JPS61296981A - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS61296981A JPS61296981A JP60139198A JP13919885A JPS61296981A JP S61296981 A JPS61296981 A JP S61296981A JP 60139198 A JP60139198 A JP 60139198A JP 13919885 A JP13919885 A JP 13919885A JP S61296981 A JPS61296981 A JP S61296981A
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- laser
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
この発明はレーザ加工装置に・関する。
[発明の技術的背禁及びその問題点コ
従来のレーザ加工装置において、レーザビームによって
1枚の材料から多数のパーツを切断加工する場合、切断
されたパーツの搬出方式が問題となる場合が多い。パー
ツを1個切断するたびに一旦機械を停止して作業者の手
によってパーツを搬出するのが一般的な手法である。し
かしながらこのような手法によるのでは、機械を停止さ
せておく時間が長くて能率が向上しないといった問題が
ある。そこで他のパーツ搬出方式として傾斜板やベルト
コンベヤを使って切断したパーツを自動的に搬出するも
のもあるが、この場合には装置が大災りになり、ワーク
エリアが小さなレーザ加工装置には実用的でないといっ
た問題があった。
1枚の材料から多数のパーツを切断加工する場合、切断
されたパーツの搬出方式が問題となる場合が多い。パー
ツを1個切断するたびに一旦機械を停止して作業者の手
によってパーツを搬出するのが一般的な手法である。し
かしながらこのような手法によるのでは、機械を停止さ
せておく時間が長くて能率が向上しないといった問題が
ある。そこで他のパーツ搬出方式として傾斜板やベルト
コンベヤを使って切断したパーツを自動的に搬出するも
のもあるが、この場合には装置が大災りになり、ワーク
エリアが小さなレーザ加工装置には実用的でないといっ
た問題があった。
[発明の目的]
この発明は、このような従来の問題に鑑みてなされたも
のであって、材料から切断された落下物を一時蓄えてお
く落下物受けを下層に備え、しかもこの落下物受けに蓄
えられた落下物には上方からのレーザビームの照射がな
いようにし、1枚の材料から所要数の製品を切断したの
ちに材料支持装置全体を装置本体から取外し、多数の落
下物を一時に搬出するようにしたレーザ加工装置を提供
することを目的する。
のであって、材料から切断された落下物を一時蓄えてお
く落下物受けを下層に備え、しかもこの落下物受けに蓄
えられた落下物には上方からのレーザビームの照射がな
いようにし、1枚の材料から所要数の製品を切断したの
ちに材料支持装置全体を装置本体から取外し、多数の落
下物を一時に搬出するようにしたレーザ加工装置を提供
することを目的する。
[発明の構成]
この発明は、レーザ発振装置と、材料に対するレーザビ
ーム集光装置と、材料の位置決め@置とを備えたレーザ
加工装置において、材料を複数の点で支持する材料支持
部材と、この材料支持部材の下方に位置して、レーザ加
工によって切断された落下物を受ける落下物受けと、こ
の落下物受けと前記材料支持部材との間に開閉自在に設
けられたレーザビーム遮断部材とを備えた材料支持装置
を、前記材料位置決め装置上に設けたことを特徴とする
レーザ加工装置であって・、1枚の材料から切離された
製品の落下物はすべて落下物受けに一時蓄えておき、し
かもその蓄えられた落下物にっいてはレーザビーム遮断
部材によってレーザビームの照射を防止するようにし、
多数の落下物の連続的な切断を可能とするものである。
ーム集光装置と、材料の位置決め@置とを備えたレーザ
加工装置において、材料を複数の点で支持する材料支持
部材と、この材料支持部材の下方に位置して、レーザ加
工によって切断された落下物を受ける落下物受けと、こ
の落下物受けと前記材料支持部材との間に開閉自在に設
けられたレーザビーム遮断部材とを備えた材料支持装置
を、前記材料位置決め装置上に設けたことを特徴とする
レーザ加工装置であって・、1枚の材料から切離された
製品の落下物はすべて落下物受けに一時蓄えておき、し
かもその蓄えられた落下物にっいてはレーザビーム遮断
部材によってレーザビームの照射を防止するようにし、
