JPS61255513A - 複合形ヘツドチツプの製造方法 - Google Patents
複合形ヘツドチツプの製造方法Info
- Publication number
- JPS61255513A JPS61255513A JP9700685A JP9700685A JPS61255513A JP S61255513 A JPS61255513 A JP S61255513A JP 9700685 A JP9700685 A JP 9700685A JP 9700685 A JP9700685 A JP 9700685A JP S61255513 A JPS61255513 A JP S61255513A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- head
- blocks
- gap
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はフロッピーディスク装置等に用いらnる複合
形ヘッドチップの製造方法に関するものである。
形ヘッドチップの製造方法に関するものである。
従来この種の複合形ヘッドチップとして第9図に示すも
のがあった。図においてil+は複合形ヘッドチップで
、ヘッドコア(2)I この場合は畳込、続出し用コ
ア(以fR/Wコアと陛ぶ)と、ヘッドコア(3)、こ
の場合は消去剤コア(以後Eコアと呼ぶ)とを互に磁気
的に分離するためのガラスモールド部h2で一体に接合
して構成さn、その厚みは約300−である。(4)は
フェライトから成るR/W用り形コア又はサイドコア、
(5)は同じくフェライトから成るR / W用センタ
ーコアでその媒体対向部にはトラック巾Tw (R/W
)を規制するための狭トランクガラスモールド部C1
lが設けらnている。
のがあった。図においてil+は複合形ヘッドチップで
、ヘッドコア(2)I この場合は畳込、続出し用コ
ア(以fR/Wコアと陛ぶ)と、ヘッドコア(3)、こ
の場合は消去剤コア(以後Eコアと呼ぶ)とを互に磁気
的に分離するためのガラスモールド部h2で一体に接合
して構成さn、その厚みは約300−である。(4)は
フェライトから成るR/W用り形コア又はサイドコア、
(5)は同じくフェライトから成るR / W用センタ
ーコアでその媒体対向部にはトラック巾Tw (R/W
)を規制するための狭トランクガラスモールド部C1
lが設けらnている。
(8)はR/ W用ギャップで1〜2μmのガラス層又
は5102スパツタ展等の非磁性/mから成る。R/W
用り形コア(41,R/W川セ用ターコア(5)、及び
R/ W用ギャップ(8)でR/ W用ヘッドコア(2
1を形成している。Eコアにはトンネル消去を行なうた
め、狭トラツクカラスモールド部αυで規制さnた2つ
の消去トランクなMし、この2つの消去トラックに囲ま
nたガラスモールド部t1υの巾に大略R/Wコアのト
ランク巾Tw (R/W )に等しい。フェライトから
なるE用り形コア又はサイドコア(6)。
は5102スパツタ展等の非磁性/mから成る。R/W
用り形コア(41,R/W川セ用ターコア(5)、及び
R/ W用ギャップ(8)でR/ W用ヘッドコア(2
1を形成している。Eコアにはトンネル消去を行なうた
め、狭トラツクカラスモールド部αυで規制さnた2つ
の消去トランクなMし、この2つの消去トラックに囲ま
nたガラスモールド部t1υの巾に大略R/Wコアのト
ランク巾Tw (R/W )に等しい。フェライトから
なるE用り形コア又はサイドコア(6)。
同じく7エライトから成るE用センターコア(7)及び
E用ギャップ(9)でE用へラドコア(3)が形成さn
ている。
E用ギャップ(9)でE用へラドコア(3)が形成さn
ている。
第9図に示した従来例ヘッドチップの製造では多くのガ
ラスモールド工程、ギャップ溶着工程。
ラスモールド工程、ギャップ溶着工程。
狭トランク溝加工のための工程を有す・るため加工精度
、生M性が悪い等の問題を有しており、我々は先に先行
技術として特願昭60−015831 号明細薔でこ
nらの問題点を大巾に改善できる第1図に示すような複
合形ヘッドチップの構造および第10図〜第16図に示
す製造方法を提案した。
