JPS61296305A - 多層膜干渉フイルタの製造方法 - Google Patents
多層膜干渉フイルタの製造方法Info
- Publication number
- JPS61296305A JPS61296305A JP14006485A JP14006485A JPS61296305A JP S61296305 A JPS61296305 A JP S61296305A JP 14006485 A JP14006485 A JP 14006485A JP 14006485 A JP14006485 A JP 14006485A JP S61296305 A JPS61296305 A JP S61296305A
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- JP
- Japan
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- ray
- light
- evaporation
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/547—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、多層膜干渉フィルタ、特に、光通信等におい
て用いられる多層膜干渉フィルタの製造方法に関する。
て用いられる多層膜干渉フィルタの製造方法に関する。
一般に、上記多層膜干渉フィルタは、真空層着装置内に
被蒸着体である基板を保持し、蒸着源から高屈折率物質
としてＴｉ０ｚ、低屈折率物質としてＳｉＯ□を交互に
蒸発させ、所定膜厚の高屈折率物質層、低屈折率物質層
から成る交互層を形成することによって得ている。
被蒸着体である基板を保持し、蒸着源から高屈折率物質
としてＴｉ０ｚ、低屈折率物質としてＳｉＯ□を交互に
蒸発させ、所定膜厚の高屈折率物質層、低屈折率物質層
から成る交互層を形成することによって得ている。
この場合、交互層の構成は、基板の屈折率によって定ま
る屈折率を有し、しかもその膜厚は予め設定された波長
λ。のＬ／４の整数倍になるような膜が積層されたもの
である。
る屈折率を有し、しかもその膜厚は予め設定された波長
λ。のＬ／４の整数倍になるような膜が積層されたもの
である。
而して、前記基板に蒸着すべき膜厚の制御方法として代
表的なものに、単色測光法と二色測光法がある。前者に
は■中心波長λ。のみによってピーク制御するもの、■
例えば特公昭５７−２４４８５号公報に示される如く、
単色測光法でかつＢ／Ａ比率制御するものがあり、又、
後者には■相異なる２つの波長の反射率又は透過率の差
で制御するものがある。
表的なものに、単色測光法と二色測光法がある。前者に
は■中心波長λ。のみによってピーク制御するもの、■
例えば特公昭５７−２４４８５号公報に示される如く、
単色測光法でかつＢ／Ａ比率制御するものがあり、又、
後者には■相異なる２つの波長の反射率又は透過率の差
で制御するものがある。
しかしながら、上記■の方法では膜厚に対する光量変化
がピーク近傍において小さいため、多少の誤差は免れず
信頼性に欠けるという欠点がある。
がピーク近傍において小さいため、多少の誤差は免れず
信頼性に欠けるという欠点がある。
又、上記■、■の方法は上述のＴｉＯ□−３ｉＯｚの如
き所謂不均質膜（ここに、均質とは膜厚の如何に拘わら
ず屈折率が変わらないことをいう）のコーティングにお
いては、屈折率がかなりばらつくので、蒸着精度が悪い
という欠点がある。
き所謂不均質膜（ここに、均質とは膜厚の如何に拘わら
ず屈折率が変わらないことをいう）のコーティングにお
いては、屈折率がかなりばらつくので、蒸着精度が悪い
という欠点がある。
本発明はかかる実情を考慮に入れてなされたもので、そ
の目的とするところは、Ｔｉ０ｚ−５ｉｆｔという不均
質膜を再現性良くコーティングすることが出来る多層膜
干渉フィルタの製造方法を提供することにある。
の目的とするところは、Ｔｉ０ｚ−５ｉｆｔという不均
質膜を再現性良くコーティングすることが出来る多層膜
干渉フィルタの製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明に係る製造方法は、相
異なる２つの波長の光線をモニター光線として用いると
共に、前記何れか一方の波長の光線の透過率又は反射率
がそのピーク越え近傍に達したとき、蒸発源からの蒸発
を停止するようにしたことを特徴としている。
異なる２つの波長の光線をモニター光線として用いると
共に、前記何れか一方の波長の光線の透過率又は反射率
がそのピーク越え近傍に達したとき、蒸発源からの蒸発
を停止するようにしたことを特徴としている。
（作用）
２波長のうち何れか一方の波長の光線の透過率又は反射
率が、ピーク値を僅かに（例えば１％以内）越えたとき
、蒸発源からの蒸発を停止することにより、基板に形成
される各層のばらつきを最小限に留めることが出来、こ
れによって精度の高い蒸着を行うことが出来る。
率が、ピーク値を僅かに（例えば１％以内）越えたとき
、蒸発源からの蒸発を停止することにより、基板に形成
される各層のばらつきを最小限に留めることが出来、こ
れによって精度の高い蒸着を行うことが出来る。
以下、本発明方法を図面を参照して説明する。
第１図は本発明方法を実施するための装置の概略を示し
、１は所謂ベルシャークイブの真空蒸着室で、その内部
は図外のポンプ等により所定の真空状態に保持されてい
る。２は真空蒸着室ｌの内部下方に設けられた蒸発源で
、蒸着物質としてのＴｉｏｎ、ＳｉＯ２を交互に蒸発す
るように構成されている。３はヒータ、４は被蒸着体で
あるサンプル基板５の取付用基台である。サンプル基板
５としてはＢＫ−７，石英等が用いられる。６はサンプ
