JPS61296649A - 表示管 - Google Patents

表示管

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JPS61296649A
JPS61296649A JP13871185A JP13871185A JPS61296649A JP S61296649 A JPS61296649 A JP S61296649A JP 13871185 A JP13871185 A JP 13871185A JP 13871185 A JP13871185 A JP 13871185A JP S61296649 A JPS61296649 A JP S61296649A
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JP
Japan
Prior art keywords
ink
phosphor
pattern
display tube
patterns
Prior art date
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Pending
Application number
JP13871185A
Other languages
English (en)
Inventor
Kokichi Seo
瀬尾 弘吉
Tsunekiyo Iwakawa
常清 岩川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP13871185A priority Critical patent/JPS61296649A/ja
Publication of JPS61296649A publication Critical patent/JPS61296649A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は表示管の高解像度パターンの形成に関する。
〔従来の技術〕
螢光表示管は、一般には透明なカバーガラスと絶縁基板
とからなる真空容器内に、上方から陰極、グリッド及び
螢光体を被着した陽極とを順に配設した構造となってお
シ、グリッドに制御された熱電子によシ螢光体を発光さ
せ、所望の文字や図形を表示するものである。
近年、高解像度パターン形成の重要性が高まり、配線の
ツマイン化、電極または表示パターン等の高解像度化が
要求されてきておシ、その開発が進められている。その
中で表示パターンの高解像度化の要望が非常に強い。
高解像度表示パターンを得るためには、陽極面上の螢光
体を薄く、陽極面に合わせて精度よく形成することが必
要でおる。特に、陽極を形成するガラス基板を透して表
示パターンを観察できる。
いわゆる平面発光型の螢光表示管においては螢光体の厚
さは20μm以下に抑えることが必要である。
従来、螢光表示管の螢光体パターンを形成する方法とし
ては主にスクリーン印刷法が用いられていた。すなわち
、螢光体とポリビニルアルコール等を含む水溶液とを混
合したインクをステンレスメツシュスクリーンを用いて
陽イー面上に印刷塗布し、その後焼成することにより螢
光体パターンを形成して力た。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、スクリーン印刷法では焼成後の螢光体の
厚さを20μm以下で且つ高解像度パターンを安定しそ
得ることは難しく、高度の技能を要するばかりですく、
印刷中にスクリーンが伸びたり、又目づまりするなどし
て所望の幅や外径を有する螢光体パターンを安定して形
成できず、製造歩留りが低下するという欠点があった。
本発明の目的は、上記欠点を除去し、高度な技能を喪す
ることなく電極面上に薄い螢光体バター/を電極面(合
わせて精度よく安定して形成できる工程によって製造さ
れる螢光表示管を提供することにある。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明の螢光表示管は、絶縁基板上に電極を形成する工
程と、この電極面上に球状に形成した螢光体を含むイン
クの飛跡をプラグラム自動制御した状態で非弾性衝突さ
せてパターンを形成させる工程とを含んで製造される。
本発明によれば、螢光体を含む一定量のインクをノズル
から噴出させ、球状インクの飛跡をプログラム自動制御
した状態で電極面に衝突させて螢光体パターンを形成す
るため、高度な技能を要することなく膜厚の薄い螢光体
パターンを精度よく形成できる。
〔実施例〕
次に本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第1図(a)〜(e)は本発明の一実施例を説明するた
めの平面図及び工程断面図であり、第1図(b)は第1
図(a)のA−A’断面図、第1図(d)は第1図(e
)+7)B−B’断面図である。
まず第1図(a)、 (b)に示すように、ガラス基板
1上に透明導電膜であるネサJ[(SiOx膜)を被着
したのち、ホトリソグラフィ技術により直径約120μ
mのドツト状の電極(陽極)2を形成する。
ネサ膜の代りにAtを蒸着し電極2を形成することもで
きる。