、生M性が悪い等の問題を有しており、我々は先に先行
技術として特願昭60−015831 号明細薔でこ
nらの問題点を大巾に改善できる第1図に示すような複
合形ヘッドチップの構造および第10図〜第16図に示
す製造方法を提案した。
第1図においてヘッドチップ@tdR1W用へラドコア
(2)、E用へラドコア(3)およびとnらを互に磁気
的に分離すると同時に機械的には一体に接合するための
カラスモールド部(至)などから構成さnる。フェライ
ト等の強1iii注材料から成るR / W用り形コア
又ハサイドコア(4)l フェライト等の強磁性材料
からなるR/W用センターコア(5)およびR/W用ギ
ャップ(8)などでR/Wコア(2)が構成さnる。ま
たフェライト等gt磁性材料からなるE用り形コア(6
)l フェライト等の独磁ビ材料からなるE用センター
コア(7)およびEギャップ(9)などでEコア(3)
が構成さnる。
(2)、E用へラドコア(3)およびとnらを互に磁気
的に分離すると同時に機械的には一体に接合するための
カラスモールド部(至)などから構成さnる。フェライ
ト等の強1iii注材料から成るR / W用り形コア
又ハサイドコア(4)l フェライト等の強磁性材料
からなるR/W用センターコア(5)およびR/W用ギ
ャップ(8)などでR/Wコア(2)が構成さnる。ま
たフェライト等gt磁性材料からなるE用り形コア(6
)l フェライト等の独磁ビ材料からなるE用センター
コア(7)およびEギャップ(9)などでEコア(3)
が構成さnる。
つぎに、第1図に示した新しい構造のヘッドを得るため
に先に提案したヘッドチップの製造方法を第10図〜第
1B図により説明する。第10図fl R/ Wコア用
溶着ブロック又はR/ Wヘッドコアブロック(ロ)を
示し、R/W用り形コア(4)とRZW用センターコア
(5)のギャップ突合せ面?:鏡面研摩し、さらにその
上にR/Wギャップ長に相当する厚さの8102スパツ
タ膜等の非磁性ギャップスペーサ、を形成し、互に対向
・加圧した状態でアペックス部および後部接合部を島躯
点カラスでカラス(fHIII、て得らnる。+19は
溶着ガラス部、(8)はR/Wギャップに相当する。
に先に提案したヘッドチップの製造方法を第10図〜第
1B図により説明する。第10図fl R/ Wコア用
溶着ブロック又はR/ Wヘッドコアブロック(ロ)を
示し、R/W用り形コア(4)とRZW用センターコア
(5)のギャップ突合せ面?:鏡面研摩し、さらにその
上にR/Wギャップ長に相当する厚さの8102スパツ
タ膜等の非磁性ギャップスペーサ、を形成し、互に対向
・加圧した状態でアペックス部および後部接合部を島躯
点カラスでカラス(fHIII、て得らnる。+19は
溶着ガラス部、(8)はR/Wギャップに相当する。
第11図はR/Wコア用溶層ブロック(5)に狭トラッ
ク簿加工を施した状態を示し、ダイヤモンドブレード等
を用いて狭トラック害(14)、α4fを所定のピッチ
Pで所望のトランク巾Tw(R/W)が残るように加工
する。
ク簿加工を施した状態を示し、ダイヤモンドブレード等
を用いて狭トラック害(14)、α4fを所定のピッチ
Pで所望のトランク巾Tw(R/W)が残るように加工
する。
このとき郷の深さに狭トラック加工溝1.α(の底面C
υがアペックス(至)よりハ探り、かつアペックス部の
f#層カラスの底面(至)よりは浅くなるような深さに
加工する。すなわち#Iはココアとの対向面(至)から
磁気ギャップを越えて媒体との摺動面(至)で終わりか
つ、アペックス部の溶着部錦に達するものとする0、こ
のようにすると後のガラスモールド工程で圓融点モール
ドガラスがコア内部に流出するのが防止さnる。すなわ
ち、アペックス部の溶着ガラス°部の溶着ガラスの底面
より深く害加工した場合には挟トラック溝抵面(311
に穴が開き、モールド時にこの穴からモールドガラスが
流出することになる。
υがアペックス(至)よりハ探り、かつアペックス部の
f#層カラスの底面(至)よりは浅くなるような深さに
加工する。すなわち#Iはココアとの対向面(至)から
磁気ギャップを越えて媒体との摺動面(至)で終わりか
つ、アペックス部の溶着部錦に達するものとする0、こ
のようにすると後のガラスモールド工程で圓融点モール
