JPS6130658B2 - - Google Patents
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- JPS6130658B2 JPS6130658B2 JP55005146A JP514680A JPS6130658B2 JP S6130658 B2 JPS6130658 B2 JP S6130658B2 JP 55005146 A JP55005146 A JP 55005146A JP 514680 A JP514680 A JP 514680A JP S6130658 B2 JPS6130658 B2 JP S6130658B2
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Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
Description
本発明は4−ヒドロキシインドール類を短かい
反応時間で高い収率で製造する方法に関するもの
である。 4−ヒドロキシインドール類は医薬の中間原料
として有用な物質である。 従来4−ヒドロキシインドール類を製造する技
術としては、 式 で示されるごとく、原料に4−オキソ−4・5・
6・7−テトラヒドロインドールを用い、触媒に
パラジウム−カーボン粉末、反応溶媒にP−シメ
ン、メシチレン等の芳香族炭化水素を使用して反
応させる方法〔Ber、1968、101(7)2605〜
2607あるいはJ、Heterocyclic chem14、71
(1971)〕があるが、4−ヒドロキシインドール類
の収率は57%〜77%であるばかりか、この芳香族
炭化水素を溶媒とする方法には次に挙げるような
欠点がある。 (1) 原料および反応生成物に対する溶解性が悪
く、仕込濃度が約4%と著しく低い。 (2) 冷却すると反応生成物と触媒の両方が共に沈
澱するので、反応生成物からの触媒の分離が困
難である。 (3) 収率が最高77%と低い。 (4) 反応の進行が遅く、反応時間が長くかかる。
すなわち、20時間反応させても原料の転化率が
約80%にとどまり、しかも原料が多量に残る。 本発明者らは上記従来法の欠点を改良し、収率
の高くなる4−ヒドロキシインドール類の製法に
ついて鋭意研究を重ねた結果、反応溶媒としてア
ルキレングリコールジアルキルエーテルまたはポ
リアルキレングリコールジアルキルエーテルを用
いると原料および反応生成物の溶解性が良く、そ
の結果、収率も上昇し、反応時間も短縮されるこ
とを知つて本発明に到達した。 すなわち、本発明の要旨は、一般式 (ただし、R1、およびR2は水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基またはC1〜C20の
アルキル基を示し、R3、R4およびR5は水素原子
またはC1〜C20のアルキル基を示す。)で表わさ
れる4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール類を反応溶媒として、一般式
反応時間で高い収率で製造する方法に関するもの
である。 4−ヒドロキシインドール類は医薬の中間原料
として有用な物質である。 従来4−ヒドロキシインドール類を製造する技
術としては、 式 で示されるごとく、原料に4−オキソ−4・5・
6・7−テトラヒドロインドールを用い、触媒に
パラジウム−カーボン粉末、反応溶媒にP−シメ
ン、メシチレン等の芳香族炭化水素を使用して反
応させる方法〔Ber、1968、101(7)2605〜
2607あるいはJ、Heterocyclic chem14、71
(1971)〕があるが、4−ヒドロキシインドール類
の収率は57%〜77%であるばかりか、この芳香族
炭化水素を溶媒とする方法には次に挙げるような
欠点がある。 (1) 原料および反応生成物に対する溶解性が悪
く、仕込濃度が約4%と著しく低い。 (2) 冷却すると反応生成物と触媒の両方が共に沈
澱するので、反応生成物からの触媒の分離が困
難である。 (3) 収率が最高77%と低い。 (4) 反応の進行が遅く、反応時間が長くかかる。
すなわち、20時間反応させても原料の転化率が
約80%にとどまり、しかも原料が多量に残る。 本発明者らは上記従来法の欠点を改良し、収率
の高くなる4−ヒドロキシインドール類の製法に
ついて鋭意研究を重ねた結果、反応溶媒としてア
ルキレングリコールジアルキルエーテルまたはポ
リアルキレングリコールジアルキルエーテルを用
いると原料および反応生成物の溶解性が良く、そ
の結果、収率も上昇し、反応時間も短縮されるこ
とを知つて本発明に到達した。 すなわち、本発明の要旨は、一般式 (ただし、R1、およびR2は水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基またはC1〜C20の
アルキル基を示し、R3、R4およびR5は水素原子
またはC1〜C20のアルキル基を示す。)で表わさ
れる4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール類を反応溶媒として、一般式
【式】(ただし、R6、R7およ
びR8はC1〜C20のアルキル基を示し、nは1〜5
の整数を示す。)で表わされるアルキレングリコ
ールジアルキルエーテルまたはポリアルキレング
リコールジアルキルエーテル類を使用し、貴金属
触媒の存在下に反応させて、一般式 (ただし、R1、R2、R3、R4およびR5の意味は上記
と同じ)で表わされる4−ヒドロキシインドール
