JPS62231901A - ブレ−ズド回折格子の製造方法 - Google Patents
ブレ−ズド回折格子の製造方法Info
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- JPS62231901A JPS62231901A JP7474586A JP7474586A JPS62231901A JP S62231901 A JPS62231901 A JP S62231901A JP 7474586 A JP7474586 A JP 7474586A JP 7474586 A JP7474586 A JP 7474586A JP S62231901 A JPS62231901 A JP S62231901A
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- Japan
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- diffraction grating
- ion etching
- photoresist
- holographic
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Links
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- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 29
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ブレーズド回折格子の製造方法に関するもの
である。
である。
従来の技術
ホログラフインク回折格子は、その光学特性を改善する
ために、鋸歯状に加工して、ブレーズド回折格子として
用いることが多い。
ために、鋸歯状に加工して、ブレーズド回折格子として
用いることが多い。
以下図面を参照しながら、上述した従来のブレーズド回
折格子の製造方法の一例について説明する。
折格子の製造方法の一例について説明する。
第２図は従来のブレーズド回折格子の製造方法を示すも
のである。第２図において、基板１１の上にホトレジス
トよりもイオンエツチングレートが大きい値を有するベ
ース材料１２を塗布し、前記ベース材料１２の上にホト
レジスト１３を塗布した後、二光束干渉法ホログラフィ
ック露光により、所要の間隔をもったホログラフィック
回折格子１４をマスクとして、基板面に対して格子溝に
平行な方向を回転軸とする。斜め方向からイオンビーム
１５を照射し、前記ベース材をエツチングして鋸歯状の
格子溝をもつブレーズド回折格子１６を得る。（例えば
、特開昭５５−４０８４６号公報）発明が解決しようと
する問題点 しかしながら上記のような製造方法では、ホトレジスト
は樹脂系の材質からなるベース材料の上にスピンナーな
どで塗布されるため、摩擦係数の小さい鏡面研摩された
ガラスなどの基板上に塗布する場合と異なり、その厚み
が厚くなり、ホログラフインク露光によって得られるホ
ログラフィック回折格子の溝の部分かベース材にまで到
達しない。
のである。第２図において、基板１１の上にホトレジス
トよりもイオンエツチングレートが大きい値を有するベ
ース材料１２を塗布し、前記ベース材料１２の上にホト
レジスト１３を塗布した後、二光束干渉法ホログラフィ
ック露光により、所要の間隔をもったホログラフィック
回折格子１４をマスクとして、基板面に対して格子溝に
平行な方向を回転軸とする。斜め方向からイオンビーム
１５を照射し、前記ベース材をエツチングして鋸歯状の
格子溝をもつブレーズド回折格子１６を得る。（例えば
、特開昭５５−４０８４６号公報）発明が解決しようと
する問題点 しかしながら上記のような製造方法では、ホトレジスト
は樹脂系の材質からなるベース材料の上にスピンナーな
どで塗布されるため、摩擦係数の小さい鏡面研摩された
ガラスなどの基板上に塗布する場合と異なり、その厚み
が厚くなり、ホログラフインク露光によって得られるホ
ログラフィック回折格子の溝の部分かベース材にまで到
達しない。
したがって、イオンビームにより前記ホログラフィック
回折格子をイオンエツチングした時、ホトレジストだけ
が先にエツチングされて、ベース材がイオンエツチング
される時には前記ホログラフィック回折格子の形に崩れ
て、ベース材の鋸歯状の加工は浅い形状になってしまい
、効率が悪くなってしまうという問題があった。
回折格子をイオンエツチングした時、ホトレジストだけ
が先にエツチングされて、ベース材がイオンエツチング
される時には前記ホログラフィック回折格子の形に崩れ
て、ベース材の鋸歯状の加工は浅い形状になってしまい
、効率が悪くなってしまうという問題があった。
本発明は上記問題点を考慮し、ベース材を用いた場合に
おいて、深くて形の良い鋸歯状のホログラフィック回折
格子を提供するものである。
おいて、深くて形の良い鋸歯状のホログラフィック回折
格子を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明のブレーズド回折格
子の製造方法は、平面基板上に第１のネガ型のホトレジ
ストを塗布する工程と、前記ネガ型のホトレジスト上に
、前記ネガ型のホトレジストよりもイオンエツチング速
度の遅い第２のポジ型のホトレジストを塗布する工程と
、塗布された第２のポジ型のホトレジスト膜にホログラ
フィック回折格子を形成する工程と、前記回折格子をマ
スクとして基板面に対して格子溝に平行な方向を回転軸
とする、斜め方向からイオンエツチングする工程とを具
備したものである。
子の製造方法は、平面基板上に第１のネガ型のホトレジ
ストを塗布する工程と、前記ネガ型のホトレジスト上に
、前記ネガ型のホトレジストよりもイオンエツチング速
度の遅い第２のポジ型のホトレジストを塗布する工程と
、塗布された第２のポジ型のホトレジスト膜にホログラ
フィック回折格子を形成する工程と、前記回折格子をマ
スクとして基板面に対して格子溝に平行な方向を回転軸
とする、斜め方向からイオンエツチングする工程とを具
備したものである。
作用
本発明は上記した、垂直イオンエツチングと斜めイオン