ル基板５上に形成される膜の厚みを監視するためのモニ
ター基板で、サンプル基板５と似通った屈折率を有する
白板ガラス等の材料より成る。
、１は所謂ベルシャークイブの真空蒸着室で、その内部
は図外のポンプ等により所定の真空状態に保持されてい
る。２は真空蒸着室ｌの内部下方に設けられた蒸発源で
、蒸着物質としてのＴｉｏｎ、ＳｉＯ２を交互に蒸発す
るように構成されている。３はヒータ、４は被蒸着体で
あるサンプル基板５の取付用基台である。サンプル基板
５としてはＢＫ−７，石英等が用いられる。６はサンプ
ル基板５上に形成される膜の厚みを監視するためのモニ
ター基板で、サンプル基板５と似通った屈折率を有する
白板ガラス等の材料より成る。
８は前記モニター基板６に投光するための光線を発する
光源で、例えばタングステンランプである。９はチョッ
パー、１０はミラーである。１１．１２は前記真空蒸着
室１の上部、下部に夫々設けられた光透過窓、１３はミ
ラーである。
光源で、例えばタングステンランプである。９はチョッ
パー、１０はミラーである。１１．１２は前記真空蒸着
室１の上部、下部に夫々設けられた光透過窓、１３はミ
ラーである。
１４は光分割器で、図示する例にあってはハーフミラ−
であるが、カットオンフィルタでもよい。
であるが、カットオンフィルタでもよい。
１５．１６はこの光分割器１４の後方に形成された光路
で、一方の光路１５上には波長λ、の光線のみを選択的
に通過させるバンドパスフィルタ１７と光電子増倍管１
８が、又、他方の光路１６上には波長λ２の光線のみを
選択的に通過させるバンドパスフィルタ１９と量子型半
導体検出器２０が夫々設けられている。そして、光路１
５側には可視領域から近赤外領域までの比較的波長の短
い光線が、又、光路１６側には比較的波長の長い光線が
夫々導かれるように構成しである。２１は記録計である
。この記録計２１は波形によって動くペンとこのペンが
表示するチャートとから成る。
で、一方の光路１５上には波長λ、の光線のみを選択的
に通過させるバンドパスフィルタ１７と光電子増倍管１
８が、又、他方の光路１６上には波長λ２の光線のみを
選択的に通過させるバンドパスフィルタ１９と量子型半
導体検出器２０が夫々設けられている。そして、光路１
５側には可視領域から近赤外領域までの比較的波長の短
い光線が、又、光路１６側には比較的波長の長い光線が
夫々導かれるように構成しである。２１は記録計である
。この記録計２１は波形によって動くペンとこのペンが
表示するチャートとから成る。
尚、バンドパスフィルタ１７に代えて回折格子を用いて
もよい。
もよい。
而して、上述の構成において蒸発源２から蒸発物質を蒸
発させると、サンプル基板５、モニター基板６には同時
に同じ厚みの被膜が形成されるが、モニター基板６を透
過する光量、即ち、透過率が変化する。
発させると、サンプル基板５、モニター基板６には同時
に同じ厚みの被膜が形成されるが、モニター基板６を透
過する光量、即ち、透過率が変化する。
第２図は前記記録計２１において記録されたある被膜に
おける透過率の変化曲線を示し、横軸は時間、縦軸は透
過率（％）であり、Ａ、Ｂは夫々波長λ８、λ２におけ
る変化曲線である。
おける透過率の変化曲線を示し、横軸は時間、縦軸は透
過率（％）であり、Ａ、Ｂは夫々波長λ８、λ２におけ
る変化曲線である。
本発明方法の実施に際し、光源８からの光をチッソパー
９によって適宜変調し、この変調光をモニター基板６に
投光する。そして、モニター基板６を透過した光線りを
光分割器１４によって分割し、各光路１５．１６に設け
たバンドパスフィルタ１７．１８を経て波長λ３、λ２
の光線を記録計２１に人力し、記録紙上に記録させる。
９によって適宜変調し、この変調光をモニター基板６に
投光する。そして、モニター基板６を透過した光線りを
光分割器１４によって分割し、各光路１５．１６に設け
たバンドパスフィルタ１７．１８を経て波長λ３、λ２
の光線を記録計２１に人力し、記録紙上に記録させる。
そして、前記２波長のうち何れか一方の波長の光線の透
過率が、ピーク値を僅かに（例えば１％以内）越えたと
き、蒸発［２からの蒸発を停止する。例えば、ＴｉＯ□
−Ｓｉｎｇの４１交互層から成るカントフィルタを形成
する場合、２１個のモニター基板６を用い、２層毎にモ
ニター基板６を交換する。
過率が、ピーク値を僅かに（例えば１％以内）越えたと
き、蒸発［２からの蒸発を停止する。例えば、ＴｉＯ□
−Ｓｉｎｇの４１交互層から成るカントフィルタを形成
する場合、２１個のモニター基板６を用い、２層毎にモ
ニター基板６を交換する。
又、この場合、２．３のモニター基板６については、ピ
ーク値を２．３％越えのものがあってもよい、上述の蒸
着と膜厚制御は手動、又はプログラムによる自動制御の
何れによっても行うことが出来る。
ーク値を２．３％越えのものがあってもよい、上述の蒸
着と膜厚制御は手動、又はプログラムによる自動制御の
何れによっても行うことが出来る。
第３図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、本発明方法によって
製作されたロングウェーブパスフィルタの分光特性を示
す。
製作されたロングウェーブパスフィルタの分光特性を示
す。
尚、本発明方法は被膜の反射率の変化を利用しても行う
ことが出来る。
ことが出来る。
以上説明したように、本発明方法は相異なる２つの波長
の光線をモニター光線として用いると共に、前記何れか
一方の波長の光線の透過率又は反射率がそのピーク越え
近傍に達したとき、蒸発源からの蒸発を停止するように
しているので、基板に形成される各層のばらつきを最小
限に留めることが出来、これによって精度の高い蒸着を
行うことが出来るので、Ｔｉｌｔ−５ｉｎｇという不均