ドガラスがコア内部に流出するのが防止さnる。すなわ
ち、アペックス部の溶着ガラス°部の溶着ガラスの底面
より深く害加工した場合には挟トラック溝抵面(311
に穴が開き、モールド時にこの穴からモールドガラスが
流出することになる。
つづいて第12図に示すようにR/ Wコア用静着ブロ
ック額と同様の手法で加工さAfcKコア用#17vブ
ロック又tlヘッドコアブロック(至)とを少くともブ
ロック両端部の2個を含む複数個のR/W、Eコツ間ス
ペーサC!@を介して互に所望のコア間距離D2を保持
して対向させ接合部を有機接着剤等により仮止めする。
ック額と同様の手法で加工さAfcKコア用#17vブ
ロック又tlヘッドコアブロック(至)とを少くともブ
ロック両端部の2個を含む複数個のR/W、Eコツ間ス
ペーサC!@を介して互に所望のコア間距離D2を保持
して対向させ接合部を有機接着剤等により仮止めする。
このときR/ W )ランクのセンターラインC1と2
つのEトランクのセンターラインC2とが一致するよう
に調整、fな七ちR/W、118)ランクの相互位置規
制を行なう。
つのEトランクのセンターラインC2とが一致するよう
に調整、fな七ちR/W、118)ランクの相互位置規
制を行なう。
つづいて第13図の断面図に示すようにR/ Wコア用
溶看ブロック額およびココア用溶着ブロック(ロ)の相
互位置かずnないように加圧した状態で互の対向面間空
隙の上部に低融点ガラス棒顛を置く。
溶看ブロック額およびココア用溶着ブロック(ロ)の相
互位置かずnないように加圧した状態で互の対向面間空
隙の上部に低融点ガラス棒顛を置く。
つづいて第14図の断面図に示すように全体な昇温、保
持し、ガラス棒+41を俗離して、狭トラック簿部窒問
およびR/ Wコア用溶着ブロック額とココア用溶着ブ
ロック(ロ)間の空@部に一括してカラスモールドし、
モールドカラス部(至)を形成する。
持し、ガラス棒+41を俗離して、狭トラック簿部窒問
およびR/ Wコア用溶着ブロック額とココア用溶着ブ
ロック(ロ)間の空@部に一括してカラスモールドし、
モールドカラス部(至)を形成する。
つづいて第15図に示すように余剰ガラス部四を研削又
は研摩加工等の手段で除去する。
は研摩加工等の手段で除去する。
つづいて@で示す一点頌春に沿って所望の厚さのカッタ
ーでスライシングして第16図に示すヘッドチップ13
?)ヲ得る。さらに一点@縁■に沿ってスライシングす
ることによジ、第1図に示したこの発明の目的とするの
と同じ複合形ヘッドチップ(至)を得る。
ーでスライシングして第16図に示すヘッドチップ13
?)ヲ得る。さらに一点@縁■に沿ってスライシングす
ることによジ、第1図に示したこの発明の目的とするの
と同じ複合形ヘッドチップ(至)を得る。
第1図に示した形状のヘッドチップを得るための先行技
術による製造方法によnば、第8図に示した従来のヘッ
ドチップを実現するための製造方法に比べて次のような
有効性を有している。
術による製造方法によnば、第8図に示した従来のヘッ
ドチップを実現するための製造方法に比べて次のような
有効性を有している。
先ずトラックずnに関しては第10図の工程でギヤラグ
溶着した後に、第11図に示すように溶着ガラス(11
で一体に固定さnたセンターコア(5)とL形コア(4
)とに同時に狭トランク加工を行なうのでトランクずn
uはとんど無い。
溶着した後に、第11図に示すように溶着ガラス(11
で一体に固定さnたセンターコア(5)とL形コア(4
)とに同時に狭トランク加工を行なうのでトランクずn
uはとんど無い。
つぎにR/WトランクとEトラックの相互位置規制につ
いてはR/Wギャップ(8)とEギャップ(9)との間
’IRD6)は約600μmであるにもかかわらず。
いてはR/Wギャップ(8)とEギャップ(9)との間
’IRD6)は約600μmであるにもかかわらず。
第12図に示すようにR/ Wヘッドコアブロック@と
Eヘッドコアブロック(ロ)の互の対向面間[D2゜約
IQO7!!mだけ隔nfc位置で位置合せができるの
で高倍率顕微鏡下で高I′11匿に相互位置規制が可能
である。
Eヘッドコアブロック(ロ)の互の対向面間[D2゜約
