JPS6132447A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

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JPS6132447A
JPS6132447A JP15600784A JP15600784A JPS6132447A JP S6132447 A JPS6132447 A JP S6132447A JP 15600784 A JP15600784 A JP 15600784A JP 15600784 A JP15600784 A JP 15600784A JP S6132447 A JPS6132447 A JP S6132447A
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JP
Japan
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filler
resin
semiconductor device
passivation film
film
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JP15600784A
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English (en)
Inventor
Koichiro Masuko
益子 耕一郎
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、エポキシ樹脂系組成物の硬化物によって封止
された高信頼性の樹脂封止型半導体装置に関するもので
ある。
〔従来技術〕
従来この種の装置として第1図に示すものかあった。図
は大規模集積回路のパ・ノケージとして多用されている
DIP (デュアル・イン・ライン型パッケージ)の断
面を示したものである。図において、lはリードフレー
ム、2は半導体素子、3はロウ材、4はグイパッド、5
はボンディングワイヤ、6はエポキシ樹脂、7は半導体
素子2上に形成されたアルミニウム配線、8は半導体素
子2を保護するためのパッシベーション膜、9は充てん
剤である。
上記半導体素子2はロウ材3によりグイバッド4に固着
されており、アルミニウム配線7のポンディングパッド
部分がボンディングワイヤ5によりリードフレーム1の
一端に接続されている。また、工′ポキシ樹脂6と充て
ん剤9とからなる樹脂組成物により、リードフレーム1
の一端、半導体素子2.ロウ材3.ダイパッド4.ボン
ディングワイヤ5.アルミニウム配線7.パッシベーシ
ョン膜8が一体に成形されている。
ここで上記光てん剤としては、石英ガラス粉。
ジルコン粉、アルミナ粉、マグネシア粉、シリカ粉など
が使用され得るが、大規模集積回路においては、シリカ
粉が一般的に使用される。
充てん剤を使用する目的については、特公昭57−16
743号、特公昭5B −3382号に詳しいが、以下
の説明のため、ここで簡単に紹介する。これらの充てん
剤の線膨張係数は1.5 Xl0−57”C以下であり
、これらをエポキシ樹脂6に配合することにより、半導
体素子2やボンディングワイヤ5の線膨張係数に近い線
膨張係数を有する樹脂組成物が得られる。従って、エポ
キシ樹脂6に充てん剤9を配合したものを成形材料とし
て用いることにより、熱機械特性が改善される。
充てん剤9として通常用いられるシリカ粉は溶融シリカ
であるが、高い熱伝導性を必要とする場合には結晶シリ
カを用いる。大規模集積回路の場合には結晶シリカがほ
とんどである。
この結晶シリカはへき開性を有するため、微粒粉にした
場合、鋭角の多面体となる。その様子を第2図の拡大断
面図に示す。図において、2〜4゜6〜9ば第1図と同
一部分を示す、10は大規模集積回路の種類によって異
なるが、適音はリン・ガラス膜で形成されるスムースコ
ート膜である。
スムースコート膜10の下の構造は簡単のため省略して
いる。
ところで、特公昭57−16743号、特公昭58−3
382号の各公報に示されるように、エポキシ樹脂6に
単に充てん剤9を充てんしただけでは、以下に述べる問
題を生ずる恐れがある。
すなわち、結晶シリカ等の充てん剤9は鋭角構造を有し
ているため、樹脂注入時の圧力(第2図の矢印A方向)
を受けて、パッシベーションHfi!Bに突き刺さり、
下層のアルミニウム配線7やスムースコート膜10に到
達する可能性がある。その場合、ノマソシベーション膜
8と充てん剤9との境界面を伝わって、外部から侵入し