エツチングとを組み合せた製造方法によって、深く形の
良いブレーズド回折格子を得ることができる。
エツチングとを組み合せた製造方法によって、深く形の
良いブレーズド回折格子を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例のブレーズド回折格子の製造方法
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例を示すブレーズドホログラフイ
ンク回折格子の製造方法を示す図である。
ンク回折格子の製造方法を示す図である。
第１図において基板１の上にホトレジストよりもイオン
エツチングレートが大きい値を有するベース材料として
ネガ型のホトレジスト２を塗布し、前記ネガ型のホトレ
ジスト２の上にホトレジスト３を塗布した後、三光束干
渉法ホログラフィック露光により、所要の間隔をもった
正弦波状のホログラフインク回折格子４を得た後、前記
正弦波状のホログラフィック回折格子４を基板面に対し
て垂直な方向からイオンビーム５を照射してホログラフ
ィック回折格子６を得る。
エツチングレートが大きい値を有するベース材料として
ネガ型のホトレジスト２を塗布し、前記ネガ型のホトレ
ジスト２の上にホトレジスト３を塗布した後、三光束干
渉法ホログラフィック露光により、所要の間隔をもった
正弦波状のホログラフインク回折格子４を得た後、前記
正弦波状のホログラフィック回折格子４を基板面に対し
て垂直な方向からイオンビーム５を照射してホログラフ
ィック回折格子６を得る。
前記ホログラフィック回折格子６をマスクとして前記ベ
ース材を、基板面に対して格子溝に平行な方向を回転軸
とする。斜め方向からイオンビーム７を照射し、前記ベ
ース材をエツチングして鋸歯状の格子溝をもつブレーズ
ド回折格子８を得る。
ース材を、基板面に対して格子溝に平行な方向を回転軸
とする。斜め方向からイオンビーム７を照射し、前記ベ
ース材をエツチングして鋸歯状の格子溝をもつブレーズ
ド回折格子８を得る。
以下、本発明の詳細な説明する。
ガラス基板上に東京応化工業社のネガ型のホトレジスト
（ＯＥＢＲ−１００）を２５００ｒｍｓの回転スピード
で約２μｍ塗布し、紫外線により全面露光をおこなった
。
（ＯＥＢＲ−１００）を２５００ｒｍｓの回転スピード
で約２μｍ塗布し、紫外線により全面露光をおこなった
。
ベース材にネガ型のレジストを用いることの利点は、上
に塗布するポジ型のホトレジストをホログラフィック露
光の後、現像液に浸しても完全に硬化しているために、
何等影響を受けない所にある。
に塗布するポジ型のホトレジストをホログラフィック露
光の後、現像液に浸しても完全に硬化しているために、
何等影響を受けない所にある。
前記ネガ型のレジストの上からシブレー社のポジ型のホ
トレジスト （マイクロポジット１３００）を５００Ｏ
ｒｐｍの回転スピードで約１．５μｍ塗布した後、レー
ザ光によりホログラフインク露光を行い、９００本／ｌ
鳳の溝数をもつ正弦波のホログラフインク回折格子を得
た。
トレジスト （マイクロポジット１３００）を５００Ｏ
ｒｐｍの回転スピードで約１．５μｍ塗布した後、レー
ザ光によりホログラフインク露光を行い、９００本／ｌ
鳳の溝数をもつ正弦波のホログラフインク回折格子を得
た。
前記正弦波のホログラフインク回折格子をリアクチブ・
イオンビームエツチング装置を用いて、垂直イオンエツ
チングを１０分行った後、斜めイオンエツチングを１２
分行い、６８％の回折効率を得た。
イオンビームエツチング装置を用いて、垂直イオンエツ
チングを１０分行った後、斜めイオンエツチングを１２
分行い、６８％の回折効率を得た。
この回折効率は、従来の方法で斜めイオンエ・２チング
を１５分した場合の４７％に比べ飛躍的に向上した。
を１５分した場合の４７％に比べ飛躍的に向上した。
以上のように本実施例によれば、ベース材を用いた場合
においても垂直イオンエツチングと斜めイオンエツチン
グを組み合せることによって、溝の深い形の良いブレー
ズドホログラフィック回折格子の製造を容易にするもの
である。
においても垂直イオンエツチングと斜めイオンエツチン
グを組み合せることによって、溝の深い形の良いブレー
ズドホログラフィック回折格子の製造を容易にするもの
である。
発明の効果
以上のように本発明は、垂直イオンエツチングと斜めイ
オンエツチングとを組み合せた製造方法によって、ベー
ス材を用いた場合においても、深くて形の良い、効率の
高いブレーズドホログラフィック回折格子を得ることが
できる。
オンエツチングとを組み合せた製造方法によって、ベー
ス材を用いた場合においても、深くて形の良い、効率の
高いブレーズドホログラフィック回折格子を得ることが
できる。
第１図は本発明の実施例におけるブレーズドホログラフ
ィック回折格子の製造方法を示す工程図、第２図は従来
のブレーズド回折格子の製造方法を示す工程図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・ネガ型のホトレジ
スト、３・・・・・・ホトレジスト、４・・・・・・正
弦波状のホログラフィック回折格子、５・・・・・・イ
オンビーム、６・・・・・・ホログラフィック回折格子
、７・・・・・・ブレーズド回折格子。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名／−−−基
板 ◇
ィック回折格子の製造方法を示す工程図、第２図は従来
のブレーズド回折格子の製造方法を示す工程図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・ネガ型のホトレジ
スト、３・・・・・・ホトレジスト、４・・・・・・正
弦波状のホログラフィック回折格子、５・・・・・・イ
オンビーム、６・・・・・・ホログラフィック回折格子
、７・・・・・・ブレーズド回折格子。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名／−−−基
板 ◇
Claims (1)
- 平面基板上に第１のネガ型のホトレジストを塗布する工
程と、前記ネガ型のホトレジスト上に、前記ネガ型のホ
トレジストよりもイオンエッチング速度の遅い第２のホ
