JPS61289598A - 読出専用半導体記憶装置 - Google Patents
読出専用半導体記憶装置Info
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- JPS61289598A JPS61289598A JP60131373A JP13137385A JPS61289598A JP S61289598 A JPS61289598 A JP S61289598A JP 60131373 A JP60131373 A JP 60131373A JP 13137385 A JP13137385 A JP 13137385A JP S61289598 A JPS61289598 A JP S61289598A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 31
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 9
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 6
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/14—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
- G11C17/16—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM using electrically-fusible links
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は読出専用半導体記憶装置に関するもので、特に
マスクスライス方式で製造されるCMOSゲートアレイ
を構成する記t[Hi2に使用されるものである。
マスクスライス方式で製造されるCMOSゲートアレイ
を構成する記t[Hi2に使用されるものである。
ソフトウェア上で機能を変えるマイクロコンピュータと
ユーザのハード仕様に基づくカスタムメイドLSIの中
間的色彩を持つものとしてゲートアレイが使用される。
ユーザのハード仕様に基づくカスタムメイドLSIの中
間的色彩を持つものとしてゲートアレイが使用される。
これは、あらかじめチップ上に設けられた数百個〜数千
個のゲート回路ブロック間をユーザ仕様に基づいて結線
することにより所望のハードウェア機能を得ることがで
きるもので、単位セルを用意しておき、配線gA域にお
ける配線パターンを品種により変えることにより製造す
るマスタスライス方式により通常製造される。
個のゲート回路ブロック間をユーザ仕様に基づいて結線
することにより所望のハードウェア機能を得ることがで
きるもので、単位セルを用意しておき、配線gA域にお
ける配線パターンを品種により変えることにより製造す
るマスタスライス方式により通常製造される。
ところで最近のゲートアレイにおいては、従来ゲート列
間に設けられていた配線領域にもゲートをしきつめて全
面ゲートとし、素子密度を向上させてメモリ部を任意の
位置に組込むようにしたものが多い。またゲートの論理
はROM (読出専用記憶装置)により実現される。
間に設けられていた配線領域にもゲートをしきつめて全
面ゲートとし、素子密度を向上させてメモリ部を任意の
位置に組込むようにしたものが多い。またゲートの論理
はROM (読出専用記憶装置)により実現される。
第11図に従来の読出専用半導体記憶装置に用いられる
OR型のROMの一例の回路図の一部を示す。これによ
ればソースが接地されたnチャネルトランジスタQ11
.Q12.Ql 3.Q21・・・Q23.Q31・・
・Q33がマトリックス状に配置され、同一列にあるト
ランジスタのゲートに共通接続されたワード線WL1.
WL2.WL3が設けられると共に同一行にあるトラン
ジスタのドレインに共通接続されたビット線BL1.B
L2、B10が設けられている。これらのビット線BL
1、B10、B10にはプリチャージ回路1にゲートが
接続され、ソースがVDDにそれぞれ接続されたプリチ
ャージ用nチャネルトランジスタQ1゜Q2.Q3のド
レインがそれぞれ接続されている。
OR型のROMの一例の回路図の一部を示す。これによ
ればソースが接地されたnチャネルトランジスタQ11
.Q12.Ql 3.Q21・・・Q23.Q31・・
・Q33がマトリックス状に配置され、同一列にあるト
ランジスタのゲートに共通接続されたワード線WL1.
WL2.WL3が設けられると共に同一行にあるトラン
ジスタのドレインに共通接続されたビット線BL1.B
L2、B10が設けられている。これらのビット線BL
1、B10、B10にはプリチャージ回路1にゲートが
接続され、ソースがVDDにそれぞれ接続されたプリチ
ャージ用nチャネルトランジスタQ1゜Q2.Q3のド
レインがそれぞれ接続されている。
またトランジスタQl 1.Q22.Q33においては
そのトレインとビット線とは切離されている。
そのトレインとビット線とは切離されている。
この回路においてはまずクロック信号によってプリチャ
ージ回路を作動させ各ビット線をハイ(H)レベルにし
ておき、ワード線を選択すると、ビット線に接続された
トランジスタがオンとなることによってそのビット線は
ロー(シ)レベルに引下げられるが、ドレインとピット
線間が切離されたトランジスタにおいてはこのような引