多数の落下物の連続的な切断を可能とするものである。
[発明の実施例]
第1図はこの発明の一実施例を用いたレーザ加工装置の
全体を示しており、レーザ電源部1、NC制御装装置、
アーム部5、ディスク7、ワークエリアサポート9が一
体的に組立てられている。
全体を示しており、レーザ電源部1、NC制御装装置、
アーム部5、ディスク7、ワークエリアサポート9が一
体的に組立てられている。
アーム部5内にはレーザ発振装置11が内蔵されており
、このレーザ発振装置11の先端にはレーザビームベン
ディング装置13が取付けられている。またベンディン
グ装置13の下方にはレーザ加工ヘッド15が設けられ
ている。
、このレーザ発振装置11の先端にはレーザビームベン
ディング装置13が取付けられている。またベンディン
グ装置13の下方にはレーザ加工ヘッド15が設けられ
ている。
デスク7は、ここで作業者がNCプログラミング等の作
業を行なうために備えたものであり、その内部にはレー
ザ発振装置11の水冷用の熱交換器(図・示せず)が収
められている。
業を行なうために備えたものであり、その内部にはレー
ザ発振装置11の水冷用の熱交換器(図・示せず)が収
められている。
ワークエリアサポート9上にはワークエリア17が取付
けられている。またこのワークエリアサポート9内には
ワークエリア17で発生したメタルミストをフィルタで
濾過しきれいな空気として排気するためのエア濾過ta
<図示せず)が内蔵されている。
けられている。またこのワークエリアサポート9内には
ワークエリア17で発生したメタルミストをフィルタで
濾過しきれいな空気として排気するためのエア濾過ta
<図示せず)が内蔵されている。
ワークエリア17は、レーザビームシールドカバー19
の内部に加工の種類に応じたワークハンドリング機構と
レーザビーム伝送機構とを設けて成る。この第1図の実
施例ではワークエリア17は材料位置決め装置としての
XYテーブル11、ワークファーネス23を備えており
、このワークファーネス23上に材料Wが載置され、レ
ーザビーム照射によってレーザ切断されるようになって
いる。
の内部に加工の種類に応じたワークハンドリング機構と
レーザビーム伝送機構とを設けて成る。この第1図の実
施例ではワークエリア17は材料位置決め装置としての
XYテーブル11、ワークファーネス23を備えており
、このワークファーネス23上に材料Wが載置され、レ
ーザビーム照射によってレーザ切断されるようになって
いる。
第2図は第1図におけるワークエリア17の部分を更に
詳細に示したものであって、レーザ発振装置11からの
レーザビームを中に通すレーザビームガイドバー15に
よって導かれたレーザビームは、レーザビームベンディ
ング装置13によって直角に下方に折曲げられ、加工ヘ
ッド15に導かれる。
詳細に示したものであって、レーザ発振装置11からの
レーザビームを中に通すレーザビームガイドバー15に
よって導かれたレーザビームは、レーザビームベンディ
ング装置13によって直角に下方に折曲げられ、加工ヘ
ッド15に導かれる。
加工ヘッド15内にはビーム集光装置が内蔵されており
、その下端には補助ガス噴出用のノズル27が取付けら
れている。このレーザ加工ヘッド15及びノズル27の
部分は、レーザビームシールドカバー19内において7
フーネス23上に対向するように挿入されている。
、その下端には補助ガス噴出用のノズル27が取付けら
れている。このレーザ加工ヘッド15及びノズル27の
部分は、レーザビームシールドカバー19内において7
フーネス23上に対向するように挿入されている。
レーザビームシールドカバー19内にはX軸テーブル2
9が設けられており、その内部のX軸周ステージ31が
モータ35によってX軸方向に移動されるようになって
いる。このX軸周ステージ31上にはY軸周テーブル3
5が取付けられてい −る。このY軸周テーブル3
5内にはY軸周ステージ37が設けられており、モータ
39によってY軸方向に駆動されるようになっている。
9が設けられており、その内部のX軸周ステージ31が
モータ35によってX軸方向に移動されるようになって
いる。このX軸周ステージ31上にはY軸周テーブル3
5が取付けられてい −る。このY軸周テーブル3
5内にはY軸周ステージ37が設けられており、モータ
39によってY軸方向に駆動されるようになっている。
更にY軸周ステージ37上にはプレート41が取付けら
れており、このプレート41の上に材料支持装置23が
取付けられている。このX軸周テーブル2つ、Y軸周テ
ーブル35及びプレート41によってXYテーブル21
