JPS61297072A - ウエ−ハ自動平面研削盤のアンロ−ダ装置 - Google Patents
ウエ−ハ自動平面研削盤のアンロ−ダ装置Info
- Publication number
- JPS61297072A JPS61297072A JP60139390A JP13939085A JPS61297072A JP S61297072 A JPS61297072 A JP S61297072A JP 60139390 A JP60139390 A JP 60139390A JP 13939085 A JP13939085 A JP 13939085A JP S61297072 A JPS61297072 A JP S61297072A
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- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Feeding Of Workpieces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
j8」−理Bニヌ41)す31)艶ト1駄Fこの発明は
、ウェーハを切削研磨するウェーハ自動平面研削盤のア
ンローダ装置に関するものである。
、ウェーハを切削研磨するウェーハ自動平面研削盤のア
ンローダ装置に関するものである。
従来辺丑−術。
ウェーハは、当該ウェーハに相当するM径に作られた長
さ数百ミリメートルの棒状の単結晶を、ダイヤモンド・
ブレードを用いて切断して作る。そして、切り出された
ウェーハは、表面をウェーハ自動平面研削盤で機械的に
切削研磨する。ところで、通常、ウェーハ自動平面研削
盤ではウェーハをテーブル上にバキュームチャックして
切削研磨する。
さ数百ミリメートルの棒状の単結晶を、ダイヤモンド・
ブレードを用いて切断して作る。そして、切り出された
ウェーハは、表面をウェーハ自動平面研削盤で機械的に
切削研磨する。ところで、通常、ウェーハ自動平面研削
盤ではウェーハをテーブル上にバキュームチャックして
切削研磨する。
第6図はこの種のウェーハ自動平面研削盤の一般的な切
削システムを示す概略図で、これは入口カセット(1)
から入口搬送コンベア(2)で搬出したウェーハ(3)
を、ローダアーム(4)でバキューム吸着してロータリ
テーブル(5)上に円周等配設したウェーハチャック(
6)上にローディングさせ、ここで再びバキューム吸着
し、ロータリテーブル(5)の回動に伴って粗砥石(7
)、仕上砥石(8)に順次送り込んで切削研磨する。そ
して、切削研削されたウェーハ(3)を、更にロータリ
テーブル(5)の回転に伴ってアンローダ位置に送り込
み、そして、アンローダアーム(9)でアンローディン
グしてウェーハ洗浄装置(10)に移送し、ここで、洗
浄、水切りを行いウェーハ搬送袋f&(lla)で出口
コンベア(12)まで搬送し、出口コンベア(12)に
て出口カセット(13)に収納する。
削システムを示す概略図で、これは入口カセット(1)
から入口搬送コンベア(2)で搬出したウェーハ(3)
を、ローダアーム(4)でバキューム吸着してロータリ
テーブル(5)上に円周等配設したウェーハチャック(
6)上にローディングさせ、ここで再びバキューム吸着
し、ロータリテーブル(5)の回動に伴って粗砥石(7
)、仕上砥石(8)に順次送り込んで切削研磨する。そ
して、切削研削されたウェーハ(3)を、更にロータリ
テーブル(5)の回転に伴ってアンローダ位置に送り込
み、そして、アンローダアーム(9)でアンローディン
グしてウェーハ洗浄装置(10)に移送し、ここで、洗
浄、水切りを行いウェーハ搬送袋f&(lla)で出口
コンベア(12)まで搬送し、出口コンベア(12)に
て出口カセット(13)に収納する。
第7図は第6図とは別の研削システムを示す概略図で、
これの第6図の構造と相違するのは、ウェーハ洗浄装置
(10)で洗浄した後のウェーハ(3)をウェーハ搬送
反転装置(1)b )で反転し乍ら出口コンベア(12
)に搬送する点のみである。尚、第7図に於いて第6図
と同一符号は同一構成物を示す。
これの第6図の構造と相違するのは、ウェーハ洗浄装置
(10)で洗浄した後のウェーハ(3)をウェーハ搬送
反転装置(1)b )で反転し乍ら出口コンベア(12
)に搬送する点のみである。尚、第7図に於いて第6図