次に第1図(C)に示すように、電極2面上に螢光体を
含む球状のインク3を衝突させる。同図においてインク
3aは電極2a上に衝突し固着した場合を示しており、
またインク3b、3cは電極2b、2C上へ接近してい
る様子を示している。
次にインクの固着したガラス基板1を約500°Cで焼
成することにより、インク中のPVA等の有機物は除去
されて、第1図(d)及び(e)に示すように、電極2
面上には円形状の薄い螢光体バター74が形成される。
このようにして形成される螢光体パターンの大きさや厚
さは、球状インク3の体積及び粘度により変化する。規
定量のインクを球状にして電極2面上に衝突させるKは
、例えば第2図に示した螢光体塗布装置を用いることが
できる。
第2図において、螢光体塗布装置10は、電極2を形成
したガラス基板を保持し、x、y軸方向に移動可能なX
−Yテーブル11と、螢光体を含む一定量のインクを連
続的に噴出するノズル12と、X−Yテーブル11の動
きとノズル12からのインクの噴出するタイミングとを
調節し、球状のインクを正確に電極面上に衝突させるよ
うに制御する噴出制御部13とから主に構成されている
従って表示パターンをあらかじめプログラム化すること
によって自動的に表示バター/を形成することができる
螢光体を含むインクはインク供給部(図示せず)より送
られ、圧電素子の振動によシノズル12より噴出する。
噴出したインク3はガラス基板1に達する迄に表面張力
により球状に整形される。インク3が電極面上に正確に
衝突するように、X−Yテーブル11上のガラス基板1
は噴出制御部13に制御されてX、Y軸方向に移動する
。またガラス基板1を固定し、ノズルをX−Y軸移動さ
せても同じ効果は得られる。
インクの粘度を10 CI) %ノズル12の内径を4
0μmとした場合、球状のインクの直径は約70μmと
なり、電極2上に形成された螢光体パターン4の直径は
約110μm1厚さは10〜15μmであった。インク
の粘度は5Cp〜40Cpが適当であシ、これより低く
なると電極面に衝突したインクが飛散し、又高くなると
螢光体パターンが厚くなり場合によ1てはノズル12に
インクづまり等のトラブルが発生し、精度のよい螢光体
パターンが形成できなくなる。
このように、本実施例によれは、ドツトタイプの微細な
螢光体パターンをプログラム自動制御によって電極面上
に薄く且つ精度よく形成でき、更には表示パターンを高
度な技能を要することなく製造することができるので、
省人化に大きな効果を有する。
上記実施例においてはドツトタイプの螢光体パターンを
形成する場合について説明したが、一定形状の電極パタ
ーン内に、ドツト状の螢光体パターンを密に形成するこ
とによりセグメントタイプの螢光体パターンを形成する
ことも可能である。
また、2色以上の螢光体パターンを形成する場合は、マ
ルチノズルを利用するか、必要なライン間隔をあけて1
ラインずつ発色の異なる螢光体を含むインクを噴出し塗
布することにより、多色の螢光体パターンを形成するこ
とができる。
尚、第2図においては、インクがノズルから垂直方向に
噴出する場合について説明したが、水平方向に噴出させ
た場合であっても同様に薄い螢光体パターンを形成する
ことができる。
また、実施例では螢光体パターンの形成について説明し
たが、螢光体材料の代シに導電性材料粉末を用いること
によってff[のよい電極パターンを形成することが出
来、また絶縁ガラス粉末を用いることによって精度のよ
い絶縁層パターンを形成することができる。
〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように、本発明によれば、螢光体を
含むインクを電極面上に衝突させることにより高度な技
能を要することなく薄い螢光体パターンを精度よく形成
できる。このため、微細なパターン表示が可能な螢光表
示管が歩留りよく製造できるのでその効果は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(e)は本発明の一実施例を説明するだ
めの平面図及び工程断面図、第2図は本発明の一実施例
に用いられる螢光体塗布装置の側面図である。 1・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・電極、3・
・・・・・インク、4・・・・・・螢光体パターン、1
0・・・・・・螢光体塗布装置、11・・・・・・X−
Yテーブル、12・・・・・・ノズル、13・・・・・
・噴出制御部。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁基板上に球状に形成した無機材料からなる粉
    末を含むインクを非弾性衝突させてパターンを形成する
    工程を含むことを特徴とする表示管。
  2. (2)パターン形成において、装置としてはインク供給
    部、インク噴出量制御部、絶縁基板を所定の位置に固定
    し、2次元或は3次元移動可能な基板保持部およびプロ
    グラム制御部から成り、ノズルから連続的に噴出する球
    状インクを荷電化し、その飛跡と基板保持部とをプログ
    ラム制御することにより所定の位置に所定のパターン形
