
ロンに対して０．１〜５０重量％、更に好ましくは１〜
１０重量％である。
本発明の方法は以下のごと〈実施される。
イソホロンと第四級アンモニウムハイドロオキサイドま
たは第四級ホスホニウムハイドロオキサイドを混合し、
これに青酸を液状またはガス状で供給して反応させて行
なわれる。反応に使用される第四級アンモニウムハイド
ロオキサイドまたは第四級ホスホニウムハイドロオキサ
イドの割合は、イソホロン１モルに対してｏ、ｏｏｉ〜
０．５モル、好ましくは０．０１〜０．１モルである。
たは第四級ホスホニウムハイドロオキサイドを混合し、
これに青酸を液状またはガス状で供給して反応させて行
なわれる。反応に使用される第四級アンモニウムハイド
ロオキサイドまたは第四級ホスホニウムハイドロオキサ
イドの割合は、イソホロン１モルに対してｏ、ｏｏｉ〜
０．５モル、好ましくは０．０１〜０．１モルである。
反応に用いる青酸の割合はイソホロンに対して０゜５〜
１．５モル倍、好ましくは０．８〜１．２モル倍である
。反応温度は５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０
℃の範囲である。また、反応時間は１〜３０時間、好ま
しくは１〜１０時間である。反応終了後、常法により分
離して目的化合物を得ることができる。反応に用いた第
四級アンモニウムハイドロオキサイドまたは第四級ホス
ホニウムハイドロオキサイドは水により抽出して回収し
、次の反応に循環使用することができる。
１．５モル倍、好ましくは０．８〜１．２モル倍である
。反応温度は５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０
℃の範囲である。また、反応時間は１〜３０時間、好ま
しくは１〜１０時間である。反応終了後、常法により分
離して目的化合物を得ることができる。反応に用いた第
四級アンモニウムハイドロオキサイドまたは第四級ホス
ホニウムハイドロオキサイドは水により抽出して回収し
、次の反応に循環使用することができる。
下記の実施例は本発明を説明するものであるがこの実施
例のみに限定されるものではない。
例のみに限定されるものではない。
実施例１
撹拌器、温度計および冷却管付き滴下ロートを備えた反
応装置にイソホロン１３８．２重量部、テトラ−ｎ−プ
チルアンモニウムハイドロオキザイド６．９重量部およ
び水６．９ｆｆｌｆｆｉ部を仕込み、撹拌下に１１０℃
の温度で青酸２７．０重量部を３時間にわたって滴下し
反応せしめた。滴下終了ｖＡ１１０℃で１時間熟成を行
ったのち、９０’Ｃに冷却し、ガスクロマトグラフィー
で反応液の分析を行ったところ、未反応の青酸は検出さ
れず、６゜９重量部の未反応のイソホロンと１５６．８
重量部の３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘ
キサノンの生成を確認した。したがって、３−シアノ−
３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの青酸基準の
生成率は９４．９％であった。該反応液を水洗後蒸留し
て１５３．７重量部の３−シアノ−３’、５．５−トリ
メチルシクロヘキサノンを得た。対青酸収率９３．Ｏ％
。
応装置にイソホロン１３８．２重量部、テトラ−ｎ−プ
チルアンモニウムハイドロオキザイド６．９重量部およ
び水６．９ｆｆｌｆｆｉ部を仕込み、撹拌下に１１０℃
の温度で青酸２７．０重量部を３時間にわたって滴下し
反応せしめた。滴下終了ｖＡ１１０℃で１時間熟成を行
ったのち、９０’Ｃに冷却し、ガスクロマトグラフィー
で反応液の分析を行ったところ、未反応の青酸は検出さ
れず、６゜９重量部の未反応のイソホロンと１５６．８
重量部の３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘ
キサノンの生成を確認した。したがって、３−シアノ−
３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの青酸基準の
生成率は９４．９％であった。該反応液を水洗後蒸留し
て１５３．７重量部の３−シアノ−３’、５．５−トリ
メチルシクロヘキサノンを得た。対青酸収率９３．Ｏ％
。
実施例２
実施例１と同様の装置に実施例１で得られた水洗液を１
３．８重量部に濃縮したものとイソホロン１３８．２重
量部を仕込み、撹拌下に１１０’Ｃの温度で胃酸２７．
０重量部を３時間にわたって滴下し、反応せしめた。滴
下終了後１１０℃で１時間熟成を行ったのち９０’Ｃに
冷却し、ガスクロマトグラフィーで反応液の分析を行っ
たところ、未反応の青酸は検出されず、６．０重量部の
未反応のイソボロンと１５８．０重ｆｉ部の３−シアノ
−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの生成を確
認した。したがって３−シアノ−３，５，５−、ｔ−リ
メチルシクロヘキサノンの青酸基準の生成率は９５．６
％であった。、該反応液を水洗後、蒸留して１５４．２
重量部の３−シアノ−３，５，５−１−リメヂルシクロ
ヘキサノンを得た。対青酸収率９３゜３％。
３．８重量部に濃縮したものとイソホロン１３８．２重
量部を仕込み、撹拌下に１１０’Ｃの温度で胃酸２７．
０重量部を３時間にわたって滴下し、反応せしめた。滴
下終了後１１０℃で１時間熟成を行ったのち９０’Ｃに
冷却し、ガスクロマトグラフィーで反応液の分析を行っ
たところ、未反応の青酸は検出されず、６．０重量部の
未反応のイソボロンと１５８．０重ｆｉ部の３−シアノ
−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの生成を確