と同一符号は同一構成物を示す。
懺 °し と る!!1題嘉
ところで、従来の第6図及び第7図のいずれの研削シス
テムでも、ウェーハ(3)はウェーハ洗浄装置(lO)
からアンローダアーム(9)以外の搬送装置(1)a
) (1)b >で搬送されている。これは、第6図
の研削システムの場合、通常、ウェーハ洗浄装置(10
)で洗浄された後のウェーハ(3)はスピン動作で水切
りされる為、ウェーハ洗浄装置(10)からウェーハ(
3)を取り出すウェーハ搬送装置(1)a )のバキュ
ームパッドに塵、水等が付着してはならないからであり
、また、第7図の研削システムの場合、使用されるカセ
ットに問題があるからである。また、アンローダアーム
(9)でロータリテーブル(5)上のウェーハチャック
(6)からウェーハ(3)をアンローディングする時、
つ工−ハチャソク(6)上に作用する表面張力に対処す
る為、ウェーハチャック(6)はバキュームが開放され
ると水を噴射してウェーハ(3)を水圧浮上させる必要
がある。
テムでも、ウェーハ(3)はウェーハ洗浄装置(lO)
からアンローダアーム(9)以外の搬送装置(1)a
) (1)b >で搬送されている。これは、第6図
の研削システムの場合、通常、ウェーハ洗浄装置(10
)で洗浄された後のウェーハ(3)はスピン動作で水切
りされる為、ウェーハ洗浄装置(10)からウェーハ(
3)を取り出すウェーハ搬送装置(1)a )のバキュ
ームパッドに塵、水等が付着してはならないからであり
、また、第7図の研削システムの場合、使用されるカセ
ットに問題があるからである。また、アンローダアーム
(9)でロータリテーブル(5)上のウェーハチャック
(6)からウェーハ(3)をアンローディングする時、
つ工−ハチャソク(6)上に作用する表面張力に対処す
る為、ウェーハチャック(6)はバキュームが開放され
ると水を噴射してウェーハ(3)を水圧浮上させる必要
がある。
そこで、従来のアンローダアーム(9)は、第8図に示
すように、ウェーハチャック(6)上に位置した時、そ
のバキュームパッド(9a)の高さはウェーハチャック
(6)より高さHlだけ上方に配置される構造になって
おり、ウェーハ(3)が水圧浮上した時にバキューム吸
着できるようになっている。更に、アンローダアーム(
9)にバキューム吸着されたウェーハ(3)は、アンロ
ーダアーム(9)の旋回に伴ってウェーハ洗浄装置(1
0)のスピンナテーブル(10a)上に移送されるか、
この時、ウェーハ洗浄装置(lO)のスピンナテーブル
(10a)はウェーハ〈3)の旋回に伴う干渉の危険を
避ける為に高さH2だけ下降した位置にあり、ウェーハ
旋回後に高さH2だけ上昇してウェーハ(3)を載置す
る構造である。
すように、ウェーハチャック(6)上に位置した時、そ
のバキュームパッド(9a)の高さはウェーハチャック
(6)より高さHlだけ上方に配置される構造になって
おり、ウェーハ(3)が水圧浮上した時にバキューム吸
着できるようになっている。更に、アンローダアーム(
9)にバキューム吸着されたウェーハ(3)は、アンロ
ーダアーム(9)の旋回に伴ってウェーハ洗浄装置(1
0)のスピンナテーブル(10a)上に移送されるか、
この時、ウェーハ洗浄装置(lO)のスピンナテーブル
(10a)はウェーハ〈3)の旋回に伴う干渉の危険を
避ける為に高さH2だけ下降した位置にあり、ウェーハ
旋回後に高さH2だけ上昇してウェーハ(3)を載置す
る構造である。
従って、従来のウェーハ自動平面研削盤では、アンロー
ダアーム(9)の旋回、ウェーハ洗浄袋N(10)のス
ピンナテーブル(10a)の上下動及びウェーハ洗浄装
置(10)のスピンナテーブル(10a)から出口コン
ベア(12)への搬送にそれぞれ駆動部が必要であり、
かつ、それぞれの駆動部が独立している為、駆動部が広
い設置スペースを取って装置全体が大型となり、また、
構造が非常に複雑であった。
ダアーム(9)の旋回、ウェーハ洗浄袋N(10)のス
ピンナテーブル(10a)の上下動及びウェーハ洗浄装
置(10)のスピンナテーブル(10a)から出口コン
ベア(12)への搬送にそれぞれ駆動部が必要であり、
かつ、それぞれの駆動部が独立している為、駆動部が広
い設置スペースを取って装置全体が大型となり、また、
構造が非常に複雑であった。
゛の
上記の如き問題点に鑑みてこの発明は、アンローダアー
ムが1回の旋回動作で2つのウェーハの搬送を同時に行