下げが生じないことにより所定の記憶出力がビット線に
現われることになる。したがってこの回路は同期型であ
って、プリチャージのクロックとワード線選択の入力ア
ドレス信号のタイミングを正確に調整しなければならな
い等の使用上の問題がある。
ージ回路を作動させ各ビット線をハイ(H)レベルにし
ておき、ワード線を選択すると、ビット線に接続された
トランジスタがオンとなることによってそのビット線は
ロー(シ)レベルに引下げられるが、ドレインとピット
線間が切離されたトランジスタにおいてはこのような引
下げが生じないことにより所定の記憶出力がビット線に
現われることになる。したがってこの回路は同期型であ
って、プリチャージのクロックとワード線選択の入力ア
ドレス信号のタイミングを正確に調整しなければならな
い等の使用上の問題がある。
第12図は第11図の回路をnチャネルトランジスタを
二重丸、nチャネルトランジスタを一重丸、ゲートをこ
れらを貞通ずる線として表わした簡略図であって、以下
の説明においてはこの表現を用いるものとする。
二重丸、nチャネルトランジスタを一重丸、ゲートをこ
れらを貞通ずる線として表わした簡略図であって、以下
の説明においてはこの表現を用いるものとする。
第13図は第11図におけるプリチャージ回路とnチャ
ネルトランジスタの代りにビット線を抵抗R1,R2,
R3によってそれぞれ常時プルアップするようにしたレ
ジオ型の従来例を示す回路図である。この場合にはビッ
ト線のプルアップはワード線の選択とは無関係に常時性
われているので非同期型であり、タイミング上の問題は
生じない一方で、アドレスを変化させる都度大きなりC
電流が流れてしまい消費電力が大きいという問題がある
。
ネルトランジスタの代りにビット線を抵抗R1,R2,
R3によってそれぞれ常時プルアップするようにしたレ
ジオ型の従来例を示す回路図である。この場合にはビッ
ト線のプルアップはワード線の選択とは無関係に常時性
われているので非同期型であり、タイミング上の問題は
生じない一方で、アドレスを変化させる都度大きなりC
電流が流れてしまい消費電力が大きいという問題がある
。
第14図は従来ゲートアレイに使用されている他のRO
Mの例を示す回路図であって、所定出力を発生させるた
めのトランジスタQ11.Q22゜Q33については従
来のようなドレインとビット線間の切離しの代りにソー
スをVDDに接続するようにしており、非同期かつ低消
費電力のROMが得られるという特徴がある。
Mの例を示す回路図であって、所定出力を発生させるた
めのトランジスタQ11.Q22゜Q33については従
来のようなドレインとビット線間の切離しの代りにソー
スをVDDに接続するようにしており、非同期かつ低消
費電力のROMが得られるという特徴がある。
この回路では出力が小さい丸め各ビット線に、ソースが
vDDに接続されたnチャネルトランジスタと2段イン
バータより成る補償回路〈センスアップ)を経ることに
より、第15図に示ずようにワード線選択後のビット線
における緩慢な電位上昇を出力線では急峻な立上りとな
るようにしている。
vDDに接続されたnチャネルトランジスタと2段イン
バータより成る補償回路〈センスアップ)を経ることに
より、第15図に示ずようにワード線選択後のビット線
における緩慢な電位上昇を出力線では急峻な立上りとな
るようにしている。
しかしながら、製造時のばらつきにより、nチャネルト
ランジスタの■T11が高い方に、nチャネルトランジ
スタのv■■が低い方にばらついた場合、インバータの
回路■■11が高くなる。したがって、ワード線の選択
によりソースがVDDに接続されたnチャネルトランジ
スタによって引上げられたビット線のハイレベルがイン
バータの回路VTHよりも低くなった場合には正常な動
作が行われないおそれがある。すなわち、この回路では
■1Hの範囲が限定されるため製造上のマージンが小さ
く量産性に乏しいという欠点がある。
ランジスタの■T11が高い方に、nチャネルトランジ
スタのv■■が低い方にばらついた場合、インバータの
回路■■11が高くなる。したがって、ワード線の選択
によりソースがVDDに接続されたnチャネルトランジ
スタによって引上げられたビット線のハイレベルがイン
バータの回路VTHよりも低くなった場合には正常な動
作が行われないおそれがある。すなわち、この回路では
■1Hの範囲が限定されるため製造上のマージンが小さ
く量産性に乏しいという欠点がある。
また、以上の3つのROM回路では記憶素子をnチャネ
ルトランジスタのみを用いて構成しているため、CMO
Sゲートアレイにおいてはnチャネルトランジスタが使
用されず素子使用効率が低いという問題がある。
ルトランジスタのみを用いて構成しているため、CMO
Sゲートアレイにおいてはnチャネルトランジスタが使
用されず素子使用効率が低いという問題がある。
本発明はこのような従来技術の問題点を解決するためな
されたもので、非同期かつ低消費電力で量産性にすぐれ
た半導体のROM装置を提供することを目的とする。
されたもので、非同期かつ低消費電力で量産性にすぐれ
た半導体のROM装置を提供することを目的とする。
(発明の概要)
上記目的達成のため、本発明にがかる読出専用半導体記
憶装置においては、一の入力により一の論理を出力する
一導電型トランジスタおよび一の入力により他の論理を
出力する逆導電型トランジスタの各1個により構成され
、かつマトリクス状に配列さ、れた複数のトランジスタ