類を合成することにある。 本発明で使用する一般式 (ただし、R1およびR2は水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基またはC1〜C20の
アルキル基を示し、R3、R4およびR5は水素原子
またはC1〜C20のアルキル基を示す。)で表わさ
れる4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール類としては、4−オキソ−4・5・
6・7−テトラヒドロインドール、4−オキソ−
2−カルボキシル−4・5・6・7−テトラヒド
ロインドール、4−オキソ−3−アミノ−4・
5・6・7−テトラヒドロインドール、4−オキ
ソ−3−クロロ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール、4−オキソ−3−クロロ−5−メチ
ル−4・6・7−トリヒドロインドール、4−オ
キソ−5・6・7−トリメチル−4−ヒドロイン
ドール等をあげることができる。 本発明で反応溶媒として使用する、一般式
の整数を示す。)で表わされるアルキレングリコ
ールジアルキルエーテルまたはポリアルキレング
リコールジアルキルエーテル類を使用し、貴金属
触媒の存在下に反応させて、一般式 (ただし、R1、R2、R3、R4およびR5の意味は上記
と同じ)で表わされる4−ヒドロキシインドール
類を合成することにある。 本発明で使用する一般式 (ただし、R1およびR2は水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基またはC1〜C20の
アルキル基を示し、R3、R4およびR5は水素原子
またはC1〜C20のアルキル基を示す。)で表わさ
れる4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール類としては、4−オキソ−4・5・
6・7−テトラヒドロインドール、4−オキソ−
2−カルボキシル−4・5・6・7−テトラヒド
ロインドール、4−オキソ−3−アミノ−4・
5・6・7−テトラヒドロインドール、4−オキ
ソ−3−クロロ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール、4−オキソ−3−クロロ−5−メチ
ル−4・6・7−トリヒドロインドール、4−オ
キソ−5・6・7−トリメチル−4−ヒドロイン
ドール等をあげることができる。 本発明で反応溶媒として使用する、一般式
【式】(ただし、R6、R7およ
びR8はC1〜C20のアルキル基を示し、nは1〜5
の整数を示す。)で表わされるアルキレングリコ
ールジアルキルエーテルまたはポリアルキレング
リコールジアルキルエーテル類としては、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、エチレングリコールジブ
チルエーテル、プロピレングリコールジメチルエ
ーテル、プロピレングリコールジエチルエーテ
ル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル、トリエチレングリコールジ
メチルエーテル、トリエチレングリコールジエチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールジエチル
エーテル等がある。 これら溶媒の中では、沸点および経済性の点か
らみて、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル、その中でもジエチレングリコールジエチルエ
ーテル(B、P188.4℃)を使用するのが有利であ
るが、上に例を挙げたその他の溶媒を使用しても
十分本発明の効果はあがる。 また触媒としては一般に水添に使用される貴金
層触媒が有効であり、その具体例としてはパラジ
ウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の貴金属を
含む触媒があげられる。中でも有効な触媒はパラ
ジウムを含有する触媒であり、特にパラジウムの
含有量が5〜20%のパラジウム−カーボン粉末が
すぐれている。 触媒の添加量は原料4−オキソ−4・5・6・
7−テトラヒドロインドール類に対して0.1〜50
重量%の範囲が好ましく、さらに好ましくは1〜
25重量%の範囲である。0.1重量%以下の添加量
では殆んど反応が進まず、50重量%以上添加して
もさしたる効果は見られないので経済的に不利で
ある。触媒の添加方法として、触媒を所定量一括
して初めに供給してもかまわないが、2回以上に
分割して供給する方が原料の転化率も目的とする
製品の収率も向上し、副生物の生成を抑制する利
点があるので有利である。 反応温度は通常100℃〜250℃で行なうのがよい
が、条件によつてはこれ以下あるいはこれ以上の
温度でも反応させることができる。 反応時間および副生物の抑制を考慮すると170
℃〜200℃が好ましい。 反応を開始するに先立ち、反応器内を窒素また
はヘリウム等の不活性ガスの雰囲気にするか、ま
たは前記不活性ガスの気流下で反応させると副生
物の生成が抑制されてさらに好結果が得られる。
不活性ガスとしては経済性を考慮すれば窒素の使
用が好ましい。 本発明によつてもたらされる効果は以下のとお
りである。 (1) 原料および反応生成物の溶解性が良く、仕込
濃度が従来法に比して2.5倍約10%まで高めら
れる。 (2) 反応生成物を常温に冷却しても均一に溶解し
ているので反応生成物と触媒の分離が容易であ