IQO7!!mだけ隔nfc位置で位置合せができるの
で高倍率顕微鏡下で高I′11匿に相互位置規制が可能
である。
つぎに、狭トラック擲加工に要する加工時間はi11図
に示すように溶着ガラスα9で一体に溶着後、R/W用
り形コア(4)とセンターコア(5)とに一括して同時
に牌加工を行なうので、第8図の従来ヘッドチップ(3
)を得るための製造方法に比べて狭トラツク溝加工時間
を大巾に短縮することができる。
に示すように溶着ガラスα9で一体に溶着後、R/W用
り形コア(4)とセンターコア(5)とに一括して同時
に牌加工を行なうので、第8図の従来ヘッドチップ(3
)を得るための製造方法に比べて狭トラツク溝加工時間
を大巾に短縮することができる。
つぎにモールド回数については第13図、第14図に示
すように狭トラツクwjI部空間およびR/Wコアとコ
コアの互の対向面間空隙部に一括してガラスモールドを
行なうので 第9図の従来のヘッドチップを得るための
製造方法に比べてカラスモールド工程の生産性を大巾に
同上できる。
すように狭トラツクwjI部空間およびR/Wコアとコ
コアの互の対向面間空隙部に一括してガラスモールドを
行なうので 第9図の従来のヘッドチップを得るための
製造方法に比べてカラスモールド工程の生産性を大巾に
同上できる。
第1図に示した形状のヘッドチップを得るための先行技
術による製造方法は第8図に示した従来のヘッドチップ
を実現するための製造方法に比べて以上のごとく生産性
及び加工精度面で多くの有効性は倍増する。すなわち先
行技術によるヘッドチップの#!遣方法は以上のようで
あるので、第13図に示すようにギャップ深さGDは媒
体との対向面となる基準面(6)に対して所定の値(1
00〜200μm)になるように加工さnているが、第
14図に示すように狭トランク簿部およびR/ Wコア
と■コアとの間1!l−Taに充分にガラスモールドす
るに際しては矢印的のようにガラスが流動して基準面(
転)の表面もガラスで榎わn余剰ガラ2部CDが形成さ
nる。この余剰カラス部の高さはモールド時のガラスの
粘度によっても異なるが、 300〜600μmと大
きく、こnを除去するために多くの加工時間を必要とす
ると同時に、基準面の一部も除去してしまうことになり
、ギャップ深さGDの加工誤差が増えるという問題点が
あった。
術による製造方法は第8図に示した従来のヘッドチップ
を実現するための製造方法に比べて以上のごとく生産性
及び加工精度面で多くの有効性は倍増する。すなわち先
行技術によるヘッドチップの#!遣方法は以上のようで
あるので、第13図に示すようにギャップ深さGDは媒
体との対向面となる基準面(6)に対して所定の値(1
00〜200μm)になるように加工さnているが、第
14図に示すように狭トランク簿部およびR/ Wコア
と■コアとの間1!l−Taに充分にガラスモールドす
るに際しては矢印的のようにガラスが流動して基準面(
転)の表面もガラスで榎わn余剰ガラ2部CDが形成さ
nる。この余剰カラス部の高さはモールド時のガラスの
粘度によっても異なるが、 300〜600μmと大
きく、こnを除去するために多くの加工時間を必要とす
ると同時に、基準面の一部も除去してしまうことになり
、ギャップ深さGDの加工誤差が増えるという問題点が
あった。
この発明は上記のような問題点?:解決するためになさ
fi友もので、ギャップ深さ規制のための規準面を確保
すると同時に、余剰ガラス除去のための加工時間を大巾
に軽減できる複合形ヘッドチップの製造方法を提供する
ことを目的としている。
fi友もので、ギャップ深さ規制のための規準面を確保
すると同時に、余剰ガラス除去のための加工時間を大巾
に軽減できる複合形ヘッドチップの製造方法を提供する
ことを目的としている。
この発明に係る複合形ヘッドチップに、第1磁気ギャッ
プを介して第1センターコアと第1サイドコアを対向さ
せて、第1アペックス部で第1ガラス材料を用いて溶着
しa′#&’−気ギヤングを有する面が磁気媒体との第
1摺動向となる第1ヘッドコアブロックを形成する工程
、第2@気ギヤングを介して第2センターコアと第2サ
イドコアを対向させて第2アペックス部で第2ガラス材
料を用いて溶着し、第2磁気ギャップを有する面が磁気