対と、前記トランジスタ対の同一列のトランジスタを接
続する入力線と、前記トランジスタ対の同一行のトラン
ジスタを接続する出力線と、を備え、前記トランジスタ
対を構成する2つのトランジスタのうち一方のみが作動
することにより所定の論理出力を得るようにしており、
また第2の発明においてはシースどうし、ドレインどう
しが共通接続された一導電型トランジスタおよび逆導電
型トランジスタの各1個により構成され、かつマトリク
ス状に配列された複数のトランジスタ対と、前記トラン
ジスタ対の同一列のトランジスタを接続する入力線と、
前記トランジスタ対の同一行のトランジスタを接続する
出力線と、を備え、一の論理を出力する前記トランジス
タ対のソース共通接続点が一のレベル供給源に、逆の論
理を出力する前記トランジスタ対のソース共通接続点が
他のレベル供給源に接続されるようにしており、さらに
第3の発明においては一の入力により一の論理を出力す
る一導電型トランジスタおよび一の入力により他の論理
を出力する逆導電型トランジスタの各1個により構成さ
れ、かつマトリクス状に配列された複数のトランジスタ
対と、前記トランジスタ対の同一列のトランジスタを接
続する入力線と、前記トランジスタ対の同一行のトラン
ジスタを接続する出力線と、を備え、前記トランジスタ
対のうち一の論理を出力するトランジスタ対はソースど
うしおよびドレインどうしが共通接続されると共に、ソ
ース共通接続点が一のレベル供給源に、ドレイン共通接
続点が出力線にそれぞれ接続され、他の論理を出力する
トランジスタ対は出力線を他のレベルに引き下げる逆S
電型トランジスタのみが作動するようにしている。
憶装置においては、一の入力により一の論理を出力する
一導電型トランジスタおよび一の入力により他の論理を
出力する逆導電型トランジスタの各1個により構成され
、かつマトリクス状に配列さ、れた複数のトランジスタ
対と、前記トランジスタ対の同一列のトランジスタを接
続する入力線と、前記トランジスタ対の同一行のトラン
ジスタを接続する出力線と、を備え、前記トランジスタ
対を構成する2つのトランジスタのうち一方のみが作動
することにより所定の論理出力を得るようにしており、
また第2の発明においてはシースどうし、ドレインどう
しが共通接続された一導電型トランジスタおよび逆導電
型トランジスタの各1個により構成され、かつマトリク
ス状に配列された複数のトランジスタ対と、前記トラン
ジスタ対の同一列のトランジスタを接続する入力線と、
前記トランジスタ対の同一行のトランジスタを接続する
出力線と、を備え、一の論理を出力する前記トランジス
タ対のソース共通接続点が一のレベル供給源に、逆の論
理を出力する前記トランジスタ対のソース共通接続点が
他のレベル供給源に接続されるようにしており、さらに
第3の発明においては一の入力により一の論理を出力す
る一導電型トランジスタおよび一の入力により他の論理
を出力する逆導電型トランジスタの各1個により構成さ
れ、かつマトリクス状に配列された複数のトランジスタ
対と、前記トランジスタ対の同一列のトランジスタを接
続する入力線と、前記トランジスタ対の同一行のトラン
ジスタを接続する出力線と、を備え、前記トランジスタ
対のうち一の論理を出力するトランジスタ対はソースど
うしおよびドレインどうしが共通接続されると共に、ソ
ース共通接続点が一のレベル供給源に、ドレイン共通接
続点が出力線にそれぞれ接続され、他の論理を出力する
トランジスタ対は出力線を他のレベルに引き下げる逆S
電型トランジスタのみが作動するようにしている。
このため、非同IIで低温V!電力かつ面積効率の良い
読出専用半導体記憶装置が得られる。
読出専用半導体記憶装置が得られる。
以下、図面を参照しながら本発明の実施例のいくつかを
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第1図は本発明にがかる読出専用半導体記憶装置の構成
を示す回路回であって、マスタチップ上にnチャネルト
ランジスタとnチャネルトランジスタが交互に配列され
たCMO8m成のマタススライス型ゲートアレイにおい
てOR型のROMを形成したものである。これによれば
nチャネルトランジスタとpチャネル上9222981
個を対にしてドレイン共通接続した上でビット線BLに
接続し、同一列のnチャネルト、ランジスタのゲートを
論理W1のワード線に、nチャネルトランジスタをその
否定論理W1のワード線に接続している。否定論理辺
は論l!I!W1のワード線WLからインバータを介し
て分岐させることにより得ている。各列において1″の
意味を持たせるトランジスタ対では、例えば第1行第1
列に見られるように、nチャネルトランジスタNQ11
のソースはオーブンとなっているが、pチャネルトラン
ジスタPQ11のソースは■Doに接続される。これに
対し、110”の意味を持たせるトランジスタ対では、
例えば第2行第1列および第3行第1列に見られるよう
に、nチャネルトランジスタNQ31のソースは■、8
に接続され、pチャネルトランジスタPQ21およびP
Q31のソースはオーブンとなっている。
を示す回路回であって、マスタチップ上にnチャネルト
ランジスタとnチャネルトランジスタが交互に配列され
たCMO8m成のマタススライス型ゲートアレイにおい
てOR型のROMを形成したものである。これによれば
nチャネルトランジスタとpチャネル上9222981