る。 (3) 収率が85〜95%と高い。 (4) 反応速度が速く、反応は短時間で終了する。
特に触媒を分割供給すると、8〜10時間で原料
の転化率が95%以上となり、殆んど未反応原料
を残さない。 以下実施例により本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 還流冷却器と撹拌装置を備えた300mlの四つ口
フラスコに4−オキソ−4・5・6・7−テトラ
ヒドロインドール20.0g(0.148モル)、10%パラ
ジウム−カーボン粉末(日本エンゲルハルト社
製)2.0gおよびジエチレングリコールジエチル
エーテル200mlを入れ、導入管よりN2ガスを少量
反応器内に流しながら190℃まで昇温し、8時間
同温度で反応させた。反応終了後冷却してパラジ
ウム−カーボン粉末を別した後、ガスクロマト
グラフで分析したところ、4−ヒドロキシインド
ール17.03g(0.128モル)および未反応原料1.65
g(0.012モル)を検出した。4−ヒドロキシイ
ンドールの収率は86.5%であつた。 実施例 2 ジエチレングリコールジエチルエーテルのかわ
りに、ジエチレングリコールジメチルエーテルを
使用し、反応温度165℃、反応時間12時間以外は
実施例1と同様にして4−ヒドロキシインドール
16.36g(0.123モル)および未反応原料2.40g
(0.018モル)を検出した。 4−ヒドロキシインドールの収率は86.0%であ
つた。 実施例 3 10%パラジウム−カーボン粉末を反応開始前に
0.4g加えて反応を開始し、その後2時間毎に0.2
gの10%パラジウム−カーボン粉末を分割添加し
て、12時間反応させる(10%パラジウム−カーボ
ン粉末の添加総量は1.4gである。)以外は実施例
1と同様にして4−ヒドロキシインドール18.70
g(0.141モル)および未反応原料0.66g(0.005
モル)を検出した。4−ヒドロキシインドールの
収率は95.3%であつた。 実施例 4 10%パラジウム−カーボン粉末5.0PHを使用す
る以外は実施例1と同様にして4−ヒドロキシイ
ンドール16.7g(0.126モル)および未反応原料
1.30g(0.010モル)を検出した。4−ヒドロキ
シインドールの収率は85.1%であつた。 実施例 5 ジエチレングリコールジエチルエーテルのかわ
りにジプロピレングリコールジ−n−ブチルエー
テルを使用し、反応温度200℃、反応時間6時間
とする以外は、実施例1と同様にして、4−ヒド
ロキシインドール17.13g(0.129モル)および末
反応原料0.92g(0.007モル)を検出した。 4−ヒドロキシインドールの収率は87.2%であ
つた。 実施例 6〜8 以下実施例3と同様にして原料を変えて反応し
た例を次表に示す。
の整数を示す。)で表わされるアルキレングリコ
ールジアルキルエーテルまたはポリアルキレング
リコールジアルキルエーテル類としては、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、エチレングリコールジブ
チルエーテル、プロピレングリコールジメチルエ
ーテル、プロピレングリコールジエチルエーテ
ル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル、トリエチレングリコールジ
メチルエーテル、トリエチレングリコールジエチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールジエチル
エーテル等がある。 これら溶媒の中では、沸点および経済性の点か
らみて、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル、その中でもジエチレングリコールジエチルエ
ーテル(B、P188.4℃)を使用するのが有利であ
るが、上に例を挙げたその他の溶媒を使用しても
十分本発明の効果はあがる。 また触媒としては一般に水添に使用される貴金
層触媒が有効であり、その具体例としてはパラジ
ウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の貴金属を
含む触媒があげられる。中でも有効な触媒はパラ
ジウムを含有する触媒であり、特にパラジウムの
含有量が5〜20%のパラジウム−カーボン粉末が
すぐれている。 触媒の添加量は原料4−オキソ−4・5・6・
7−テトラヒドロインドール類に対して0.1〜50
重量%の範囲が好ましく、さらに好ましくは1〜
25重量%の範囲である。0.1重量%以下の添加量
では殆んど反応が進まず、50重量%以上添加して
もさしたる効果は見られないので経済的に不利で
ある。触媒の添加方法として、触媒を所定量一括
して初めに供給してもかまわないが、2回以上に
分割して供給する方が原料の転化率も目的とする
製品の収率も向上し、副生物の生成を抑制する利
点があるので有利である。 反応温度は通常100℃〜250℃で行なうのがよい
が、条件によつてはこれ以下あるいはこれ以上の
温度でも反応させることができる。 反応時間および副生物の抑制を考慮すると170
℃〜200℃が好ましい。 反応を開始するに先立ち、反応器内を窒素また
はヘリウム等の不活性ガスの雰囲気にするか、ま
たは前記不活性ガスの気流下で反応させると副生
物の生成が抑制されてさらに好結果が得られる。
不活性ガスとしては経済性を考慮すれば窒素の使
用が好ましい。 本発明によつてもたらされる効果は以下のとお
りである。 (1) 原料および反応生成物の溶解性が良く、仕込
濃度が従来法に比して2.5倍約10%まで高めら