が構成されている。プレート41上には材料支持装置2
3が取付けられ、材料支持装置23上に材料Wが載置さ
れるのである。
れており、このプレート41の上に材料支持装置23が
取付けられている。このX軸周テーブル2つ、Y軸周テ
ーブル35及びプレート41によってXYテーブル21
が構成されている。プレート41上には材料支持装置2
3が取付けられ、材料支持装置23上に材料Wが載置さ
れるのである。
上記構成のレーザ加工装置の場合に、第1図に示したレ
ーザ発振装置11からのレーザビームはレーザガイドバ
ー25を通ってベンディング装置13において直角に下
方に折曲げられて加工ヘッド15に導かれ、この加工ヘ
ッド15の下端のノズル27から材料支持装置23上の
材料Wにレーザビームを照射する。
ーザ発振装置11からのレーザビームはレーザガイドバ
ー25を通ってベンディング装置13において直角に下
方に折曲げられて加工ヘッド15に導かれ、この加工ヘ
ッド15の下端のノズル27から材料支持装置23上の
材料Wにレーザビームを照射する。
そしてXYテーブル21はモータ33,39の駆動によ
りXY水平2軸方向に材料Wを移動させ、所望の形状或
いは部分のレーザ加工を行なうのである。
りXY水平2軸方向に材料Wを移動させ、所望の形状或
いは部分のレーザ加工を行なうのである。
次に上記材料支持装置23の更に詳しい説明を゛第3図
乃至第5図を基に行なうと、材料支持装置本体43の上
下中間部に水平に多数のバー45が渡され、このバー4
5上にサポートボスト47が多数植込まれていて、材料
Wを多点支持する材料支持部材4つが構成されている。
乃至第5図を基に行なうと、材料支持装置本体43の上
下中間部に水平に多数のバー45が渡され、このバー4
5上にサポートボスト47が多数植込まれていて、材料
Wを多点支持する材料支持部材4つが構成されている。
前記材料支持装置本体43のバー45より下方の位置に
おいて、通常セラミックのような材料で形成されたレー
ザビーム遮断部材51が本体43及び中間支持板53に
回転開閉自在に取付けられている。そしてこのレーザビ
ーム遮断部材51はバネ機構を内蔵した伸縮自在のリボ
−1〜バー55により通常は水平に支持されている。こ
うしてこのレーザビーム遮断部材51の下方空間を落下
物受け57としているのである。
おいて、通常セラミックのような材料で形成されたレー
ザビーム遮断部材51が本体43及び中間支持板53に
回転開閉自在に取付けられている。そしてこのレーザビ
ーム遮断部材51はバネ機構を内蔵した伸縮自在のリボ
−1〜バー55により通常は水平に支持されている。こ
うしてこのレーザビーム遮断部材51の下方空間を落下
物受け57としているのである。
上記のレーザ加工装置の材料支持装置部分の作用を次に
説明する。第4図に想像線で示したように材料Wは材料
支持部材49のサポートボスト47によって多点支持さ
れた状態でレーザ切断される。そのレーザ切断により多
数の落下物Pが切出されると、各落下物Pはサポートポ
スト47間やバー45間の空間を通ってレーザビーム遮
断部材51上に落下物として落ちてくる。そうするとレ
ーザビーム遮断部材51は、サポートバー55が落下物
Pの重みによって延びるために下方に回転して開かれ、
落下物受け57に各落下物Pを落し込み、そこに溜める
のである。
説明する。第4図に想像線で示したように材料Wは材料
支持部材49のサポートボスト47によって多点支持さ
れた状態でレーザ切断される。そのレーザ切断により多
数の落下物Pが切出されると、各落下物Pはサポートポ
スト47間やバー45間の空間を通ってレーザビーム遮
断部材51上に落下物として落ちてくる。そうするとレ
ーザビーム遮断部材51は、サポートバー55が落下物
Pの重みによって延びるために下方に回転して開かれ、
落下物受け57に各落下物Pを落し込み、そこに溜める
のである。
落下物Pが通過した後は゛レーザビーム遮断部材51は
サポートパー55のバネ力によって元の水平状態に復帰
して閉じる。そのためレーザビームがこのレーザビーム
遮断部材51の部分に照射されても、落下物受け57の
方向にそのレーザビームが通過するのを阻止し、落下物
受け57内の各落下物をレーザビームから保護できるの
である。
サポートパー55のバネ力によって元の水平状態に復帰
して閉じる。そのためレーザビームがこのレーザビーム
遮断部材51の部分に照射されても、落下物受け57の
方向にそのレーザビームが通過するのを阻止し、落下物
受け57内の各落下物をレーザビームから保護できるの
である。