個を対にしてドレイン共通接続した上でビット線BLに
接続し、同一列のnチャネルト、ランジスタのゲートを
論理W1のワード線に、nチャネルトランジスタをその
否定論理W1のワード線に接続している。否定論理辺
は論l!I!W1のワード線WLからインバータを介し
て分岐させることにより得ている。各列において1″の
意味を持たせるトランジスタ対では、例えば第1行第1
列に見られるように、nチャネルトランジスタNQ11
のソースはオーブンとなっているが、pチャネルトラン
ジスタPQ11のソースは■Doに接続される。これに
対し、110”の意味を持たせるトランジスタ対では、
例えば第2行第1列および第3行第1列に見られるよう
に、nチャネルトランジスタNQ31のソースは■、8
に接続され、pチャネルトランジスタPQ21およびP
Q31のソースはオーブンとなっている。
この回路においてワード線WLIが選択され、w、−1
が入力されると0チヤネルトランジスタNQ21および
NQ31はオンとなってビット線BL2およびB10を
それぞれ接地レベルに引下げるが、w、=Oでオンとな
るpチャネルトランジスタPQ11はビットl1lBL
1をVDDレベルに引上げるため、ビット線BL1.B
L2.BL3にはそれぞれ11″、“O”、0″のデー
タが出力されることになる。
が入力されると0チヤネルトランジスタNQ21および
NQ31はオンとなってビット線BL2およびB10を
それぞれ接地レベルに引下げるが、w、=Oでオンとな
るpチャネルトランジスタPQ11はビットl1lBL
1をVDDレベルに引上げるため、ビット線BL1.B
L2.BL3にはそれぞれ11″、“O”、0″のデー
タが出力されることになる。
第2図は第1図の実施例においてソース側がオーブンと
なっているトランジスタ例えばNQll。
なっているトランジスタ例えばNQll。
PQ21.PQ31等のゲートもオーブンとした例であ
る。
る。
この例ではワード線は出力データ形成に寄与するトラン
ジスタのゲートのみに接続され、ワード線の負荷が軽減
されるため、ワード線選択動作の確実化を図ることがで
きる。
ジスタのゲートのみに接続され、ワード線の負荷が軽減
されるため、ワード線選択動作の確実化を図ることがで
きる。
第3図は本発明の他の実施例を示す回路図であって、各
トランジスタ対のうちのnチャネルトランジスタのソー
スはVSSに、nチャネルトランジスタのソースはV、
oに接続するようにし、特定の出力を発生させるトラン
ジスタと対になったトランジスタのドレイン側をオーブ
ンとするようにしている。
トランジスタ対のうちのnチャネルトランジスタのソー
スはVSSに、nチャネルトランジスタのソースはV、
oに接続するようにし、特定の出力を発生させるトラン
ジスタと対になったトランジスタのドレイン側をオーブ
ンとするようにしている。
例えば、第1列について見れば、1′の意味を持たせる
pチャネルトランジスタPQ11と対になったnチャネ
ルトランジスタNQ21.NQ31とそれぞれ対になっ
たpチャネルトランジスタPQ21.PQ31について
はそれらのドレインはオーブンとなっている。ビット線
とトランジスタの接続においてはドレイン8但が存在し
、このドレイン8昌が読出速度に影響を与えることから
、ドレイン側をオーブンにすることは望ましい。
pチャネルトランジスタPQ11と対になったnチャネ
ルトランジスタNQ21.NQ31とそれぞれ対になっ
たpチャネルトランジスタPQ21.PQ31について
はそれらのドレインはオーブンとなっている。ビット線
とトランジスタの接続においてはドレイン8但が存在し
、このドレイン8昌が読出速度に影響を与えることから
、ドレイン側をオーブンにすることは望ましい。
この場合、第4図に示すように、ドレインがオーブンに
されたトランジスタのゲートをオーブンとしてワード線
の負荷を減少するようにしてもよい。
されたトランジスタのゲートをオーブンとしてワード線
の負荷を減少するようにしてもよい。
第6図は第4図と同じ構成を有するROMの一部をマス
クチップ上で実現したものの一例を示す拡大平面図であ
って、対向するゲート電極11゜12およびこれらと交
差するn型不純物拡散領域13によりnチャネルトラン
ジスタNQI 1およびNQI 2が、対向するゲー1
− Ti極14,15およびこれらと交差するn型不純
物拡散gA域16によりnチVネルトランジスタNQ1
3およびNQ14が、対向するゲート電極17.18お
よびこれらと交差するn型不純物拡散領域19によりp
チャネルトランジスタPQIIおよびPQ12が、対向
するゲート電極20.21およびこれらと交差するn型
不純物拡散領域22によりpチャネルトランジスタPQ
13およびPQ14がそれぞれ形成されている。またn
チャネルトランジスタ列上には■ ライン23およびW
1ワード124が、S nチャネルトランジスタ列上にはVDDライン26およ
びW1ワード線25が、画廊電型トランジスタのソース
領域上を通るように横方向にビット線27 (BLI)
、28 (B10)、29 (B10)、30 (B1
0>がそれぞれ配設されている。これらの配線と各領域
とはコンタクト孔を通じて接続され、逆にオーブン箇所
ではコンタクト孔が設けられていない。
クチップ上で実現したものの一例を示す拡大平面図であ
って、対向するゲート電極11゜12およびこれらと交
差するn型不純物拡散領域13によりnチャネルトラン
ジスタNQI 1およびNQI 2が、対向するゲー1
