JPS61287095A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS61287095A JPS61287095A JP60130204A JP13020485A JPS61287095A JP S61287095 A JPS61287095 A JP S61287095A JP 60130204 A JP60130204 A JP 60130204A JP 13020485 A JP13020485 A JP 13020485A JP S61287095 A JPS61287095 A JP S61287095A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bit line
- line
- period
- bit
- line load
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、m行n列にマトリクス状に配設され7’C
(m X n )個のスタテック型メモリセルを有する
半導体記憶装置に関するものである。
(m X n )個のスタテック型メモリセルを有する
半導体記憶装置に関するものである。
第3図はこの種従来の半導体記憶装置を示すものであ、
り、(11はm行n列にマトリクス状に配設された(
m X n )個のスタテック型メモリセルのうちの一
つであるスタテック型メモリセルで9周知0MO8)ラ
ンラスタ3個ないし5個で構成されているものである。
り、(11はm行n列にマトリクス状に配設された(
m X n )個のスタテック型メモリセルのうちの一
つであるスタテック型メモリセルで9周知0MO8)ラ
ンラスタ3個ないし5個で構成されているものである。
(21g) (21b)は各列に配設されるn対のうち
の一対のビット線で、同じ列に配設されたm個のスタテ
ック型メそリセルが接続されて、各スタテック型メモリ
セルに記憶内容を書き込むためのものであるとともに記
憶内容を読み出すためのものである。(31a) (5
1b)は各列に配設されたビット線と電源供給線(4)
との間に接続されるn対のうちの一対のビット線負荷で
、ビット線負荷制御線(5)に現われるビット線負荷制
御信号によりオン・オフ制御されるもので:hn、例え
ばMOSトランジスタで構成されているものである。
の一対のビット線で、同じ列に配設されたm個のスタテ
ック型メそリセルが接続されて、各スタテック型メモリ
セルに記憶内容を書き込むためのものであるとともに記
憶内容を読み出すためのものである。(31a) (5
1b)は各列に配設されたビット線と電源供給線(4)
との間に接続されるn対のうちの一対のビット線負荷で
、ビット線負荷制御線(5)に現われるビット線負荷制
御信号によりオン・オフ制御されるもので:hn、例え
ばMOSトランジスタで構成されているものである。
(61,) (61b)は各列に配設されたビット線に
接続されるn対のうちの一対のトランス7アゲートで。
接続されるn対のうちの一対のトランス7アゲートで。
同じ列の列デコード線(71)に現われる列デコード信
号にオン・オフ制御されるものである。(8a)(8b
)は各列のビット線にそれぞれトランス7アゲートを介
して接続される一対のI/O線、 (9a)(9b)
はこの一対のI/O線と上記電源供給線(4)との間に
接続される一対のI/O線負荷で、エフ0線負荷制御線
a1に現われるビット線負荷制御信号と同一のl/O1
s負荷制御信号によフォノ・オフ制御されるものであシ
0例えばMOS)ランジスタで構成されているものであ
る。αυは各列に配設された一対のビット線間に接続さ
れたn個のうちの1つのビット線イコ2イズトランジス
タで、イコライズ制御線a3に現われる上記ビット線負
荷制御信号と同一のビット線イコライズ制御信号により
オン・オフ制御されるものである。崗は各行に配設され
るm本のうちの一本のワード線で、同じ行のn個のスタ
ティック型メモリセルが接続され。
号にオン・オフ制御されるものである。(8a)(8b
)は各列のビット線にそれぞれトランス7アゲートを介
して接続される一対のI/O線、 (9a)(9b)
はこの一対のI/O線と上記電源供給線(4)との間に
接続される一対のI/O線負荷で、エフ0線負荷制御線
a1に現われるビット線負荷制御信号と同一のl/O1
s負荷制御信号によフォノ・オフ制御されるものであシ
0例えばMOS)ランジスタで構成されているものであ
る。αυは各列に配設された一対のビット線間に接続さ
れたn個のうちの1つのビット線イコ2イズトランジス
タで、イコライズ制御線a3に現われる上記ビット線負