れる。 (2) 反応生成物を常温に冷却しても均一に溶解し
ているので反応生成物と触媒の分離が容易であ
る。 (3) 収率が85〜95%と高い。 (4) 反応速度が速く、反応は短時間で終了する。
特に触媒を分割供給すると、8〜10時間で原料
の転化率が95%以上となり、殆んど未反応原料
を残さない。 以下実施例により本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 還流冷却器と撹拌装置を備えた300mlの四つ口
フラスコに4−オキソ−4・5・6・7−テトラ
ヒドロインドール20.0g(0.148モル)、10%パラ
ジウム−カーボン粉末(日本エンゲルハルト社
製)2.0gおよびジエチレングリコールジエチル
エーテル200mlを入れ、導入管よりN2ガスを少量
反応器内に流しながら190℃まで昇温し、8時間
同温度で反応させた。反応終了後冷却してパラジ
ウム−カーボン粉末を別した後、ガスクロマト
グラフで分析したところ、4−ヒドロキシインド
ール17.03g(0.128モル)および未反応原料1.65
g(0.012モル)を検出した。4−ヒドロキシイ
ンドールの収率は86.5%であつた。 実施例 2 ジエチレングリコールジエチルエーテルのかわ
りに、ジエチレングリコールジメチルエーテルを
使用し、反応温度165℃、反応時間12時間以外は
実施例1と同様にして4−ヒドロキシインドール
16.36g(0.123モル)および未反応原料2.40g
(0.018モル)を検出した。 4−ヒドロキシインドールの収率は86.0%であ
つた。 実施例 3 10%パラジウム−カーボン粉末を反応開始前に
0.4g加えて反応を開始し、その後2時間毎に0.2
gの10%パラジウム−カーボン粉末を分割添加し
て、12時間反応させる(10%パラジウム−カーボ
ン粉末の添加総量は1.4gである。)以外は実施例
1と同様にして4−ヒドロキシインドール18.70
g(0.141モル)および未反応原料0.66g(0.005
モル)を検出した。4−ヒドロキシインドールの
収率は95.3%であつた。 実施例 4 10%パラジウム−カーボン粉末5.0PHを使用す
る以外は実施例1と同様にして4−ヒドロキシイ
ンドール16.7g(0.126モル)および未反応原料
1.30g(0.010モル)を検出した。4−ヒドロキ
シインドールの収率は85.1%であつた。 実施例 5 ジエチレングリコールジエチルエーテルのかわ
りにジプロピレングリコールジ−n−ブチルエー
テルを使用し、反応温度200℃、反応時間6時間
とする以外は、実施例1と同様にして、4−ヒド
ロキシインドール17.13g(0.129モル)および末
反応原料0.92g(0.007モル)を検出した。 4−ヒドロキシインドールの収率は87.2%であ
つた。 実施例 6〜8 以下実施例3と同様にして原料を変えて反応し
た例を次表に示す。
【表】
実施例 9
5%白金−カーボン粉末を使用し、反応時間を
12時間とする以外は実施例1と同様にして、4−
ヒドロキシインドール16.93g(0.127モル)およ
び未反応原料1.30g(0.010モル)を検出した。
4−ヒドロキシインドールの収率は85.8%であつ
た。 比較例 1 4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロイ
ンドール10g(0.074モル)、10%パラジウム−カ
ーボン粉末2.5gおよびP−シメン250mlを四つ口
フラスコに入れ、N2ガスを導入しながらN2雰囲
気下で、24時間環流して(177℃)反応させ、冷
却して沈澱物を別し、さらに別した沈澱物を
メタノールで洗浄して、洗液を液と一緒にし
て、ガスクロマトグラフで分析したところ、4−
ヒドロキシインドール7.09g(0.053モル)およ
び未反応原料1.60g(0.012モル)を検出した。 4−ヒドロキシルインドールの収率は71.6%で
あり、原料の転化率は85%といずれも低かつた。
12時間とする以外は実施例1と同様にして、4−
ヒドロキシインドール16.93g(0.127モル)およ
び未反応原料1.30g(0.010モル)を検出した。
4−ヒドロキシインドールの収率は85.8%であつ
た。 比較例 1 4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロイ
ンドール10g(0.074モル)、10%パラジウム−カ
ーボン粉末2.5gおよびP−シメン250mlを四つ口
フラスコに入れ、N2ガスを導入しながらN2雰囲
気下で、24時間環流して(177℃)反応させ、冷
却して沈澱物を別し、さらに別した沈澱物を
メタノールで洗浄して、洗液を液と一緒にし
て、ガスクロマトグラフで分析したところ、4−
ヒドロキシインドール7.09g(0.053モル)およ
び未反応原料1.60g(0.012モル)を検出した。 4−ヒドロキシルインドールの収率は71.6%で
あり、原料の転化率は85%といずれも低かつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (ただし、R1およびR2は水素原子、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシル基またはC1〜C20の
アルキル基を示し、R3、R4およびR5は水素原子
またはC1〜C20のアルキル基を示す。)で表わさ
れる4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール類を貴金属触媒の存在下に反応させ、