− Ti極14,15およびこれらと交差するn型不純
物拡散gA域16によりnチVネルトランジスタNQ1
3およびNQ14が、対向するゲート電極17.18お
よびこれらと交差するn型不純物拡散領域19によりp
チャネルトランジスタPQIIおよびPQ12が、対向
するゲート電極20.21およびこれらと交差するn型
不純物拡散領域22によりpチャネルトランジスタPQ
13およびPQ14がそれぞれ形成されている。またn
チャネルトランジスタ列上には■ ライン23およびW
1ワード124が、S nチャネルトランジスタ列上にはVDDライン26およ
びW1ワード線25が、画廊電型トランジスタのソース
領域上を通るように横方向にビット線27 (BLI)
、28 (B10)、29 (B10)、30 (B1
0>がそれぞれ配設されている。これらの配線と各領域
とはコンタクト孔を通じて接続され、逆にオーブン箇所
ではコンタクト孔が設けられていない。
第7図は本発明の他の実施例を示す回路図であって、各
トランジスタ対においてソース側、ドレイン側とも共通
接続をしたトランスミッションゲ−トをなすようにし、
各トランジスタ対のドレイン側はビット線にそれぞれ接
続するようにしたものである。そしてこのトランジスタ
対が′1”を記憶するためにはそのソース共通接続点を
VDOに、110 Nを記憶するためには■88にそれ
ぞれ接続するようにする。すなわち、第7図の第1列を
見ると“1″の意味を持たせるNQl 1 PQl 1
のトランジスタ対ではソース共通接続点がVDOに接続
され、“0″の意味を持たせるNQ21とPO21、N
Q31とPO31のトランジスタ対ではソース共通接続
点は■8Sに接続される。このようなトランスミッショ
ンゲートではレベル伝達が完全であるため特にビット線
をHレベルに引上げる際に有効であり、かつ双方向性で
あるという利点がある。
トランジスタ対においてソース側、ドレイン側とも共通
接続をしたトランスミッションゲ−トをなすようにし、
各トランジスタ対のドレイン側はビット線にそれぞれ接
続するようにしたものである。そしてこのトランジスタ
対が′1”を記憶するためにはそのソース共通接続点を
VDOに、110 Nを記憶するためには■88にそれ
ぞれ接続するようにする。すなわち、第7図の第1列を
見ると“1″の意味を持たせるNQl 1 PQl 1
のトランジスタ対ではソース共通接続点がVDOに接続
され、“0″の意味を持たせるNQ21とPO21、N
Q31とPO31のトランジスタ対ではソース共通接続
点は■8Sに接続される。このようなトランスミッショ
ンゲートではレベル伝達が完全であるため特にビット線
をHレベルに引上げる際に有効であり、かつ双方向性で
あるという利点がある。
第8図は第7図に示した実施例の変形例であって、ビッ
ト″11位を引上げるのに使用するトランジスタ対では
トランスミッションゲートを使用しているが、ビットa
m位を引下げるのに使用するトランジスタはnチャネル
トランジスタのみとしたものであって、例えば第1列で
は0″の意味を持たせるためにnチャネルトランジスタ
NQ21およびNQ31のソースをV8sに接続するよ
うにしているが、これらと対になったpチャネルトラン
ジスタPO21およびPO21のドレインはオーブンと
なっており、電位引下げには寄与しない。
ト″11位を引上げるのに使用するトランジスタ対では
トランスミッションゲートを使用しているが、ビットa
m位を引下げるのに使用するトランジスタはnチャネル
トランジスタのみとしたものであって、例えば第1列で
は0″の意味を持たせるためにnチャネルトランジスタ
NQ21およびNQ31のソースをV8sに接続するよ
うにしているが、これらと対になったpチャネルトラン
ジスタPO21およびPO21のドレインはオーブンと
なっており、電位引下げには寄与しない。
この場合にも0”データ出力に寄与しないnチャネルト
ランジスタのゲートもオーブンとしワード線の負荷を減
少させることができる。
ランジスタのゲートもオーブンとしワード線の負荷を減
少させることができる。
第10図は第7図の実施例の一部を示す第9図の回路を
実際のマスタチップ上で実現したものの一例を示す拡大
平面図である。これによれば第6図の場合と全く同じマ
スタチップを用いているため、左半分のゲート11,1
2,14,15、およびn型不純物拡散領tii!13
.16により形成される4つのnチャネルトランジスタ
と、右半分のゲート17,18.20.21およびp型
不純物拡散領域19.22により形成される4つのnチ
ャネルトランジスタについては同様である。このマスタ
チップ上にはワード線(Wl)31、VSsライン32
、’7 ) 1m (W2 ) 33、ワード線(W
)34、■ ライン35、’7 t’1i(W2)3
6が縦方向に、ドレイン領域の上を通過するようにビッ
ト線37(BLl)、およびビット線38 (BL2)
が横方向にそれぞれ異なった層に配設され、適当なコン
タクトをとることにより第9図の回路が実現される。
実際のマスタチップ上で実現したものの一例を示す拡大
平面図である。これによれば第6図の場合と全く同じマ
スタチップを用いているため、左半分のゲート11,1
2,14,15、およびn型不純物拡散領tii!13
.16により形成される4つのnチャネルトランジスタ
と、右半分のゲート17,18.20.21およびp型
不純物拡散領域19.22により形成される4つのnチ