荷制御信号と同一のビット線イコライズ制御信号により
オン・オフ制御されるものである。崗は各行に配設され
るm本のうちの一本のワード線で、同じ行のn個のスタ
ティック型メモリセルが接続され。
行デコード信号が現われて書き込むあるいは読み出すス
タティック型メモリセルを選択するためのものである。
タティック型メモリセルを選択するためのものである。
次に、この様に構成された半導体記憶装置の動作につい
て説明する。まず、スタティック型メモリセル(1)の
記憶内容を読み出す場合には、第4図に各制御信号のタ
イミング図を示すように、ビット線負荷制御信号及びI
/Q線負荷制御信号が気しルベルでToL ビット線負
荷(51a) (31b)及びI/O線負荷(9a)
(9b)はオフ状態でビット線(21a) (21b)
及びI / O線(8a) (ab) は電源供給線
(4)から切り離されている。また1列デコーダ信号に
よりトランス7アゲー) (61a) (611))は
導通状態となっている。そして1行デコーダ信号により
ワード線(Ljが%Hlレベルになってスタティック型
メモリセル(1)が選択されるので、スタティック型メ
モリセル(1)の記憶内容が一対のビット線(21a)
(21b)に読み出されることになる。一対のビット1
m (21a) (21b)の電位はスタティック型メ
モリセル(1)の記憶内容に基づき、第4図(e)に示
すように一方のビット線の電位はそのままの状態を維持
され。
て説明する。まず、スタティック型メモリセル(1)の
記憶内容を読み出す場合には、第4図に各制御信号のタ
イミング図を示すように、ビット線負荷制御信号及びI
/Q線負荷制御信号が気しルベルでToL ビット線負
荷(51a) (31b)及びI/O線負荷(9a)
(9b)はオフ状態でビット線(21a) (21b)
及びI / O線(8a) (ab) は電源供給線
(4)から切り離されている。また1列デコーダ信号に
よりトランス7アゲー) (61a) (611))は
導通状態となっている。そして1行デコーダ信号により
ワード線(Ljが%Hlレベルになってスタティック型
メモリセル(1)が選択されるので、スタティック型メ
モリセル(1)の記憶内容が一対のビット線(21a)
(21b)に読み出されることになる。一対のビット1
m (21a) (21b)の電位はスタティック型メ
モリセル(1)の記憶内容に基づき、第4図(e)に示
すように一方のビット線の電位はそのままの状態を維持
され。
他方のビット線の電位は低くされて、スタティック型メ
モリセル(1)の記憶内容がビット線(21g)(21
b)に読み出され、トランスファゲート(61a)(6
1b)を介してI/O線(8a) (8b)に読み出さ
れることになる。また、スタティック型メモリセル(1
)に記憶内容を書き込む場合には、ビット線負荷制御信
号が′Lルベルであ)、ビット線(21aX21b)及
びI/O線(8a) (8b)は電源供給線(41カラ
切)離されているとともに1列デコーダ信号によシトラ
ンス7アゲート(6111〕(61b)は導通状態にな
っており1列デコーダ信号に工〕ワード線+11が’h
HIレベルになってスタティック製メモリセル(1)
が選択される。そして、書き込みドライバによりI/O
線(8a) (8b)に書き込み内容が伝えられると、
トランスファゲート(61a) (61b)及びビット
1m (2ta)(21b)を介してスタティック型メ
モリセル(1)に書き込まれることになる。この時の一
対のビット線(21,) (2tb)の電位は書き込み
内容に基づき、第4図(e)に示すように一方のビット
線の電位はそのままの状態を維持され、他方のビット線
の電位は低くされているものである。
モリセル(1)の記憶内容がビット線(21g)(21
b)に読み出され、トランスファゲート(61a)(6
1b)を介してI/O線(8a) (8b)に読み出さ
れることになる。また、スタティック型メモリセル(1
)に記憶内容を書き込む場合には、ビット線負荷制御信
号が′Lルベルであ)、ビット線(21aX21b)及
びI/O線(8a) (8b)は電源供給線(41カラ
切)離されているとともに1列デコーダ信号によシトラ
ンス7アゲート(6111〕(61b)は導通状態にな
っており1列デコーダ信号に工〕ワード線+11が’h
HIレベルになってスタティック製メモリセル(1)
が選択される。そして、書き込みドライバによりI/O
線(8a) (8b)に書き込み内容が伝えられると、
トランスファゲート(61a) (61b)及びビット
1m (2ta)(21b)を介してスタティック型メ
モリセル(1)に書き込まれることになる。この時の一
対のビット線(21,) (2tb)の電位は書き込み