うことができ、かつ、上下動作できるようになしたアン
ローダ装置を提供するもので、その構成はアンローダア
ーム上下用シリンダにより上下移動可能な昇降部材にア
ンローダアーム旋回用モータを設け、このアンローダア
ーム旋回用モータの出力軸にL型のアンローダアームを
設け、このアンローダアームの一端に平行リンク機構を
介してバキュームパッド並びに該バキュームパッドの高
さをうエーハチャックテーブルに対して一定に位置決め
するストッパーを設けると共に、他端にバキュームパッ
ドを設けたものである。
ムが1回の旋回動作で2つのウェーハの搬送を同時に行
うことができ、かつ、上下動作できるようになしたアン
ローダ装置を提供するもので、その構成はアンローダア
ーム上下用シリンダにより上下移動可能な昇降部材にア
ンローダアーム旋回用モータを設け、このアンローダア
ーム旋回用モータの出力軸にL型のアンローダアームを
設け、このアンローダアームの一端に平行リンク機構を
介してバキュームパッド並びに該バキュームパッドの高
さをうエーハチャックテーブルに対して一定に位置決め
するストッパーを設けると共に、他端にバキュームパッ
ドを設けたものである。
詐■
この発明によれば、アンローダとは駆動源を別にした搬
送装置を装置する必要がな(、かつ、ウェーハ洗浄装置
のスピンナテーブルを上下動作する必要がな(なるので
上記問題点は解消される。
送装置を装置する必要がな(、かつ、ウェーハ洗浄装置
のスピンナテーブルを上下動作する必要がな(なるので
上記問題点は解消される。
賓in
第1図及び第2図はこの発明のアンローダ装置を示す正
面展開図及び平面図、第3図は上記アンローダ装置を通
用したウェーハ自動平面研削盤の研削システムを示す概
略図である。同図に於いて、(15)はL型のアンロー
ダアームで、その中間折曲部を機台(16)上に上下移
動可能に設けた昇降部材(17)内のアンローダアーム
旋回用モータ(18)の出力軸(18a)に連結してあ
り、モータ(18)により所定角度範囲で往復回動する
ようになっている。このアンローダアーム(15)の一
端(15a)には平行リンク(19)を介してバキュー
ムパッド取付台(20)が設けられ、この取付台(20
)にアンローディング用バキュームパッド(21)と位
置決めストッパー(22)が取付けられている。また、
アンローダアーム(15)の他端(15b)には搬送用
バキュームバンド(23)が設けられている。
面展開図及び平面図、第3図は上記アンローダ装置を通
用したウェーハ自動平面研削盤の研削システムを示す概
略図である。同図に於いて、(15)はL型のアンロー
ダアームで、その中間折曲部を機台(16)上に上下移
動可能に設けた昇降部材(17)内のアンローダアーム
旋回用モータ(18)の出力軸(18a)に連結してあ
り、モータ(18)により所定角度範囲で往復回動する
ようになっている。このアンローダアーム(15)の一
端(15a)には平行リンク(19)を介してバキュー
ムパッド取付台(20)が設けられ、この取付台(20
)にアンローディング用バキュームパッド(21)と位
置決めストッパー(22)が取付けられている。また、
アンローダアーム(15)の他端(15b)には搬送用
バキュームバンド(23)が設けられている。
(24)は機台(16)に設けたアンローダアーム上下
用シリンダで、そのピストンロンド(24a)を前記昇
降部材(17)に連結してあり、ピストンロンド(24
a)を伸縮することにより、昇降部材(17)及びモー
タ(1B)を介してテンローダアーム(15)を上下に
昇降するようになっている。(25)はアンローダアー
ム(15)の一端(15a)と平行リング(16)との
間に張設したリターンスプリングで、その弾力は取付台
(20)を常時下方に弾圧している。尚、第1図乃至第
3図に於いて、第6図及び第7図と同一符号は同一構成
物を示し、その説明は省略する。
用シリンダで、そのピストンロンド(24a)を前記昇
降部材(17)に連結してあり、ピストンロンド(24
a)を伸縮することにより、昇降部材(17)及びモー
タ(1B)を介してテンローダアーム(15)を上下に
昇降するようになっている。(25)はアンローダアー
ム(15)の一端(15a)と平行リング(16)との
間に張設したリターンスプリングで、その弾力は取付台
(20)を常時下方に弾圧している。尚、第1図乃至第