ャネルトランジスタについては同様である。このマスタ
チップ上にはワード線(Wl)31、VSsライン32
、’7 ) 1m (W2 ) 33、ワード線(W
)34、■ ライン35、’7 t’1i(W2)3
6が縦方向に、ドレイン領域の上を通過するようにビッ
ト線37(BLl)、およびビット線38 (BL2)
が横方向にそれぞれ異なった層に配設され、適当なコン
タクトをとることにより第9図の回路が実現される。
以上の実施例においては、OR型のROMとなっている
が、良く知られたAND型のROMにも適用することが
できる。
が、良く知られたAND型のROMにも適用することが
できる。
また、以上の実施例はゲートアレイの論理を実現するた
めのROMについて述べているが、ゲートアレイ中に組
込まれる記憶装置としてのROMや通常のROMにも本
発明を適用することができる。
めのROMについて述べているが、ゲートアレイ中に組
込まれる記憶装置としてのROMや通常のROMにも本
発明を適用することができる。
(発明の効果)
以上のように本発明によれば、各1個の一導電型トラン
ジスタおよび逆導電型トランジスタによるトランジスタ
対を複数個マトリックス状に形成し、これらの一導電型
トランジスタが一の記憶論理を出力し、逆導電型トラン
ジスタが他の記憶論理を出力するようにしているので、
スタティック動作となってプリチャージやクロック動作
を行う必要がない。また、C−MOSを基本としている
ため低消費電力であり、また出力線の引上げと引下げに
それぞれ適した特性のトランジスタを使用しているため
動作マージンが大きい。このため、製造時のマージンが
大きく歩留りも向上する。ざらにnチャネルトランジス
タとnチャネルトランジスタを同数個だけ使用するため
、素子使用率が高く、小面積で大容量のROMを構成で
きるため、低価格、高性能の読出専用半導体記憶装置を
提供できる。
ジスタおよび逆導電型トランジスタによるトランジスタ
対を複数個マトリックス状に形成し、これらの一導電型
トランジスタが一の記憶論理を出力し、逆導電型トラン
ジスタが他の記憶論理を出力するようにしているので、
スタティック動作となってプリチャージやクロック動作
を行う必要がない。また、C−MOSを基本としている
ため低消費電力であり、また出力線の引上げと引下げに
それぞれ適した特性のトランジスタを使用しているため
動作マージンが大きい。このため、製造時のマージンが
大きく歩留りも向上する。ざらにnチャネルトランジス
タとnチャネルトランジスタを同数個だけ使用するため
、素子使用率が高く、小面積で大容量のROMを構成で
きるため、低価格、高性能の読出専用半導体記憶装置を
提供できる。
また、2種のトランジスタをドレインおよびソースにお
いて共通接続したいわゆるトランスミッションゲートを
使用した本発明によれば、出力線を引上げる動作の確実
化、高速化を図ることができる。
いて共通接続したいわゆるトランスミッションゲートを
使用した本発明によれば、出力線を引上げる動作の確実
化、高速化を図ることができる。
第1図は本発明にがかる読出専用半導体記憶装置の一実
施例の一部を示す回路、第2図、第3図第4図はそれぞ
れ本発明の他の実施例を示す回路図、第5図は第4図と
同様の構成を示す回路図、第6図は第5図の回路をマス
タチップ上で実現した様子を示す拡大平面図、第7図は
トランジスタ対をトランスミッションゲート型にした本
発明の実施例を示す回路図、第8図はその変型例を示す
回路図、第9図は第7図と同様の構成を示す回路図、第
10図は第9図の回路をマスタチップ上で実現した様子
を示す拡大平面図、第11図は従来の同期型ROM装置
を示す回路図、第12図はその簡略図、第13図は従来
のレシオ型ROM装置を示す回路図、第14図は従来の
補償回路を有するROM装置を示す回路図、第15図は
その過渡特性を示すグラフである。 1・・・プリチャージ回路、11.12.14゜15.
17.18,20.21・・・ゲート、13゜16・・
・n型不純物拡散領域、19.22・・・n型不純物拡
散領域、23.32・・・vssライン、24゜25.
31.33.34.36・・・ワード線、26゜、
35・・・V、。ライン、27.28.29.30゜3
7.38・・・ビット線。 NQl 1.NQI 2.NQI 3.NQ21・・・
NQ23.NQ31・・・NQ33・・・nチャネルト
ランジスタ、PQI 1.PQl 2.PQl3.PQ
21・・・PQ23.PQ31・・・PQ33・・・n
チャネルトランジスタ、WLI、WL2.WL3・・・
ワード線、BLl、B10.B10・・・ビット線。 出願人代理人 猪 股 消 第1図 第3図 第4図
施例の一部を示す回路、第2図、第3図第4図はそれぞ
れ本発明の他の実施例を示す回路図、第5図は第4図と
同様の構成を示す回路図、第6図は第5図の回路をマス
タチップ上で実現した様子を示す拡大平面図、第7図は
トランジスタ対をトランスミッションゲート型にした本
発明の実施例を示す回路図、第8図はその変型例を示す
回路図、第9図は第7図と同様の構成を示す回路図、第
10図は第9図の回路をマスタチップ上で実現した様子
を示す拡大平面図、第11図は従来の同期型ROM装置
を示す回路図、第12図はその簡略図、第13図は従来
のレシオ型ROM装置を示す回路図、第14図は従来の
補償回路を有するROM装置を示す回路図、第15図は
その過渡特性を示すグラフである。 1・・・プリチャージ回路、11.12.14゜15.