内容に基づき、第4図(e)に示すように一方のビット
線の電位はそのままの状態を維持され、他方のビット線
の電位は低くされているものである。
一方、読み出し、Toるいは書き込みが選択されていな
い列のビット線の電位は、ワード線αjに接続さnてい
るスタティック型メモリセル(1)と同一行のスタティ
ックメモリセ〃の記憶内容がビット線に現われるため、
第4図(f)に示すように、読み出し時及び書き込み時
ともに一方がそのままであるものの他方が低下している
ものである。
い列のビット線の電位は、ワード線αjに接続さnてい
るスタティック型メモリセル(1)と同一行のスタティ
ックメモリセ〃の記憶内容がビット線に現われるため、
第4図(f)に示すように、読み出し時及び書き込み時
ともに一方がそのままであるものの他方が低下している
ものである。
従って、スタティック型メモリセルの読み出し。
おるいは書き込み後、ビット線及びI/O線(8a)(
8b)の電位が1Hルベルになるようにプリチャージし
ているものである。りま〕ワード線電位が%L1 レ
ベルになって、どのスタティック型メモリセルも選ばれ
ていない期間に、ビット線負荷制御信号、I/O線負荷
制御信号及びビット線イコライズ制御信号を% Hl
レベルにして、全ての列のビット線負荷及びI/O線
負荷(9a) (9b)t−導通状態にし、電源供給線
(4)からビット線及びI/O線(8a) (8b)
に電流が流れてプリチャージしているものである。
8b)の電位が1Hルベルになるようにプリチャージし
ているものである。りま〕ワード線電位が%L1 レ
ベルになって、どのスタティック型メモリセルも選ばれ
ていない期間に、ビット線負荷制御信号、I/O線負荷
制御信号及びビット線イコライズ制御信号を% Hl
レベルにして、全ての列のビット線負荷及びI/O線
負荷(9a) (9b)t−導通状態にし、電源供給線
(4)からビット線及びI/O線(8a) (8b)
に電流が流れてプリチャージしているものである。
しかるに、この様に構成された半導体記憶装置において
は、読み出し時には、内部のタイマによりワード線電位
の% HI レベル期間が制限されているため、第4
図(e)(f)に示されるようにビット線の電位低下が
少なく、ビット線及びI/O線のプリチャージ期間は短
かくてすむものの、書き込み時には、外部からの書き込
み信号によっでその期間が決まるため、書き込み信号が
長時間に亘る場合には第4図(e)(f)に示すように
、スタティック型メモリセルが選択されていない列のビ
ット線の電位も大きく低下してしまうため、プリチャー
ジ期間が長くなってしまうという問題を有するものであ
った。
は、読み出し時には、内部のタイマによりワード線電位
の% HI レベル期間が制限されているため、第4
図(e)(f)に示されるようにビット線の電位低下が
少なく、ビット線及びI/O線のプリチャージ期間は短
かくてすむものの、書き込み時には、外部からの書き込
み信号によっでその期間が決まるため、書き込み信号が
長時間に亘る場合には第4図(e)(f)に示すように
、スタティック型メモリセルが選択されていない列のビ
ット線の電位も大きく低下してしまうため、プリチャー
ジ期間が長くなってしまうという問題を有するものであ
った。
この発明は上記した点に鑑みてなされたものでTon、
プリチャージ時間が短縮できる半導体記憶装置を得るこ
とを目的とするものである。
プリチャージ時間が短縮できる半導体記憶装置を得るこ
とを目的とするものである。
この発明に係る半導体記憶装置は、電源供給線とビット
線との間に接続され、読み出し期間はオフ状態となさし
め、少なくとも書き込み期間及びプリチャージ期間はオ
ン状態となさしめるビット線負荷制御信号にてオン・オ
フ制御されるビット線負荷と、電源供給線とI/O線と
の間に接続され、読み出し期間及び書き込み期間はオフ
状態となさしめ、少なくともプリチャージ期間はオン状
態となさしめるI/O線負荷制御信号にてオン・オフ制
御されるI/O線負荷とを設けたものである。
線との間に接続され、読み出し期間はオフ状態となさし
め、少なくとも書き込み期間及びプリチャージ期間はオ
ン状態となさしめるビット線負荷制御信号にてオン・オ
フ制御されるビット線負荷と、電源供給線とI/O線と
の間に接続され、読み出し期間及び書き込み期間はオフ
状態となさしめ、少なくともプリチャージ期間はオン状
態となさしめるI/O線負荷制御信号にてオン・オフ制
御されるI/O線負荷とを設けたものである。
この発明においては、読み出し時には、ビット線負荷制
御信号及びI/O線負荷制御信号によシビット線負荷及
びI/O線負荷がオフ状態となってビット線及びI/O
線が電源供給線から切り離され選択されたスタティック
製メモリセルの記憶内容をビット線に速やかに読み出さ
せ、書き込み時には、ビット線負荷制御信号によフビッ
ト線負荷がオン状態となりI/O線負荷制御信号によシ
I/O線負荷がオフ状態となって選択されたスタティッ
ク型メモリセルに記憶内容が速やかに書き込めるととも
に1選択されたスタティック型メモリセルが配設された
列以外の列に配設されたビット線の電位の低下を抑制せ
しめ、プリチャージ期間には、ビット線負荷制御信号及
びI/O線負荷制御信号によりビット線負荷及びI/O
線負荷が門ン状態となってビット線及びI /、0線が
電源供給線から速やかにプリチャージさせることになる
。
御信号及びI/O線負荷制御信号によシビット線負荷及
びI/O線負荷がオフ状態となってビット線及びI/O
線が電源供給線から切り離され選択されたスタティック
製メモリセルの記憶内容をビット線に速やかに読み出さ
せ、書き込み時には、ビット線負荷制御信号によフビッ
ト線負荷がオン状態となりI/O線負荷制御信号によシ
I/O線負荷がオフ状態となって選択されたスタティッ
ク型メモリセルに記憶内容が速やかに書き込めるととも
に1選択されたスタティック型メモリセルが配設された
列以外の列に配設されたビット線の電位の低下を抑制せ
しめ、プリチャージ期間には、ビット線負荷制御信号及
びI/O線負荷制御信号によりビット線負荷及びI/O
線負荷が門ン状態となってビット線及びI /、0線が
電源供給線から速やかにプリチャージさせることになる
。
以下にこの発明の一実施例を第1図に基づいて説明する
と1図において(+ta) (31b)は各列に配設さ
れたビット線と電源供給線(4)との間に接続されるn
対のうちの一対のビット線負荷で、ビット線負荷制御線
(5]に現わルる。第2図(e)に示すように読み出し
期間がオフ状態となさしめ、少なくとも書き込み期間及
びプリチャージ期間がオン状態となさしめるビット線負
荷制御信号によタオン・オフ制御されるものであり、そ
のオン時の抵抗は。
と1図において(+ta) (31b)は各列に配設さ
れたビット線と電源供給線(4)との間に接続されるn
対のうちの一対のビット線負荷で、ビット線負荷制御線
(5]に現わルる。第2図(e)に示すように読み出し
期間がオフ状態となさしめ、少なくとも書き込み期間及
びプリチャージ期間がオン状態となさしめるビット線負
荷制御信号によタオン・オフ制御されるものであり、そ
のオン時の抵抗は。
スタティック型メモリセルに書き込むためのt′@込み
ドライバ(図示せず)の抵抗よシ大きいとともに、ワー
ド線の電位がηVレベルのときのこのワード線に接続さ
れたスタティック型メモリセルのビットaと接地線との
抵抗より小さく設定されているものである。(9a)
(9b)は一対のI/O線(8a) (8b) と電
源供給線(4)との間に接続される一対のl/O5負荷
で、工/O線制御線αQに現われる。第2図(d)に示
すように読み出し期間及び書き込み期間がオフ状態とな
さしめ、少なくとも・プリチャージ期間がオン状態とな
さしめるI/O線負荷制御信号にてオン・オフ制御され
るものであり。
ドライバ(図示せず)の抵抗よシ大きいとともに、ワー
ド線の電位がηVレベルのときのこのワード線に接続さ
れたスタティック型メモリセルのビットaと接地線との
抵抗より小さく設定されているものである。(9a)
(9b)は一対のI/O線(8a) (8b) と電
源供給線(4)との間に接続される一対のl/O5負荷
で、工/O線制御線αQに現われる。第2図(d)に示
すように読み出し期間及び書き込み期間がオフ状態とな
さしめ、少なくとも・プリチャージ期間がオン状態とな
さしめるI/O線負荷制御信号にてオン・オフ制御され
るものであり。
そのオン時の抵抗は上記ビット線負荷のオン時の抵抗よ
り小さく設定されているものである。
り小さく設定されているものである。
次に、この様に構成された半導体記憶装置の動作につい
て説明する。まず、スタティック凰メモリセル(1)の
記憶内容を読み出す場合には、第2図に示すタイミング
図から明らかなように読み出し期間においては第3図及
び第4図に示したものと同じであるので、同様に読み出
されるものである。
て説明する。まず、スタティック凰メモリセル(1)の
記憶内容を読み出す場合には、第2図に示すタイミング
図から明らかなように読み出し期間においては第3図及
び第4図に示したものと同じであるので、同様に読み出
されるものである。
また、スタティック型メモリセル(1)に記憶内存を書
き込む場合には、第2図に示すようにI/O線負荷制御
信号がゝゝLIレベルであるからI/O線負荷(9a)
(9b)はオフ状態となってI/O線(8a)(8b
)は電源供給線(4)と切り離され、ビット線負荷制御
信号が′H″レベルであるから各列に配設されたビット
線負荷はオン状態となっている。この時。
き込む場合には、第2図に示すようにI/O線負荷制御
信号がゝゝLIレベルであるからI/O線負荷(9a)
(9b)はオフ状態となってI/O線(8a)(8b
)は電源供給線(4)と切り離され、ビット線負荷制御
信号が′H″レベルであるから各列に配設されたビット
線負荷はオン状態となっている。この時。
ビット線負荷のオン抵抗はスタティック型メモリセルの
′Llレベル側となるビット線と接地電位線との間のオ
ン抵抗より小さくかつ、書き込みドライバの抵抗より大
きくなっているため、第2図(r)に示すように選択さ
れたスタティック型メモリセル(1]の低レベル側とな
す方に接続されるビット線は余裕をもって%Llレベル
になってスタティック型メモリセルに書き込みドライバ
からの記憶内容に応じた記憶内容が書き込まれることに
なる。一方1選択されたスタティック型メモリセル(1
)が配設されていない列のビット線はビット線負荷がオ
ン状態となっているため、これらの列におけるワード線
a1に接続されたスタティック型メモリセルの低レベル
側に接続されるビット線の電位は、第2図−)に示すよ
うにそれ程低下しないものである。
′Llレベル側となるビット線と接地電位線との間のオ
ン抵抗より小さくかつ、書き込みドライバの抵抗より大
きくなっているため、第2図(r)に示すように選択さ
れたスタティック型メモリセル(1]の低レベル側とな
す方に接続されるビット線は余裕をもって%Llレベル
になってスタティック型メモリセルに書き込みドライバ
からの記憶内容に応じた記憶内容が書き込まれることに
なる。一方1選択されたスタティック型メモリセル(1
)が配設されていない列のビット線はビット線負荷がオ
ン状態となっているため、これらの列におけるワード線
a1に接続されたスタティック型メモリセルの低レベル
側に接続されるビット線の電位は、第2図−)に示すよ
うにそれ程低下しないものである。
一方、読み出し期間後のプリチャージは、第2図(eX
f)に示すようにビット線の電位の低下が少ないので、
ビット線負荷制御信号及びI/O線負荷制御信号が共に
NHIレベルになってビット線負荷及びI/O線負荷(
9m) (9b)がオン状態となると。
f)に示すようにビット線の電位の低下が少ないので、
ビット線負荷制御信号及びI/O線負荷制御信号が共に
NHIレベルになってビット線負荷及びI/O線負荷(
9m) (9b)がオン状態となると。
速やかに短時間でビット線及びI /O線(8a) (
8b)がプリチャージされるものである。また、書き込
み期間後のプリチャージは、第2図(f)に示すように
選択されたスタティック型メモリセル(1)が配設され
ていない(n−1)列のビット線の電位の低下が少ない
ので、ビット線負荷制御信号及びI/O線負荷制御信号
が共に′Hルベルになってビット線負荷及びI/O線負
荷(9a) (9b)がオン状態になると、速やかに短
時間でビット線及びI/O線(8m) (8b) が
プリチャージされるものである。しかも、上記した(n
−1)列のビット線の電位の低下も小さいため、プリチ
ャージ期間における過渡電流も小さく抑えられるため、
過渡電流に基づく雑音発生も抑制できるものである。
8b)がプリチャージされるものである。また、書き込
み期間後のプリチャージは、第2図(f)に示すように
選択されたスタティック型メモリセル(1)が配設され
ていない(n−1)列のビット線の電位の低下が少ない
ので、ビット線負荷制御信号及びI/O線負荷制御信号
が共に′Hルベルになってビット線負荷及びI/O線負
荷(9a) (9b)がオン状態になると、速やかに短
時間でビット線及びI/O線(8m) (8b) が
プリチャージされるものである。しかも、上記した(n
−1)列のビット線の電位の低下も小さいため、プリチ
ャージ期間における過渡電流も小さく抑えられるため、
過渡電流に基づく雑音発生も抑制できるものである。
従って、上記実施例のものにおいては、安定な読み出し
及び書き込みができるとともに、プリチャージが速やか
に短時間に行なえ、高速動作が可能となるものである。
及び書き込みができるとともに、プリチャージが速やか
に短時間に行なえ、高速動作が可能となるものである。
なお、上記実施例においては、ピッ)!負荷(31a)
(31b) −−1/ O線負荷(9a) (9b)
及U ヒフ )線イコライズトランジスタαυを各制
御信号が1HルベルでON状態となるNチャンネルMO
8)ランジスタを使用するようにしたが、Pチャンネル
MO8)ランジスタを使用してもよいものであり。
(31b) −−1/ O線負荷(9a) (9b)
及U ヒフ )線イコライズトランジスタαυを各制
御信号が1HルベルでON状態となるNチャンネルMO
8)ランジスタを使用するようにしたが、Pチャンネル
MO8)ランジスタを使用してもよいものであり。
この場合には各制御信号が逆相となるものである。
この発明は以上に述べたよりに、ビット線負荷を、読み
出し期間はオフ状態となさしめ、少なくとも書き込み期
間及びプリチャージ期間はオン状態となさしめるビット
線負荷制御信号によりオン・オフ制御し、I/O線負荷
を、読み出し期間及び書き込み期間はオフ状態となさし
め、少なくともプリチャージ期間はオン状態となさしめ
るI/O線負荷制御信号によタオン・オフ制御した・も
のとしたので、書き込み期間において0選択されたスタ
ティック型メモリセルが配設されていない列のビット線
の電位の低下を抑制でき、書き込み期間後のプリチャー
ジ期間を短縮でき、高速化が可能となる効果がある。
出し期間はオフ状態となさしめ、少なくとも書き込み期
間及びプリチャージ期間はオン状態となさしめるビット
線負荷制御信号によりオン・オフ制御し、I/O線負荷
を、読み出し期間及び書き込み期間はオフ状態となさし
め、少なくともプリチャージ期間はオン状態となさしめ
るI/O線負荷制御信号によタオン・オフ制御した・も
のとしたので、書き込み期間において0選択されたスタ
ティック型メモリセルが配設されていない列のビット線
の電位の低下を抑制でき、書き込み期間後のプリチャー
ジ期間を短縮でき、高速化が可能となる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例を示す要部概略ブロック図
、第2図は第1図のものの各部におけるタイミング図、
第3図は従来の半導体記憶装置を示す要部概略ブロック
図、第4図は第3図のものの各部におけるタイミング図
である。 図において口)はスタティック屋メモリセル8(21m
) (21b)はビット線、 (3ta) (31b
)はビット線負荷、(増は電源供給線−(6tm) (
slb)はトランスファゲート、 (8m) (8b)
はr/O線、 (9m) (9b)はI/O線負荷、a
lはワード線である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
、第2図は第1図のものの各部におけるタイミング図、
第3図は従来の半導体記憶装置を示す要部概略ブロック
図、第4図は第3図のものの各部におけるタイミング図
である。 図において口)はスタティック屋メモリセル8(21m
) (21b)はビット線、 (3ta) (31b
)はビット線負荷、(増は電源供給線−(6tm) (
slb)はトランスファゲート、 (8m) (8b)
はr/O線、 (9m) (9b)はI/O線負荷、a
lはワード線である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)m行n列にマトリクス状に配設された(m×n)
個のメモリセル、各列にそれぞれ配設され、それぞれが
列に配設されたm個のメモリセルと接続されるビット線
、各列にそれぞれ配設され、それぞれがその列のビット
線と電源供給線との間に接続され、読み出し期間はオフ
状態となさしめ、少なくとも書き込み期間及びプリチヤ
ージ期間はオン状態となさしめるビット線負荷制御信号
にてオン・オフ制御されるビット線負荷、各列に配設さ
れたビット線それぞれとトランスファゲートを介して接
続されるI/O線、このI/O線と上記電源供給線との
間に接続され、読み出し期間及び書き込み期間はオフ状
態となさしめ、少なくともプリチヤージ期間はオン状態
となさしめるI/O線負荷制御信号にてオン・オフ制御
されるI/O負荷、各行にそれぞれ配設され、それぞれ
が行に配設されたn個のメモリセルと接続されるワード
線を備えた半導体記憶装置。 - (2)ビット線負荷のオン抵抗が、メモリセルに記憶内
容を書き込むための書き込みドライバの抵抗より大きく
、メモリセルのビット線と接地線との間のオン抵抗より
小さいものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の半導体記憶装置。 - (3)I/O線負荷のオン抵抗が、ビット線負荷のオン
抵抗より小さいものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項又は第2項記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60130204A JPS61287095A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60130204A JPS61287095A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61287095A true JPS61287095A (ja) | 1986-12-17 |
JPH0453037B2 JPH0453037B2 (ja) | 1992-08-25 |
Family
ID=15028580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60130204A Granted JPS61287095A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61287095A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61227288A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-09 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
-
1985
- 1985-06-13 JP JP60130204A patent/JPS61287095A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61227288A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-09 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0453037B2 (ja) | 1992-08-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950009877B1 (ko) | 복수의 셀블록으로 분할된 셀어레이를 구비한 반도체 기억장치 | |
US8379436B2 (en) | Semiconductor memory device | |
JPS5951072B2 (ja) | 半導体メモリ装置 | |
KR19980080153A (ko) | 고속 기입 회복을 하는 메모리 장치 및 고속 기입회복 방법 | |
CA1252564A (en) | Dynamic memory with increased data retention time | |
CN117497023A (zh) | 感应放大器及其控制方法、存储阵列结构及存储器 | |
JPS639098A (ja) | デ−タ伝送回路 | |
US4433393A (en) | Semiconductor memory device | |
JPS61287095A (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR100318464B1 (ko) | 재쓰기회로를갖는스태틱램디바이스 | |
JPS6196588A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS6299976A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS6235191B2 (ja) | ||
JPS5819791A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS6299975A (ja) | 半導体記憶回路 | |
JPH0461438B2 (ja) | ||
JPS6218992B2 (ja) | ||
JPS598910B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR100280493B1 (ko) | 반도체 메모리 회로 | |
KR20000003648A (ko) | 센싱 전류의 소모를 줄이는 반도체 메모리 장치 | |
JPS60154393A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2549235B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS60234292A (ja) | Mosスタテイツク型ram | |
JPH07312089A (ja) | 半導体記憶装置、及びデータ処理装置 | |
JPS59198595A (ja) | Eprom装置 |