一般式 (ただし、R1、R2、R3、R4およびR5の意味は上記
と同じ。)で表わされる4−ヒドロキシインドー
ル類を合成するに際し、一般式 (ただし、R6、R7およびR8はC1〜C20のアルキル
基を示し、nは1〜5の整数を示す。)で表わさ
れるアルキレングリコールジアルキルエーテルま
たはポリアルキレングリコールジアルキルエーテ
ル類を反応溶媒として用いることを特徴とする4
−ヒドロキシインドール類の製法。 2 4−オキソ−4・5・6・7−テトラヒドロ
インドール類が4−オキソ−4・5・6・7−テ
トラヒドロインドールである特許請求の範囲1記
載の方法。 3 ポリアルキレングリコールジアルキルエーテ
ルがジエチレングリコールジエチルエーテルであ
る特許請求の範囲1記載の方法。 4 貴金属触媒がパラジウムを含有する触媒であ
る特許請求の範囲1記載の方法。 5 貴金属触媒がパラジウム−カーボン粉末であ
る特許請求の範囲1または4記載の方法。 6 貴金属触媒を4−オキソ−4・5・6・7−
テトラヒドロインドール類に対し、0.1〜50重量
%添加する特許請求の範囲1、4または5記載の
方法。 7 貴金属触媒を2回以上に分割して添加する特
許請求の範囲1、4、5または6記載の方法。 8 反応温度を100℃〜250℃の温度に保つて反応
させる特許請求の範囲1記載の方法。 9 不活性ガス雰囲気または不活性ガス気流下で
反応させる特許請求の範囲1記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP514680A JPS56103160A (en) | 1980-01-18 | 1980-01-18 | Production of 4-hydroxyindole |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP514680A JPS56103160A (en) | 1980-01-18 | 1980-01-18 | Production of 4-hydroxyindole |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56103160A JPS56103160A (en) | 1981-08-18 |
JPS6130658B2 true JPS6130658B2 (ja) | 1986-07-15 |
Family
ID=11603152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP514680A Granted JPS56103160A (en) | 1980-01-18 | 1980-01-18 | Production of 4-hydroxyindole |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56103160A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01150572U (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-18 | ||
JPH01150571U (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-18 | ||
JPH03115370U (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-28 | ||
JPH0465776U (ja) * | 1990-10-19 | 1992-06-09 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60146870A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-08-02 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 4−ヒドロキシインド−ルの製造法 |
JPS60228457A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-13 | Nippon Zeon Co Ltd | 4−ヒドロキシインド−ル類の精製方法 |
-
1980
- 1980-01-18 JP JP514680A patent/JPS56103160A/ja active Granted
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01150572U (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-18 | ||
JPH01150571U (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-18 | ||
JPH03115370U (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-28 | ||
JPH0465776U (ja) * | 1990-10-19 | 1992-06-09 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56103160A (en) | 1981-08-18 |
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