3図に於いて、第6図及び第7図と同一符号は同一構成
物を示し、その説明は省略する。
以上がこの発明のアンローダ装置の構成で、次に動作に
ついて説明する。
ついて説明する。
まず、第3図に示す状態で、テンローダアーム(15)
を反時計方向に旋回してその一端(15a)をロータリ
テーブル(5)上のウェーハチャック(6)の上方に位
置させると共に、他端(15b ’)をウェーハ洗浄装
置(10)のスピンナテーブル(10a)の上方に位置
させる。次に、この状態で、アンローダアーム上下用シ
リンダ(24)を作動してそのピストンロンド(24a
)を短縮しく8) 、昇降部材(17)及びモータ(18)を介してアンロ
ーダアーム(15)を下降する。すると、アンローダア
ーム(15)の一端(15a)に設けた取付台(20)
は下降してその途中で第3図に示すようにストッパー(
22)により下降動作を制限され、バキュームパッド(
21)をウェーハ(3)の水圧浮上に必要なスキマと同
じ高さHlだけウェーハチャック(6)の上方に保持す
る。一方、アンローダアーム(15)の他端(15b
)に設けたバキュームパッド(23)は、そのままアン
ローダアーム(15)の下降量と同時に下降し、第4図
に示すように、ウェーハ洗浄装置(10)のスピンナテ
ーブル(10a)上にウェーハ(3)の吸着の両端のバ
キュームパッド(21)及び(23)で、ロータリテー
ブル(5)J:のアンローダ位置のウェーハチャック(
6)上のウェーハ(3)及びウェーハ洗浄装置(10)
のスピンナテーブル(10a)上のウェーハ(3)をバ
キューム吸着し−次いで一シリンタ(24)ノピストン
ロ・ノド(24a)を伸長してアンローダアーム(15
)を上昇してその両端に設けたバキュームパッド(21
)及び(23)にバキューム吸着したウェーハ(3)(
3)を上昇し、更に、モータ(18)によりアンローダ
アーム(15)を901旋回してバキュームバンド(2
1)にバキューム吸着したウェーハ(3)をロータリテ
ーブル(5)上方からウェーハ洗浄装置(10)のスピ
ンナテーブル(10a)上方に移送すると共に、バキュ
ームバンド(23)にバキューム吸着されたウェーハ(
3)をウェーハ洗浄装置(lO)のスピンナテーブル(
10a)上方から出口コンベア(12)上方に移送し、
この後、アンローダアーム(15)を再び下降して夫々
のウェーハ(3)(3)をスピンナテーブル(10a)
上及び出口コンベア(12)上に夫々載置してバキュー
ム吸着を開放する。以後は前記動作を繰り返すことによ
り連続的に2つのウェーハ(3)の搬送を同時にするこ
とができる。
を反時計方向に旋回してその一端(15a)をロータリ
テーブル(5)上のウェーハチャック(6)の上方に位
置させると共に、他端(15b ’)をウェーハ洗浄装
置(10)のスピンナテーブル(10a)の上方に位置
させる。次に、この状態で、アンローダアーム上下用シ
リンダ(24)を作動してそのピストンロンド(24a
)を短縮しく8) 、昇降部材(17)及びモータ(18)を介してアンロ
ーダアーム(15)を下降する。すると、アンローダア
ーム(15)の一端(15a)に設けた取付台(20)
は下降してその途中で第3図に示すようにストッパー(
22)により下降動作を制限され、バキュームパッド(
21)をウェーハ(3)の水圧浮上に必要なスキマと同
じ高さHlだけウェーハチャック(6)の上方に保持す
る。一方、アンローダアーム(15)の他端(15b
)に設けたバキュームパッド(23)は、そのままアン
ローダアーム(15)の下降量と同時に下降し、第4図
に示すように、ウェーハ洗浄装置(10)のスピンナテ
ーブル(10a)上にウェーハ(3)の吸着の両端のバ
キュームパッド(21)及び(23)で、ロータリテー
ブル(5)J:のアンローダ位置のウェーハチャック(
6)上のウェーハ(3)及びウェーハ洗浄装置(10)
のスピンナテーブル(10a)上のウェーハ(3)をバ
キューム吸着し−次いで一シリンタ(24)ノピストン
ロ・ノド(24a)を伸長してアンローダアーム(15
)を上昇してその両端に設けたバキュームパッド(21
)及び(23)にバキューム吸着したウェーハ(3)(
3)を上昇し、更に、モータ(18)によりアンローダ
アーム(15)を901旋回してバキュームバンド(2
1)にバキューム吸着したウェーハ(3)をロータリテ
ーブル(5)上方からウェーハ洗浄装置(10)のスピ