尚、サポートパー55のバネの力は落下物の重みに応じ
て調整されたものとする。
て調整されたものとする。
このようにして1枚の材料Wから所定数の落下物Pがレ
ーザ切断された後は、材料支持装置23ごとプレート4
1から取外して加工装置の外部に取出し、落下物受け5
7から落下物を一時に搬出する。尚、このように材料支
持装置23をプレート41から容易に脱着するためにガ
イドバーやローラを用いたスライド機構を利用すること
も可能である。
ーザ切断された後は、材料支持装置23ごとプレート4
1から取外して加工装置の外部に取出し、落下物受け5
7から落下物を一時に搬出する。尚、このように材料支
持装置23をプレート41から容易に脱着するためにガ
イドバーやローラを用いたスライド機構を利用すること
も可能である。
第6図及び第7図は第2実施例を示し、材料支持装置2
3のレーザビーム遮断部材51の開閉、支持構造に変化
をもたせたものである。つまり、レーザビーム遮断部材
51のサポートパー59はシリンダによる伸縮自在なも
のとし、またレーザビーム遮断部材51上に落下した落
下物Pの検出袋@61を設けている。この落下物検出装
置61は支持装置本体43の一側部に投光器63を設け
、対向ミラー65.67間に若干傾きをもたせて投光す
るようにし、またこの投光器63からの光ビームLBが
レーザビーム遮断部材51上を両ミラー65.67間で
ジグザグに反射を繰返しながら他側まで到達して受光器
69に入射するように構成されている。
3のレーザビーム遮断部材51の開閉、支持構造に変化
をもたせたものである。つまり、レーザビーム遮断部材
51のサポートパー59はシリンダによる伸縮自在なも
のとし、またレーザビーム遮断部材51上に落下した落
下物Pの検出袋@61を設けている。この落下物検出装
置61は支持装置本体43の一側部に投光器63を設け
、対向ミラー65.67間に若干傾きをもたせて投光す
るようにし、またこの投光器63からの光ビームLBが
レーザビーム遮断部材51上を両ミラー65.67間で
ジグザグに反射を繰返しながら他側まで到達して受光器
69に入射するように構成されている。
しかして、材料Wからレーザビーム加工によりパーツが
切落されてレーザビーム遮断部材51上に落下してくる
時、その落下物Pにより光ビームLBが遮られて受光器
6つに到達しなくなる。その結果、この落下物検出装置
61は゛落下物あり″の検出を行ない、シリンダを駆動
することによりレーザビーム遮断部材51を開閉させ、
落下物Pを落下物受け57に落下させるのである。この
ように落下物の検出を行なう場合、落下物の重ωに関係
なくレーザビーム遮断部材51の開閉ができるため、応
答が速いものとできる。
切落されてレーザビーム遮断部材51上に落下してくる
時、その落下物Pにより光ビームLBが遮られて受光器
6つに到達しなくなる。その結果、この落下物検出装置
61は゛落下物あり″の検出を行ない、シリンダを駆動
することによりレーザビーム遮断部材51を開閉させ、
落下物Pを落下物受け57に落下させるのである。この
ように落下物の検出を行なう場合、落下物の重ωに関係
なくレーザビーム遮断部材51の開閉ができるため、応
答が速いものとできる。
[発明の効果]
この発明は、材料を多点支持する材料支持部材と、中間
部の開閉自在のレーザビーム遮断部材と、このレーザビ
ーム遮断部材の下方に形成された落下物受けとを備えた
ものである。そのため材料から切落された落下物は材料
支持部材の空間を通ってレーザビーム遮断部材に落下し
、さらにレーザビーム遮断部材を開いて、下方の落下物
受けに落し込んでそこに溜めることができる。また落下
物受けに溜められた落下物はレーザビーム遮断部材によ
ってレーザビームから保護されることになる。
部の開閉自在のレーザビーム遮断部材と、このレーザビ
ーム遮断部材の下方に形成された落下物受けとを備えた
ものである。そのため材料から切落された落下物は材料
支持部材の空間を通ってレーザビーム遮断部材に落下し
、さらにレーザビーム遮断部材を開いて、下方の落下物
受けに落し込んでそこに溜めることができる。また落下
物受けに溜められた落下物はレーザビーム遮断部材によ
ってレーザビームから保護されることになる。
従って材料から落下物を切断する度に機械全体を停止さ
せてその落下物を作業者が搬出するといったことをせず
どもよく、1枚の材料から所定数の落下物を切出した後
すべての落下物を材料支持装置とともに一時に取出して
処理することができ、落下物の搬出処理に手間がかから
ない利点がある。
せてその落下物を作業者が搬出するといったことをせず