トレジストを塗布する工程と、塗布された第２のホトレ
ジスト膜にホログラフィック回折格子の形成する工程と
、前記ホログラフィック回折格子の垂直方向からイオン
エッチングする工程と、前記回折格子をマスクとして基
板面に対して格子溝に平行な方向を回転軸とする、斜め
方向からイオンエッチングする工程とを具備することを
特徴とするブレーズド回折格子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7474586A JPS62231901A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | ブレ−ズド回折格子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7474586A JPS62231901A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | ブレ−ズド回折格子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62231901A true JPS62231901A (ja) | 1987-10-12 |
Family
ID=13556091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7474586A Pending JPS62231901A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | ブレ−ズド回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62231901A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6417939B1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-07-09 | Highwave Optical Technologies | Polarizing filter and its manufacturing method |
| JP2003532246A (ja) * | 2000-05-03 | 2003-10-28 | ノボ ノルディスク アクティーゼルスカブ | 注入装置のカートリッジのコード化 |
| JP2005157118A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Shimadzu Corp | ブレーズド・ホログラフィック・グレーティング、その製造方法、及びレプリカグレーティング |
| JP2006259325A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Shimadzu Corp | ホログラフィックグレーティング製造方法 |
| US7129028B2 (en) | 2000-02-25 | 2006-10-31 | Shimadzu Corporation | Method of forming holographic grating |
| CN103105638A (zh) * | 2013-01-11 | 2013-05-15 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 闪耀凹面全息光栅分区反应离子束的刻蚀方法 |
-
1986
- 1986-04-01 JP JP7474586A patent/JPS62231901A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6417939B1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-07-09 | Highwave Optical Technologies | Polarizing filter and its manufacturing method |
| US7129028B2 (en) | 2000-02-25 | 2006-10-31 | Shimadzu Corporation | Method of forming holographic grating |
| JP2003532246A (ja) * | 2000-05-03 | 2003-10-28 | ノボ ノルディスク アクティーゼルスカブ | 注入装置のカートリッジのコード化 |
| JP4718094B2 (ja) * | 2000-05-03 | 2011-07-06 | ノボ ノルディスク アクティーゼルスカブ | 注入装置のカートリッジのコード化 |
| JP2005157118A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Shimadzu Corp | ブレーズド・ホログラフィック・グレーティング、その製造方法、及びレプリカグレーティング |
| US7455957B2 (en) * | 2003-11-27 | 2008-11-25 | Shimadzu Corporation | Blazed holographic grating, method for producing the same and replica grating |
| JP2006259325A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Shimadzu Corp | ホログラフィックグレーティング製造方法 |
| JP4507928B2 (ja) * | 2005-03-17 | 2010-07-21 | 株式会社島津製作所 | ホログラフィックグレーティング製造方法 |
| CN103105638A (zh) * | 2013-01-11 | 2013-05-15 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 闪耀凹面全息光栅分区反应离子束的刻蚀方法 |
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