質膜から成る光合分波器用多層膜干渉フィルタを再現性
良くコーティングすることが出来る。
の光線をモニター光線として用いると共に、前記何れか
一方の波長の光線の透過率又は反射率がそのピーク越え
近傍に達したとき、蒸発源からの蒸発を停止するように
しているので、基板に形成される各層のばらつきを最小
限に留めることが出来、これによって精度の高い蒸着を
行うことが出来るので、Ｔｉｌｔ−５ｉｎｇという不均
質膜から成る光合分波器用多層膜干渉フィルタを再現性
良くコーティングすることが出来る。
第１図は本発明方法を実施するための装置の一例を示す
構成図、第２図は本発明によって製作される過程におけ
る被膜の透過率変化曲線を示す図、第３図（Ａ）、（Ｂ
）、（Ｃ）は本発明方法によって製作されたフィルタの
分光特性を示す図である。 ２・・・蒸発源。
構成図、第２図は本発明によって製作される過程におけ
る被膜の透過率変化曲線を示す図、第３図（Ａ）、（Ｂ
）、（Ｃ）は本発明方法によって製作されたフィルタの
分光特性を示す図である。 ２・・・蒸発源。
Claims (1)
- 相異なる２つの波長の光線をモニター光線として用いる
と共に、前記何れか一方の波長の光線の透過率又は反射
率がそのピーク越え近傍に達したとき、蒸発源からの蒸
発を停止するようにしたことを特徴とする多層膜干渉フ
ィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14006485A JPS61296305A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 多層膜干渉フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14006485A JPS61296305A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 多層膜干渉フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61296305A true JPS61296305A (ja) | 1986-12-27 |
Family
ID=15260135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14006485A Pending JPS61296305A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | 多層膜干渉フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61296305A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5825549A (en) * | 1993-01-29 | 1998-10-20 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical thin film for optical element |
| EP1148149A2 (en) | 2000-04-18 | 2001-10-24 | Carl Zeiss | Method for the production of multi-layer systems |
| CN107916410A (zh) * | 2017-11-23 | 2018-04-17 | 湖北东田光电材料科技有限公司 | 一种检测光学镀膜厚度的反射式光学监控方法 |
-
1985
- 1985-06-25 JP JP14006485A patent/JPS61296305A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5825549A (en) * | 1993-01-29 | 1998-10-20 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical thin film for optical element |
| EP1148149A2 (en) | 2000-04-18 | 2001-10-24 | Carl Zeiss | Method for the production of multi-layer systems |
| DE10019045A1 (de) * | 2000-04-18 | 2001-10-31 | Zeiss Carl | Verfahren zum Herstellen von Viellagensystemen |
| US6483597B2 (en) | 2000-04-18 | 2002-11-19 | Carl-Zeiss-Stiftung | Method for the production of multi-layer systems |
| DE10019045B4 (de) * | 2000-04-18 | 2005-06-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Herstellen von Viellagensystemen |
| CN107916410A (zh) * | 2017-11-23 | 2018-04-17 | 湖北东田光电材料科技有限公司 | 一种检测光学镀膜厚度的反射式光学监控方法 |
| CN107916410B (zh) * | 2017-11-23 | 2019-11-05 | 湖北东田光电材料科技有限公司 | 一种检测光学镀膜厚度的反射式光学监控方法 |
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