媒体との第2摺動面となる第2ヘッドコアブロックを形
成する工程、第1ヘッドコアブロックの第1センターコ
アにおける第2ヘッドコアブロックの第2センターコア
と対向する第1対向面から第1磁気ギャップを越えて第
1摺動面で終わりかつ第1アペックス部の溶着部に達す
る第1eを設けて第1ヘッドコアブロックのトランク巾
を規制する工程、第2ヘッドコアブロックの第2センタ
ーコアにおける第1ヘッドコアブロックの第1センター
コアと対向する第2対同面から第2磁気ギャップ?:越
えて第2摺動面で終わりかつ第2アペックス部の溶着部
に達する第2溝を設けて第2ヘッドコアブロックのトラ
ック巾を規制する工程。
プを介して第1センターコアと第1サイドコアを対向さ
せて、第1アペックス部で第1ガラス材料を用いて溶着
しa′#&’−気ギヤングを有する面が磁気媒体との第
1摺動向となる第1ヘッドコアブロックを形成する工程
、第2@気ギヤングを介して第2センターコアと第2サ
イドコアを対向させて第2アペックス部で第2ガラス材
料を用いて溶着し、第2磁気ギャップを有する面が磁気
媒体との第2摺動面となる第2ヘッドコアブロックを形
成する工程、第1ヘッドコアブロックの第1センターコ
アにおける第2ヘッドコアブロックの第2センターコア
と対向する第1対向面から第1磁気ギャップを越えて第
1摺動面で終わりかつ第1アペックス部の溶着部に達す
る第1eを設けて第1ヘッドコアブロックのトランク巾
を規制する工程、第2ヘッドコアブロックの第2センタ
ーコアにおける第1ヘッドコアブロックの第1センター
コアと対向する第2対同面から第2磁気ギャップ?:越
えて第2摺動面で終わりかつ第2アペックス部の溶着部
に達する第2溝を設けて第2ヘッドコアブロックのトラ
ック巾を規制する工程。
第1ヘッドコアブロックの第1センターコアと。
第2ヘッドコアブロックの第2七ンターコアを間隙を介
して対向させ両ヘッドコアブロック間の位置合わせなす
る工程2位置合わせなした両ヘッドコアブロックの各摺
動面を位置的に下にし保持し次状態で、上記アペックス
部から第3ガラス材料を供給して両ヘッドコアブロック
の第1・第2の溝をモールドすると共に2両ヘッドコア
ブロックの対向する間隙部を毛細管現象を利用してモー
ルドし両ヘッドコアブロックを一体に固着する工程及ヒ
一体固着した両ヘッドコアブロックより複合形ヘッドチ
ップを切り出す工程を施すようにし九ものである。
して対向させ両ヘッドコアブロック間の位置合わせなす
る工程2位置合わせなした両ヘッドコアブロックの各摺
動面を位置的に下にし保持し次状態で、上記アペックス
部から第3ガラス材料を供給して両ヘッドコアブロック
の第1・第2の溝をモールドすると共に2両ヘッドコア
ブロックの対向する間隙部を毛細管現象を利用してモー
ルドし両ヘッドコアブロックを一体に固着する工程及ヒ
一体固着した両ヘッドコアブロックより複合形ヘッドチ
ップを切り出す工程を施すようにし九ものである。
この発明においては1両ヘッドコアブロックの媒体との
摺動面を位置的に下にしてアペックス上部からガラス材
料を溶融して狭トランク加工蒋部をモールドすると共に
両ヘッドコアブロック間の対向間隙部空間に毛細管現象
を利用した吸い上げ方式によりモールド、充填していく
ので、ヘッドコアブロックの媒体との摺動面部に第14
図に示すような津いモールドガラス層を生ずることが無
く、余剰カラス除去加工に多くの時間を必要としない他
、ギャップ深さ規制のための基準面が確保できる。
摺動面を位置的に下にしてアペックス上部からガラス材
料を溶融して狭トランク加工蒋部をモールドすると共に
両ヘッドコアブロック間の対向間隙部空間に毛細管現象
を利用した吸い上げ方式によりモールド、充填していく
ので、ヘッドコアブロックの媒体との摺動面部に第14
図に示すような津いモールドガラス層を生ずることが無
く、余剰カラス除去加工に多くの時間を必要としない他
、ギャップ深さ規制のための基準面が確保できる。
第1図はこの発明の一実施例及び先行技術により得らn
た複合形ヘッドチップを示す斜視図で。
た複合形ヘッドチップを示す斜視図で。
図においてヘッドチップ(ハ)fi R/Wヘッドコア
又はR/ Wコア(21,E用へラドコア又はEコア(