ンナテーブル(10a)上方に移送すると共に、バキュ
ームバンド(23)にバキューム吸着されたウェーハ(
3)をウェーハ洗浄装置(lO)のスピンナテーブル(
10a)上方から出口コンベア(12)上方に移送し、
この後、アンローダアーム(15)を再び下降して夫々
のウェーハ(3)(3)をスピンナテーブル(10a)
上及び出口コンベア(12)上に夫々載置してバキュー
ム吸着を開放する。以後は前記動作を繰り返すことによ
り連続的に2つのウェーハ(3)の搬送を同時にするこ
とができる。
第5図はウェーハ(3)を反転させる必要のある場合の
実施例で、これはアンローダアーム(15)の他端(1
5b )に、小型モータ(26)にて180°回転駆動
する反転機構(27)を介してバキューム取付台(28
)を設け、この取付台(28)に搬送用バキュームパッ
ド(23)を取付けており、ウェーハ洗浄装置(10)
のスピンナテーブル(10a)から出口コンベア(12
)に搬送する途中でウェーハ(3)を180°反転する
ことができる。
実施例で、これはアンローダアーム(15)の他端(1
5b )に、小型モータ(26)にて180°回転駆動
する反転機構(27)を介してバキューム取付台(28
)を設け、この取付台(28)に搬送用バキュームパッ
ド(23)を取付けており、ウェーハ洗浄装置(10)
のスピンナテーブル(10a)から出口コンベア(12
)に搬送する途中でウェーハ(3)を180°反転する
ことができる。
1■Ω碧来
以上のようにこの発明によれば、アンローダアームが9
0°のL型アームであるから、1回のアンローダアーム
の旋回動作で2つのウェーハを同時に搬送することがで
き、従来のようにアンローダとは別に駆動源を有する搬
送装置を装備する必要がなく、また、アンローダアーム
自身が上下動作可能に装備されているから、ウェーハの
ウェーハチャックからのアンロード時、従来のようにウ
ェーハ洗浄装置のスピンナテーブルを上下動作する必要
がなくなる。これにより、装置全体がコンパクトになり
、また、設置スペースも小さくなる。また、ロータリテ
ーブル上のウェーハチャック上に水圧浮−ヒさせたアン
ローディング用バキュームバンドでウェーハをバキュー
ム吸着している時に、アンローダアームを下降させても
、上昇させても前記バキュームパッドの高さは変らずに
搬送用バキュームパッドのみ上下動して吸着も同時にで
きる。更に、ウェーハチャック上でのウェーハの水圧浮
上の際、アンローダアームを平行リンク機構を用いて下
降さすことにより、機械的にストッパーにてウェーハチ
ャックとバキュームパッドを正確に位置決めすることが
可能となり、ウェーハの吸着ミスを解消することができ
た。
0°のL型アームであるから、1回のアンローダアーム
の旋回動作で2つのウェーハを同時に搬送することがで
き、従来のようにアンローダとは別に駆動源を有する搬
送装置を装備する必要がなく、また、アンローダアーム
自身が上下動作可能に装備されているから、ウェーハの
ウェーハチャックからのアンロード時、従来のようにウ
ェーハ洗浄装置のスピンナテーブルを上下動作する必要
がなくなる。これにより、装置全体がコンパクトになり
、また、設置スペースも小さくなる。また、ロータリテ
ーブル上のウェーハチャック上に水圧浮−ヒさせたアン
ローディング用バキュームバンドでウェーハをバキュー
ム吸着している時に、アンローダアームを下降させても
、上昇させても前記バキュームパッドの高さは変らずに
搬送用バキュームパッドのみ上下動して吸着も同時にで
きる。更に、ウェーハチャック上でのウェーハの水圧浮
上の際、アンローダアームを平行リンク機構を用いて下
降さすことにより、機械的にストッパーにてウェーハチ
ャックとバキュームパッドを正確に位置決めすることが
可能となり、ウェーハの吸着ミスを解消することができ
た。
第1図及び第2図はこの発明に係ろウェーハ自動平面研
削盤のアンローダ装置の一実施例を示す正面展開図及び
平面図、第3図は上記アンローダ装置を通用した研削シ
ステムの概略図、第4図はこの発明の装置の動作状態を
示す正面展開図、第5図はこの発明の他の実施例を示す
正面展開図、第6図及び第7図は従来のウェーハ自動研
削盤の研削システムを示す概略図、第8図は従来のアン
ローダアームを示す正面図である。 (15) −アンローダアーム、(17) −昇降部材
、(1B) −アンローダアーム旋回用モータ、(19