認した。したがって３−シアノ−３，５，５−、ｔ−リ
メチルシクロヘキサノンの青酸基準の生成率は９５．６
％であった。、該反応液を水洗後、蒸留して１５４．２
重量部の３−シアノ−３，５，５−１−リメヂルシクロ
ヘキサノンを得た。対青酸収率９３゜３％。
実施例３
実施例１と同様の装置にイソホロン１３８．２重量部、
テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムハイドロオキサイド６
．９重量部および水６．９ｆｆｉｆｆｉ部を仕込み、撹
拌下に１１０℃の温度で冑１！２７゜０重量部を３時間
にわたって滴下し反応せしめた。
テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムハイドロオキサイド６
．９重量部および水６．９ｆｆｉｆｆｉ部を仕込み、撹
拌下に１１０℃の温度で冑１！２７゜０重量部を３時間
にわたって滴下し反応せしめた。
滴下終了後１１０℃で１時間熟成を行ったのち、９０℃
に冷却し、ガスクロマトグラフィーで反応液の分析を行
ったところ、未反応の青酸は検出されず、７．６重１部
の未反応のイソホロンと１５４．８重量部の３−シアノ
−３，５，５−１−リメチルシクロヘキサノンの生成を
確認した。したがって、３−シアノ−３，５，５−１−
リメチルシクロヘキサノンの青酸基準の生成率は９３．
７％であった。該反応液を水洗後蒸留して１５１．５重
量部の３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキ
サノンを得た。対青酸収率９１．７％。
に冷却し、ガスクロマトグラフィーで反応液の分析を行
ったところ、未反応の青酸は検出されず、７．６重１部
の未反応のイソホロンと１５４．８重量部の３−シアノ
−３，５，５−１−リメチルシクロヘキサノンの生成を
確認した。したがって、３−シアノ−３，５，５−１−
リメチルシクロヘキサノンの青酸基準の生成率は９３．
７％であった。該反応液を水洗後蒸留して１５１．５重
量部の３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキ
サノンを得た。対青酸収率９１．７％。
実施例４
実施例１と同様の装置にイソホロン１３８．′２゜重量
部、ベンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド６．９重量部および水６．９重量部゛を仕込み、撹拌
下に１１０℃の温度で青Ｍ２７゜Ｏｍｍ部を３時間にわ
たって滴下し反応せしめた°。
部、ベンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド６．９重量部および水６．９重量部゛を仕込み、撹拌
下に１１０℃の温度で青Ｍ２７゜Ｏｍｍ部を３時間にわ
たって滴下し反応せしめた°。
滴下終了後１１０℃で１時間熟成を行ったのち、９０℃
に冷却し、ガスクロマトグラフィーで反応液の分析を行
ったところ、未反応の青酸は検出されず、６．５ｆｆｌ
ｆｆｉ部の未反応のイソホロンと１５６．５＠邑部の３
−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの
生成を確認した。したがって、３−シアノ−３，５，５
−トリメチルシクロヘキサノンの青酸基準の生成率は９
４．７％であった。該反応液を水洗後蒸留して１５３．
５重量部の３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロ
ヘキサノンを得た。対青酸収率９２．９％。
に冷却し、ガスクロマトグラフィーで反応液の分析を行
ったところ、未反応の青酸は検出されず、６．５ｆｆｌ
ｆｆｉ部の未反応のイソホロンと１５６．５＠邑部の３
−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの
生成を確認した。したがって、３−シアノ−３，５，５
−トリメチルシクロヘキサノンの青酸基準の生成率は９
４．７％であった。該反応液を水洗後蒸留して１５３．
５重量部の３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロ
ヘキサノンを得た。対青酸収率９２．９％。
Claims (2)
- （１）第四級アンモニウムハイドロオキサイドまたは第
四級ホスホニウムハイドロオキサイドの存在下に、イソ
ホロンと青酸とを反応させることを特徴とする３−シア
ノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方
法。 - （２）反応に使用した第四級アンモニウムハイドロオキ
サイドまたは第四級ホスホニウムハイドロオキサイドは
回収されて次回の反応に循環して使用されてなる特許請
求の範囲第１項に記載の３−シアノ−３，５，５−トリ
メチルシクロヘキサノンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59153231A JPS6133157A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | ３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59153231A JPS6133157A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | ３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6133157A true JPS6133157A (ja) | 1986-02-17 |