17.18,20.21・・・ゲート、13゜16・・
・n型不純物拡散領域、19.22・・・n型不純物拡
散領域、23.32・・・vssライン、24゜25.
31.33.34.36・・・ワード線、26゜、
35・・・V、。ライン、27.28.29.30゜3
7.38・・・ビット線。 NQl 1.NQI 2.NQI 3.NQ21・・・
NQ23.NQ31・・・NQ33・・・nチャネルト
ランジスタ、PQI 1.PQl 2.PQl3.PQ
21・・・PQ23.PQ31・・・PQ33・・・n
チャネルトランジスタ、WLI、WL2.WL3・・・
ワード線、BLl、B10.B10・・・ビット線。 出願人代理人 猪 股 消 第1図 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一の入力により一の論理を出力する一導電型トラン
ジスタおよび一の入力により他の論理を出力する逆導電
型トランジスタの各1個により構成され、かつマトリク
ス状に配列された複数のトランジスタ対と、 前記トランジスタ対の同一列のトランジスタを接続する
入力線と、 前記トランジスタ対の同一行のトランジスタを接続する
出力線と、 を備え、 前記トランジスタ対を構成する2つのトランジスタのう
ち一方のみが作動することにより所定の論理出力を得る
ようにした読出専用半導体記憶装置。 2、一の論理が高レベル論理、他の論理が低レベル論理
で、一導電型トランジスタ出力線を高レベルに引上げ、
逆導電型トランジスタが出力線を低レベルに引下げるよ
うに動作するものである特許請求の範囲第1項記載の読
出専用半導体記憶装置。 3、一導電型トランジスタがpチャネルトランジスタで
あり、逆導電型トランジスタがnチャネルトランジスタ
である特許請求の範囲第2項記載の読出専用半導体記憶
装置。 4、Pチャネルトランジスタおよびnチャネルトランジ
スタが規則的に配列されたCMOSマスタチップを形成
しているものである特許請求の範囲第3項記載の読出専
用半導体記憶装置。 5、入力線がワード線であり、出力線がビット線である
特許請求の範囲第4項記載の読出専用半導体記憶装置 6、高レベル論理を出力するpチャネルトランジスタの
ソースがV_D_Dに、ゲートがワード線に接続される
と共に、低レベル論理を出力するnチャネルトランジス
タのソースがV_S_Sにゲートが前記ワード線とは逆
論理のワード線に、これらのドレインがビット線にそれ
ぞれ接続された特許請求の範囲第5項記載の読出専用半
導体記憶装置。 7、トランジスタ対のうち論理出力を行わないトランジ
スタはそのソースあるいはドレインの少なくとも一方が
不接続とされた特許請求の範囲第6項記載の読出専用半
導体記憶装置。 8、トランジスタ対のうち論理出力を行わないトランジ
スタのゲートがワード線と不接続とされた特許請求の範
囲第7項記載の読出専用半導体記憶装置。 9、各トランジスタ対がゲートアレイの一論理出力を担
うものである特許請求の範囲第1項記載の読出専用半導
体記憶装置。 10、各トランジスタ対がゲートアレイ中に組込まれる
読出専用半導体記憶部の一論理出力を担うものである特
許請求の範囲第1項記載の読出専用半導体記憶装置。 11、ソースどうし、ドレインどうしが共通接続された
一導電型トランジスタおよび逆導電型トランジスタの各
1個により構成され、かつマトリクス状に配列された複
数のトランジスタ対と、前記トランジスタ対の同一列の
トランジスタを接続する入力線と、 前記トランジスタ対の同一行のトランジスタを接続する
出力線と、 を備え、 一の論理を出力する前記トランジスタ対のソース共通接
続点が一のレベル供給源に、逆の論理を出力する前記ト
ランジスタ対のソース共通接続点が他のレベル供給源に
接続された読出専用半導体記憶装置。 12、一のレベルがV_D_D、他のレベルがV_S_
S、一の論理が高レベル論理、他の論理が低レベル論理
、一導電型トランジスタがpチャネルトランジスタであ
り、逆導電型トランジスタがnチャネルトランジスタで
ある特許請求の範囲第11項記載の読出専用半導体記憶
装置。 13、pチャネルトランジスタおよびnチャンネルトラ
ンジスタが規則的に配列された CMOSマスタチップを形成しているものである特許請
求の範囲第12項記載の読出専用半導体記憶装置。 14、入力線が同一列の各トランジスタ対中の同一導電
型トランジスタのゲートに共通接続された互いに逆論理
のワード線であり、出力線が同一行の各トランジスタ対
のドレイン共通接続点が接続されたビット線である特許
請求の範囲第13項記載の読出専用半導体記憶装置。 15、一の入力により一の論理を出力する一導電型トラ
ンジスタおよび一の入力により他の論理を出力する逆導
電型トランジスタの各1個により構成され、かつマトリ
クス状に配列された複数のトランジスタ対と、 前記トランジスタ対の同一列のトランジスタを接続する
入力線と、 前記トランジスタ対の同一行のトランジスタを接続する
出力線と、 を備え、 前記トランジスタ対のうち一の論理を出力するトランジ
スタ対はソースどうしおよびドレインどうしが共通接続
されると共に、ソース共通接続点が一のレベル供給源に
、ドレイン共通接続点が出力線にそれぞれ接続され、 他の論理を出力するトランジスタ対は出力線を他のレベ
ルに引き下げる逆導電型トランジスタのみが作動するも
のである読出専用半導体記憶装置。 16、一のレベルがV_D_D、他のレベルがV_S_
S、一の論理が高レベル論理、他の論理が低レベル論理
、一導電型トランジスタがpチャネルトランジスタ、逆
導電型トランジスタがnチャネルトランジスタである特
許請求の範囲第15項記載の読出専用半導体記憶装置。 17、pチャネルトランジスタおよびnチャネルトラン
ジスタが規則的に配列されたCMOSマスタチップを形
成しているものである特許請求の範囲第16項記載の読
出専用半導体記憶装置。 18、入力線が同一列の各トランジスタ対中の同一導電
型トランジスタのゲートに共通接続された互いに逆論理
のワード線であり、出力線が同一行の各トランジスタ対
のドレイン共通接続点が接続されたビット線である特許
請求の範囲第17項記載の読出専用半導体記憶装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60131373A JPS61289598A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 読出専用半導体記憶装置 |
US06/874,469 US4773047A (en) | 1985-06-17 | 1986-06-16 | Read only memory device |
EP86108200A EP0206205B1 (en) | 1985-06-17 | 1986-06-16 | Read only memory device |
DE8686108200T DE3680829D1 (de) | 1985-06-17 | 1986-06-16 | Festwertspeicheranordnung. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60131373A JPS61289598A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 読出専用半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61289598A true JPS61289598A (ja) | 1986-12-19 |
JPH0355916B2 JPH0355916B2 (ja) | 1991-08-26 |
Family
ID=15056420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60131373A Granted JPS61289598A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 読出専用半導体記憶装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4773047A (ja) |