) −平行リンク、(20) −取付台、(21)・−
アンローディング用バキュームパソF、(22)−位置
決めストッパー、(23)・−搬送用バキュームパッド
、(24)・−アンローダアーム上下用シリンダ、(1
5)・・−リターンスプリング。
削盤のアンローダ装置の一実施例を示す正面展開図及び
平面図、第3図は上記アンローダ装置を通用した研削シ
ステムの概略図、第4図はこの発明の装置の動作状態を
示す正面展開図、第5図はこの発明の他の実施例を示す
正面展開図、第6図及び第7図は従来のウェーハ自動研
削盤の研削システムを示す概略図、第8図は従来のアン
ローダアームを示す正面図である。 (15) −アンローダアーム、(17) −昇降部材
、(1B) −アンローダアーム旋回用モータ、(19
) −平行リンク、(20) −取付台、(21)・−
アンローディング用バキュームパソF、(22)−位置
決めストッパー、(23)・−搬送用バキュームパッド
、(24)・−アンローダアーム上下用シリンダ、(1
5)・・−リターンスプリング。
Claims (1)
- (1)アンローダアーム上下用シリンダにより上下移動
可能な昇降部材にアンローダアーム旋回用モータを設け
、このアンローダアーム旋回用モータの出力軸にL型の
アンローダアームを設け、このアンローダアームの一端
に平行リンク機構を介してバキュームパッド並びに該バ
キュームパッドの高さをウェーハチャックテーブルに対
して一定に位置決めするストッパーを設けると共に、他
端にバキュームパッドを設けたことを特徴とするウェー
ハ自動平面研削盤のアンローダ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60139390A JPS61297072A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | ウエ−ハ自動平面研削盤のアンロ−ダ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60139390A JPS61297072A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | ウエ−ハ自動平面研削盤のアンロ−ダ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61297072A true JPS61297072A (ja) | 1986-12-27 |
JPS6335375B2 JPS6335375B2 (ja) | 1988-07-14 |
Family
ID=15244185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60139390A Granted JPS61297072A (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | ウエ−ハ自動平面研削盤のアンロ−ダ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61297072A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100369193B1 (ko) * | 2000-12-30 | 2003-01-24 | 현대자동차주식회사 | 로터리식 패널 이송장치 |
WO2020039803A1 (ja) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
WO2021010236A1 (ja) * | 2019-07-17 | 2021-01-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板加工装置、基板処理システム、及び基板処理方法 |
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1985
- 1985-06-26 JP JP60139390A patent/JPS61297072A/ja active Granted
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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