    成することを特徴とする第(1)項特許請求の範囲の表
    示管。
  3. (3)1つまたは複数のノズルを有し、各ノズルから夫
    々の種類の異なる無機材料粉末を含む球状インクを噴出
    することによりパターンを形成することを特徴とする第
    (1)、(2)項特許請求の範囲の表示管。
  4. (4)無機材料粉末として螢光体を含むインクを使用す
    ることを特徴とする第(1)、(2)、(3)項特許請
    求の範囲の螢光表示管。
  5. (5)無機材料粉末として導電性材料を含むインクを使
    用することを特徴とする第(1)、(2)、(3)項特
    許請求の範囲の螢光表示管。
  6. (6)無機材料粉末として絶縁ガラスを含むインクを使
    用することを特徴とする第(1)、(2)、(3)項特
    許請求の範囲の螢光表示管。
JP13871185A 1985-06-25 1985-06-25 表示管 Pending JPS61296649A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63155527A (ja) * 1986-12-18 1988-06-28 Fujitsu Ltd ガス放電パネルの製造方法
KR100270497B1 (ko) * 1996-02-08 2000-11-01 미다라이 후지오 전자 방출 디바이스, 전자원 및 이미지 형성 장치의 제조방법
US6221140B1 (en) 1995-10-13 2001-04-24 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet ink containing an organic metal complex
KR100480690B1 (ko) * 1997-11-26 2005-07-11 엘지전자 주식회사 표시장치의형광물질도포방법
JP2011009030A (ja) * 2009-06-25 2011-01-13 Panasonic Corp プラズマディスプレイパネルの製造方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63155527A (ja) * 1986-12-18 1988-06-28 Fujitsu Ltd ガス放電パネルの製造方法
US6221140B1 (en) 1995-10-13 2001-04-24 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet ink containing an organic metal complex
US6429580B1 (en) 1995-10-13 2002-08-06 Canon Kabushiki Kaisha Methods of manufacturing electron-emitting device, electron source and image forming apparatus
KR100350859B1 (ko) * 1995-10-13 2002-11-18 캐논 가부시끼가이샤 전자방출소자,전자원및화상형성장치의제조방법
KR100270497B1 (ko) * 1996-02-08 2000-11-01 미다라이 후지오 전자 방출 디바이스, 전자원 및 이미지 형성 장치의 제조방법
US6309691B1 (en) 1996-02-08 2001-10-30 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing electron-emitting device, electron source and image-forming apparatus
KR100340886B1 (ko) * 1996-02-08 2002-06-20 미다라이 후지오 전자 방출 디바이스, 전자원 및 화상 형성 장치의 제조 방법
US6685982B2 (en) 1996-02-08 2004-02-03 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing electron-emitting device, electron source and image-forming apparatus
US6821551B2 (en) 1996-02-08 2004-11-23 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing electron-emitting device, electron source and image-forming apparatus
KR100480690B1 (ko) * 1997-11-26 2005-07-11 엘지전자 주식회사 표시장치의형광물질도포방법
JP2011009030A (ja) * 2009-06-25 2011-01-13 Panasonic Corp プラズマディスプレイパネルの製造方法

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