| JPH0533217B2 JPH0533217B2 (ja) | 1993-05-19 |
Family
ID=15557918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59153231A Granted JPS6133157A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | ３−シアノ−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6133157A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179221A (en) * | 1991-03-05 | 1993-01-12 | Nippon Chemicals Co., Ltd. | Method for production of 3-cyano-3,5,5-trimethyl cyclohexanone |
| EP0558799A2 (en) * | 1992-03-05 | 1993-09-08 | Elf Atochem North America, Inc. | Catalyst and process for the production of 3-cyano-3,5,5-trialkylcyclohexanone |
| EP0671384A1 (de) * | 1994-03-07 | 1995-09-13 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung von 3-Cyano-3,5,5-trimethylcyclohexanon |
| DE102010062603A1 (de) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| DE102011077681A1 (de) | 2011-06-17 | 2012-12-20 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3-Cyano-3,5,5-trimethylcyclohexanon |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5671057A (en) * | 1979-10-26 | 1981-06-13 | Ugine Kuhlmann | Manufacture of 33cyanoo3*5*55trimethyll cyclohexanone |
-
1984
- 1984-07-25 JP JP59153231A patent/JPS6133157A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5671057A (en) * | 1979-10-26 | 1981-06-13 | Ugine Kuhlmann | Manufacture of 33cyanoo3*5*55trimethyll cyclohexanone |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179221A (en) * | 1991-03-05 | 1993-01-12 | Nippon Chemicals Co., Ltd. | Method for production of 3-cyano-3,5,5-trimethyl cyclohexanone |
| EP0558799A2 (en) * | 1992-03-05 | 1993-09-08 | Elf Atochem North America, Inc. | Catalyst and process for the production of 3-cyano-3,5,5-trialkylcyclohexanone |
| EP0558799A3 (en) * | 1992-03-05 | 1995-02-15 | Atochem North America Elf | Catalyst and process for the production of 3-cyano-3,5,5-trialkylcyclohexanone |
| EP0671384A1 (de) * | 1994-03-07 | 1995-09-13 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung von 3-Cyano-3,5,5-trimethylcyclohexanon |
| DE102010062603A1 (de) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3-Aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexylamin |
| DE102011077681A1 (de) | 2011-06-17 | 2012-12-20 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3-Cyano-3,5,5-trimethylcyclohexanon |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0533217B2 (ja) | 1993-05-19 |
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