た湿気がアルミニウム配線7やスムースコート膜10に
達し、アルミニウム配線7の腐食を招き、信頼性上問題
が生じる恐れがある。ただし、充てん剤9の外径寸法が
パッシベーション膜8の厚さよりも小さい場合には、第
2図よりわかるように、充てん剤9がパッシベーション
膜8中に埋もれてしまい、樹脂注入時の圧力が緩和され
、該充てん剤9はアルミニウム配線7やスムースコート
g*ioに達せずに止まってしまう。
従来の樹脂封止型半導体装置は以上のように構成されて
おり、パッシベーション膜8の厚さ1〜2ミクロンに対
し、充てん剤9の外形寸法は最大数十ミクロンにわたっ
て分布しており、パッシベーション膜8に突き刺さった
大径の充てん剤9が下層のアルミニウム配線7やスムー
スコート膜10に達してしまい、外部からの水分の侵入
を誘発する可能性があり、耐湿性や信頼性が低下する恐
れがあるという欠点があった。
〔発明の概要〕
本発明は上記のような従来のものの欠点を除去するため
になされたもので、使用する充てん剤の11 径ヲパン
シヘーション膜厚以下とすることにより、充てん剤がパ
ッシベーション膜を突き抜けてアルミニウム配線やスム
ースコート膜に到達する危険性を防止し、信頼性の高い
樹脂封止型半導体装置を提供することを目的としている
〔発明の実施例〕
以下、この発明の実施例を図について説明する。
第3図は本発明の一実施例による樹脂封止型半導体装置
を示し、図において、第2図と同一部分には同じ符号を
つけている。本実施例装置では、充てん剤9の粒径をパ
ッシベーション膜8の厚さより小さくしている。これに
より、樹脂封止時の圧力により充てん剤9がパッシベー
ション膜8中に突き刺って、アルミニウム配線7やスム
ースコート膜10に到達するのが防止される。
従来充てん剤9がアルミニウム配線7やスムースコート
膜10に到達したときには、外部から侵入した水分は樹
N6中を通り、パッシベーション膜8と充てん剤9との
境界面を伝わり、この水分がアルミニウム配線7やスム
ースコート膜1oに達すると、アルミニウムを腐食した
り、トランジスタ特性を変化させたりすることとなった
が、本実施例装置では、外部から侵入した水分がアルミ
ニウム配線7やスムースコート膜1oに容易には到達し
にくくなり、上記のような腐食、トランジスタ特性の変
化等の問題は生じず、高信頼性の樹脂封止型半導体装置
が得られる。
なお、上記実施例では、充てん剤として結晶シリカを使
用した場合のものを示したが、他の材料でもよい。
また、上記実施例では、DIP型パッケージの場合につ
いて説明したが、フラット・パンケージやシングル・イ
ン・ライン型のパンケージでもよく、上記実施例と同様
の効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明によれば、熱硬化性樹脂に充てん
剤を配合してなる熱硬化性樹脂組成物によって半導体素
子を封止する樹脂封止型半導体装置において、充てん剤
の粒径をパンシベーション膜厚より小さくしたので、高
耐湿性、高信頼性の装置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の樹脂封止型半導体装置を示す断面図、第
2図は第1図の拡大断面図、第3図は本発明の一実施例
による樹脂封止型半導体装置を示す拡大断面図である。 2・・・半導体素子、6・・・熱硬化性樹脂、9・・・
充てン剤、8・・・パンシベーション膜。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)熱硬化性樹脂に充てん剤を配合してなる熱硬化性
    樹脂組成物によって半導体素子を封止する樹脂封止型半
    導体装置において、前記充てん剤の粒径が前記半導体素
    子のパッシベーション膜厚より小さいことを特徴とする
    樹脂封止型半導体装置。
  2. (2)前記充てん剤が、石英ガラス粉、ジルコン粉、ア
    ルミナ粉、マグネシア粉、シリカ粉のいずれかであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の樹脂封止型
    半導体装置。
JP15600784A 1984-07-24 1984-07-24 樹脂封止型半導体装置 Pending JPS6132447A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220106726A (ko) * 2020-05-22 2022-07-29 엘지이노텍 주식회사 카메라 모듈

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