どもよく、1枚の材料から所定数の落下物を切出した後
すべての落下物を材料支持装置とともに一時に取出して
処理することができ、落下物の搬出処理に手間がかから
ない利点がある。
第1図はこの発明の一実施例のレーザ加工装置の斜視図
、第2図は上記レーザ加工装置のワークエリアの拡大斜
視図、第3図は上記実施例の材料支持装置部分を示す平
面図、第4図は第3図におけるrV−IV線断面図、第
5図は第4図におけるV−V線断面図、第6図は他の実
施例の材料支持装置の部分の平面図、第7図は第6図に
おける■−■線断面図である。 23・・・材料支持装置、43・・・支持装置本体、4
5・・・バー、47・・・サポートポスト、49・・・
材料支持部材、51・・・レーザビーム遮断部材、53
・・・中間支持板、55・・・サポートバー、57・・
・落下物受け。 第3図 第4図 第5図 第6図 P bl コl第7図
、第2図は上記レーザ加工装置のワークエリアの拡大斜
視図、第3図は上記実施例の材料支持装置部分を示す平
面図、第4図は第3図におけるrV−IV線断面図、第
5図は第4図におけるV−V線断面図、第6図は他の実
施例の材料支持装置の部分の平面図、第7図は第6図に
おける■−■線断面図である。 23・・・材料支持装置、43・・・支持装置本体、4
5・・・バー、47・・・サポートポスト、49・・・
材料支持部材、51・・・レーザビーム遮断部材、53
・・・中間支持板、55・・・サポートバー、57・・
・落下物受け。 第3図 第4図 第5図 第6図 P bl コl第7図
Claims (3)
- (1)レーザ発振装置と、材料に対するレーザビーム集
光装置と、材料の位置決め装置とを備えたレーザ加工装
置において、材料を複数の点で支持する材料支持部材と
、この材料支持部材の下方に位置して、レーザ加工によ
つて切断された落下物を受ける落下物受けと、この落下
物受けと前記材料支持部材との間に開閉自在に設けられ
たレーザビーム遮断部材とを備えた材料支持装置を、前
記材料位置決め装置上に設けたことを特徴とするレーザ
加工装置。 - (2)レーザビーム遮断部材の開閉を落下物の自重によ
り行うことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレ
ーザ加工装置。 - (3)レーザビーム遮断部材の開閉を、落下物を検出す
る検出装置の信号により行うことを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60139198A JPS61296981A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60139198A JPS61296981A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61296981A true JPS61296981A (ja) | 1986-12-27 |
JPH059196B2 JPH059196B2 (ja) | 1993-02-04 |
Family
ID=15239838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60139198A Granted JPS61296981A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61296981A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022009926A1 (ja) * | 2020-07-10 | 2022-01-13 | 日酸Tanaka株式会社 | ファイバーレーザ用定盤、ファイバーレーザ加工装置、及びファイバーレーザ用切断方法 |
-
1985
- 1985-06-27 JP JP60139198A patent/JPS61296981A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022009926A1 (ja) * | 2020-07-10 | 2022-01-13 | 日酸Tanaka株式会社 | ファイバーレーザ用定盤、ファイバーレーザ加工装置、及びファイバーレーザ用切断方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH059196B2 (ja) | 1993-02-04 |
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