EP (1) | EP0206205B1 (ja) |
JP (1) | JPS61289598A (ja) |
DE (1) | DE3680829D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011103158A (ja) * | 2009-11-11 | 2011-05-26 | Rohm Co Ltd | 半導体不揮発記憶回路 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0783062B2 (ja) * | 1985-06-18 | 1995-09-06 | 株式会社東芝 | マスタ−スライス型半導体装置 |
NL8902820A (nl) * | 1989-11-15 | 1991-06-03 | Philips Nv | Geintegreerde halfgeleiderschakeling van het master slice type. |
US5289406A (en) * | 1990-08-28 | 1994-02-22 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Read only memory for storing multi-data |
DE4311358C2 (de) * | 1992-04-07 | 1999-07-22 | Mitsubishi Electric Corp | Nicht-flüchtige Halbleiterspeichereinrichtung und Betriebsverfahren für eine nicht-flüchtige Halbleiterspeichereinrichtung und Verfahren zum Programmieren von Information in eine nicht-flüchtige Halbleiterspeichereinrichtung |
US5309389A (en) * | 1993-08-27 | 1994-05-03 | Honeywell Inc. | Read-only memory with complementary data lines |
US5420818A (en) * | 1994-01-03 | 1995-05-30 | Texas Instruments Incorporated | Static read only memory (ROM) |
US5422846A (en) * | 1994-04-04 | 1995-06-06 | Motorola Inc. | Nonvolatile memory having overerase protection |
JPH09270197A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-10-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置及びレイアウト/回路情報生成装置 |
US6147893A (en) * | 1999-01-27 | 2000-11-14 | Vlsi Technology, Inc. | Programmable read only memory with high speed differential sensing at low operating voltage |
JP2002100196A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
JP2002170399A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
JP3904499B2 (ja) * | 2002-09-25 | 2007-04-11 | 松下電器産業株式会社 | 半導体記憶装置 |
US8222922B2 (en) * | 2009-03-31 | 2012-07-17 | Toshiba America Research, Inc. | ROM implementation for ROM based logic design |
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Citations (1)
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JPS61168198A (ja) * | 1985-01-18 | 1986-07-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Mos記憶装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US3550089A (en) * | 1968-10-17 | 1970-12-22 | Rca Corp | Complementary semiconductor matrix arrays for low power dissipation logic application |
CH625075A5 (ja) * | 1978-02-22 | 1981-08-31 | Centre Electron Horloger | |
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FR2563651B1 (fr) * | 1984-04-27 | 1986-06-27 | Thomson Csf Mat Tel | Memoire morte realisee en circuit integre prediffuse |
-
1985
- 1985-06-17 JP JP60131373A patent/JPS61289598A/ja active Granted
-
1986
- 1986-06-16 DE DE8686108200T patent/DE3680829D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-16 US US06/874,469 patent/US4773047A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-16 EP EP86108200A patent/EP0206205B1/en not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61168198A (ja) * | 1985-01-18 | 1986-07-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Mos記憶装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011103158A (ja) * | 2009-11-11 | 2011-05-26 | Rohm Co Ltd | 半導体不揮発記憶回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0206205A3 (en) | 1988-04-06 |
EP0206205B1 (en) | 1991-08-14 |
JPH0355916B2 (ja) | 1991-08-26 |
DE3680829D1 (de) | 1991-09-19 |
EP0206205A2 (en) | 1986-12-30 |
US4773047A (en) | 1988-09-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |