JPS6126042A - ホログラフイツクグレ−テイングの製造方法 - Google Patents
ホログラフイツクグレ−テイングの製造方法Info
- Publication number
- JPS6126042A JPS6126042A JP14717884A JP14717884A JPS6126042A JP S6126042 A JPS6126042 A JP S6126042A JP 14717884 A JP14717884 A JP 14717884A JP 14717884 A JP14717884 A JP 14717884A JP S6126042 A JPS6126042 A JP S6126042A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- coating
- coated
- substrate
- processing agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は、フォトレジストを用いたホログラフィ、クグ
レーティン（の製造方法に関する。
レーティン（の製造方法に関する。
（従来技術）
フォトレジストを用いたホログラフィックグレーティン
グにおいて、フォトレジストの耐湿性（密着性が向上す
るという意味では耐久性）を向上させるために、ヘキサ
メチルジンラザン、シランカップリング剤、チタンカッ
プリング剤等の処理剤が用いられている。即ち、基板の
上に先ず、か＼る処理剤を塗布し、次いで、この処理剤
の上に、既知の回転スピナーを用いてフォトレジストを
塗布するのであるが、この場合、処理剤とフォトレジス
トの各塗布開始位置の設定の仕方によっては、塗布欠陥
を生じ、均一な塗布膜が得がたくなる。
グにおいて、フォトレジストの耐湿性（密着性が向上す
るという意味では耐久性）を向上させるために、ヘキサ
メチルジンラザン、シランカップリング剤、チタンカッ
プリング剤等の処理剤が用いられている。即ち、基板の
上に先ず、か＼る処理剤を塗布し、次いで、この処理剤
の上に、既知の回転スピナーを用いてフォトレジストを
塗布するのであるが、この場合、処理剤とフォトレジス
トの各塗布開始位置の設定の仕方によっては、塗布欠陥
を生じ、均一な塗布膜が得がたくなる。
このことは、ひいてはホログラムの撮影感度ムラが増大
することとなシ、ホログラフィックグレーティングの散
乱ノーイズが増大してしまう。そして、散乱ノイズの増
大は画像の乱れとなって表れるのである。
することとなシ、ホログラフィックグレーティングの散
乱ノーイズが増大してしまう。そして、散乱ノイズの増
大は画像の乱れとなって表れるのである。
（目 的）
本発明の目的は、ホログラフ仁、ノグレーティングの散
乱ノイズを低減化することのできる、ホログラフイック
グレー°ティングの製造方法を提供することにある。
乱ノイズを低減化することのできる、ホログラフイック
グレー°ティングの製造方法を提供することにある。
（構 成）
本発明について、以下、実施例に基づき説明する。
第１図において、符号１はディスク状の基板を、０は回
転スピナーの回転中心を、Ａは処理剤の塗布開始位置を
、Ｂはフォトレジストの塗布開始位置をそれぞれ示して
いる。
転スピナーの回転中心を、Ａは処理剤の塗布開始位置を
、Ｂはフォトレジストの塗布開始位置をそれぞれ示して
いる。
ここで、本発明の特徴とするところは、回転スピナーの
回転中心Ｏから、処理剤の塗布開始位置Ａまでの距離を
ｒｌ とし、回転中心０から、フォトレジストの塗布開
始位置Ｂまでの距離をｒｚとするものとして、ｒ１≦ｒ
２なる条件を満足するように、フォトレジストを塗布す
る点にある。
回転中心Ｏから、処理剤の塗布開始位置Ａまでの距離を
ｒｌ とし、回転中心０から、フォトレジストの塗布開
始位置Ｂまでの距離をｒｚとするものとして、ｒ１≦ｒ
２なる条件を満足するように、フォトレジストを塗布す
る点にある。
第２−は、基板１の中心に孔１ａを設けた基板例を、第
３図はその断面図をそれぞれ示していて、基板１の上に
は先ず処理剤２瀘塗布され、この上にはフォトレジスト
３が塗布される。このあと、ホログラムを記録し、次い
で現像工程を経てホログラフィックグレーティングが作
製される。なお、基板１については、必ずしも中心孔１
ａを設けたものでなくてもよく、また、形状についても
、必ずしもミディスク状のものでなくてもよい。
３図はその断面図をそれぞれ示していて、基板１の上に
は先ず処理剤２瀘塗布され、この上にはフォトレジスト
３が塗布される。このあと、ホログラムを記録し、次い
で現像工程を経てホログラフィックグレーティングが作
製される。なお、基板１については、必ずしも中心孔１
ａを設けたものでなくてもよく、また、形状についても
、必ずしもミディスク状のものでなくてもよい。
ところで、処理剤２としては、例えば、ヘキサメチルジ
シラザン、シランカップリング剤、チタンカップリング
剤等を挙げることができる。また、この種の処理剤の塗
布方法としては、蒸着法、浸漬塗布法、スピンコード法
等のいずれかの方法を挙げることができる。
シラザン、シランカップリング剤、チタンカップリング
剤等を挙げることができる。また、この種の処理剤の塗
布方法としては、蒸着法、浸漬塗布法、スピンコード法
等のいずれかの方法を挙げることができる。
処理剤の塗布開始位置については、特に制限を受けない
が、第２図に示す例のように、基板１に中心孔１ａが設
けられるものでは、中心孔の内周よシも外側ということ
になる。この場合、塗布方法として、スピンコード法を
゛採用し、中心孔１ａの内周と、塗布開始位置とを一致
させるものとすると、孔のパリニよって放射状のスジム
ラが発生し易くなる。この点に鑑みて、塗布開始位置を
中心孔１ａの内周よシも外側に設定することの方が、上
述の弊害を除去する意味にお込て有利である。なお、か
＼る処理剤は、先にも述べたように、湿度等に対するフ
ォトレジストの耐久性の向上、フォトレジストの密着性
の向上等を図り得る機能を達成する。特に、この種のフ
ォトレジストについては、高湿度となると、ひび割れな
どを生じ、湿度に対する耐久性が要求されるのである。
が、第２図に示す例のように、基板１に中心孔１ａが設
けられるものでは、中心孔の内周よシも外側ということ
になる。この場合、塗布方法として、スピンコード法を
゛採用し、中心孔１ａの内周と、塗布開始位置とを一致
させるものとすると、孔のパリニよって放射状のスジム
ラが発生し易くなる。この点に鑑みて、塗布開始位置を
中心孔１ａの内周よシも外側に設定することの方が、上
述の弊害を除去する意味にお込て有利である。なお、か
＼る処理剤は、先にも述べたように、湿度等に対するフ
ォトレジストの耐久性の向上、フォトレジストの密着性
の向上等を図り得る機能を達成する。特に、この種のフ
ォトレジストについては、高湿度となると、ひび割れな
どを生じ、湿度に対する耐久性が要求されるのである。
一方、フォトレジストとしては、ポジ型フォトレジスト
やネガ型フォトどシストなどを、−その例として挙げる
ことができる。フォトレジストの塗布は、回転スピナー
を用いるスピンコード法テ行なわれ、その塗布の開始位
置は、第３図に示すように、処理剤２゜の塗布開始位置
Ａよシも外側のＢ位置に設定される。即ち、ｒ１≦ｒ２
なる条件でフォトレジストが塗布されるのである。
やネガ型フォトどシストなどを、−その例として挙げる
ことができる。フォトレジストの塗布は、回転スピナー
を用いるスピンコード法テ行なわれ、その塗布の開始位
置は、第３図に示すように、処理剤２゜の塗布開始位置
Ａよシも外側のＢ位置に設定される。即ち、ｒ１≦ｒ２
なる条件でフォトレジストが塗布されるのである。
ここで、本発明者らが、処理剤ならびにフォトレジスト
の各塗布開始位置を変えて行なった実験の結果について
以下に記す。
の各塗布開始位置を変えて行なった実験の結果について
以下に記す。
先ず、厚す３％、外径９０％、中心孔径２８％のガラス
基板に、周知の回転スピナーを用いて、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシランの°０．１重量％イソプロ
ピルアルコール溶液を塗布した。
基板に、周知の回転スピナーを用いて、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシランの°０．１重量％イソプロ
ピルアルコール溶液を塗布した。
この塗布状態で、１２０℃、２０分間、熱処理を行なっ
た後、ｒ（＞ ｒｚ （例＋ ｒｓ−２０Ａ Ｎ ｒｚ
−１６％ ）なる条件にて、回転スピナーを用い、ポジ
型フォトレジストをさらに塗布した。
た後、ｒ（＞ ｒｚ （例＋ ｒｓ−２０Ａ Ｎ ｒｚ
−１６％ ）なる条件にて、回転スピナーを用い、ポジ
型フォトレジストをさらに塗布した。
この塗布状態で、９０℃、３０分間、プリベークした後
、塗布面の表面状態を、干渉顕微鏡、第４図に示す簡易
型散乱光測定器および表面アラサ計等を用いて観察した
。なお、第４図において、符号４は基板１の回転用のス
テッピングモータであシ、５はレーザビームを通過させ
、散乱成分のみを捕捉する、特殊仕様のフォトダイオー
ドである。
、塗布面の表面状態を、干渉顕微鏡、第４図に示す簡易
型散乱光測定器および表面アラサ計等を用いて観察した
。なお、第４図において、符号４は基板１の回転用のス
テッピングモータであシ、５はレーザビームを通過させ
、散乱成分のみを捕捉する、特殊仕様のフォトダイオー
ドである。
条件をｒｌ ＞ ｒｚとする、以上の実験結果によれば
、塗布面の凹凸が大きくかつその凹凸数が多いこと、散
乱光強度が大なることがわかった。
、塗布面の凹凸が大きくかつその凹凸数が多いこと、散
乱光強度が大なることがわかった。
さらに、このディスク基板に、格子本数１８００’！”
７１１ｍのホログラフィックグレーティングを作製した
後、波長７９０ｎｍの半導体レーザーで再生したところ
、平均回折効率が６０％、散乱ノイズ成分が８％であっ
た。なお、このような結果は、処理剤として、ヘキサメ
チルジシラザンやテトライソプロホキシチタン等をｍ４
て実施した場合でも、同様に得られてｂる。′ これに対し、本発明の条件であるｒｌ≦ｒ２を前提とし
て、この条件を満足し得るように、処理剤やフォトレジ
ストをそれぞれ塗布するなどして、前述した実験と同じ
実験を行なったところ、塗膜の状態としては目視によっ
ても明らかに良好となり、干渉顕微鏡のパターンからも
、凹凸が殆どないことがわかった。
７１１ｍのホログラフィックグレーティングを作製した
後、波長７９０ｎｍの半導体レーザーで再生したところ
、平均回折効率が６０％、散乱ノイズ成分が８％であっ
た。なお、このような結果は、処理剤として、ヘキサメ
チルジシラザンやテトライソプロホキシチタン等をｍ４
て実施した場合でも、同様に得られてｂる。′ これに対し、本発明の条件であるｒｌ≦ｒ２を前提とし
て、この条件を満足し得るように、処理剤やフォトレジ
ストをそれぞれ塗布するなどして、前述した実験と同じ
実験を行なったところ、塗膜の状態としては目視によっ
ても明らかに良好となり、干渉顕微鏡のパターンからも
、凹凸が殆どないことがわかった。
また、表面アラサ計のパターンも、表示が０．０１μｍ
以下の平滑さを有していることを示し、散乱光強度も、
前者の条件（ｒｌ＞ｒｚ）の場合と比して、’／１００
以下となった。さらに、ホログラフィックグレーティン
グの平均回折効率は６５％、散乱ノイズ成分は０．２％
というように、大幅に減少した。
以下の平滑さを有していることを示し、散乱光強度も、
前者の条件（ｒｌ＞ｒｚ）の場合と比して、’／１００
以下となった。さらに、ホログラフィックグレーティン
グの平均回折効率は６５％、散乱ノイズ成分は０．２％
というように、大幅に減少した。
（効 果）
以上、本発明のホログラクイックレーティングの製造方
法によれば、散乱ノイズを低減化できる、ホログラフィ
ックグレーティングを得ることができる。なお、この発
明方法によって作製せられるホログラフィックグレーテ
ィングについては、１例として、レーザープリンタ用の
ホログラムスキャナやＰＯ８用バーコードリーダなどに
供することができる。
法によれば、散乱ノイズを低減化できる、ホログラフィ
ックグレーティングを得ることができる。なお、この発
明方法によって作製せられるホログラフィックグレーテ
ィングについては、１例として、レーザープリンタ用の
ホログラムスキャナやＰＯ８用バーコードリーダなどに
供することができる。
第１図は本発明において処理剤ならびにフォトレジスト
の各塗布開始位置の相互設定関係を説明するだめの図、
第２図は本発明方法によって作製されるディスク状基板
の平面図、第３図は処理剤ならびにフォトレジストを塗
布したディスク状基板の断面図、第４図は基板上のフォ
トレジストに対する散乱光強度の測定方式を示す図であ
る。 １・・・基板、２・・・処理剤、３・・・フォトレジス
トゎ手続補正書 昭和５９年１０月１１日
の各塗布開始位置の相互設定関係を説明するだめの図、
第２図は本発明方法によって作製されるディスク状基板
の平面図、第３図は処理剤ならびにフォトレジストを塗
布したディスク状基板の断面図、第４図は基板上のフォ
トレジストに対する散乱光強度の測定方式を示す図であ
る。 １・・・基板、２・・・処理剤、３・・・フォトレジス
トゎ手続補正書 昭和５９年１０月１１日
Claims (1)
- 基板に対してフォトレジストを形成するに際し、このフ
ォトレジストの耐湿性等向上用の処理剤を前記基板に塗
布し、この塗布後、当該処理剤の上に回転スピナーを用
いてフォトレジストを塗布し、次いで、ホログラムを記
録し、さらに、現像する工程を含むホログラフィックグ
レーティングの製造方法において、回転スピナーの回転
中心から、処理剤の塗布開始位置までの距離をｒ＿１と
し、回転スピナーの回転中心から、フォトレジストの塗
布開始位置までの距離をｒ＿２とし、ｒ＿１≦ｒ＿２な
る条件にて、フォトレジストを塗布することを特徴とす
るホログラフィックグレーティングの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14717884A JPS6126042A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | ホログラフイツクグレ−テイングの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14717884A JPS6126042A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | ホログラフイツクグレ−テイングの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6126042A true JPS6126042A (ja) | 1986-02-05 |
Family
ID=15424343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14717884A Pending JPS6126042A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | ホログラフイツクグレ−テイングの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6126042A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5322747A (en) * | 1989-03-22 | 1994-06-21 | Hugle William B | Method of manufacturing an optical disc |
-
1984
- 1984-07-16 JP JP14717884A patent/JPS6126042A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5322747A (en) * | 1989-03-22 | 1994-06-21 | Hugle William B | Method of manufacturing an optical disc |
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