3)およびこnらを互に磁気的に分離すると同時に機械
的には一体に接合するためのガラスモールド部(至)な
どから栴成さnる。フェライト等の強磁性材料から成る
R / W用り形コア(4)、フェライト等の強磁性材
料からなるR / W用センタコア(5)およびRZW
用ギャップ(8)などでR/ Wコア(2)が楕取さn
る。またフェライト等の強磁性材料からなるE用り形コ
ア又はサイドシア(6)、フェライト等の強磁性材料か
らなるE用センターコア(7)およびEギャップ(9)
などでEコア(3)が構成さnる。
又はR/ Wコア(21,E用へラドコア又はEコア(
3)およびこnらを互に磁気的に分離すると同時に機械
的には一体に接合するためのガラスモールド部(至)な
どから栴成さnる。フェライト等の強磁性材料から成る
R / W用り形コア(4)、フェライト等の強磁性材
料からなるR / W用センタコア(5)およびRZW
用ギャップ(8)などでR/ Wコア(2)が楕取さn
る。またフェライト等の強磁性材料からなるE用り形コ
ア又はサイドシア(6)、フェライト等の強磁性材料か
らなるE用センターコア(7)およびEギャップ(9)
などでEコア(3)が構成さnる。
矢にこの発明による複合形ヘッドチップの製造方法の一
実施例を工程順に説明する。8I!2図はR/W用溶着
ブロック又はR/ Wヘッドコアブロック鰭な示し、R
/W用り形コア又はサイドコア(4)トR/ W用セン
ターコア(5)のギャップ突合せ面を鏡面研摩し、さら
にその上にR/Wギャップ長に相当する厚さの8102
スパツタ膜等の非磁性ギャップスペーサを形成し、互に
対向・加圧した状態で第1ガラス材料、この場合低融点
ガラスでアペックス部および後部接合部をガラス溶層し
て得ら牡る。a9は溶着ガラス9. (81はR/ W
ギャップに相当する。第10図の先行技術の製造工程説
明図と異なる点に、アペックスの溶着ガラスa傷として
低融点ガラスを用いたこと、ま九、センターコア(5)
の厚みD5は最終のヘッドチップ状態で必要なセンター
コアの厚みにさらにR/WコアとEコアの対向面間v4
D2に相当する寸法を付加した厚みとしたことである。
実施例を工程順に説明する。8I!2図はR/W用溶着
ブロック又はR/ Wヘッドコアブロック鰭な示し、R
/W用り形コア又はサイドコア(4)トR/ W用セン
ターコア(5)のギャップ突合せ面を鏡面研摩し、さら
にその上にR/Wギャップ長に相当する厚さの8102
スパツタ膜等の非磁性ギャップスペーサを形成し、互に
対向・加圧した状態で第1ガラス材料、この場合低融点
ガラスでアペックス部および後部接合部をガラス溶層し
て得ら牡る。a9は溶着ガラス9. (81はR/ W
ギャップに相当する。第10図の先行技術の製造工程説
明図と異なる点に、アペックスの溶着ガラスa傷として
低融点ガラスを用いたこと、ま九、センターコア(5)
の厚みD5は最終のヘッドチップ状態で必要なセンター
コアの厚みにさらにR/WコアとEコアの対向面間v4
D2に相当する寸法を付加した厚みとしたことである。
累3図はR/ W用センターコア(5)のEコアとの対
向面部に深さがR/WコアとEコアとの対向面間隙に相
当する深さの#If44)の加工を施して両ヘッドコア
ブロック間の間隙巾に等しい高さの突部な等間隔に形成
し2R/Wコアブロツク額を示す。
向面部に深さがR/WコアとEコアとの対向面間隙に相
当する深さの#If44)の加工を施して両ヘッドコア
ブロック間の間隙巾に等しい高さの突部な等間隔に形成
し2R/Wコアブロツク額を示す。
なお、#I巾は第1図に示す最終ヘッドチップ厚みより
若干大きめに加工する。また#l#(ロ)のピッチP1
はP1=N−PK選定する。ただし、Pは狭トランク溝
加工のピッチ、Nは整数。第3図はN=1゜すなわちP
1=Pの場合を示す。
若干大きめに加工する。また#l#(ロ)のピッチP1
はP1=N−PK選定する。ただし、Pは狭トランク溝
加工のピッチ、Nは整数。第3図はN=1゜すなわちP
1=Pの場合を示す。
第4図はR/ W用溶着ブロック翰に対してトラック巾
TV(R/W)を規制するための狭トラツク溝の切欠加
工の工程を示す。ダイヤモンドブレード等を用いて狭ト
ラツク溝(14)、 ci4rを所定のピッチPで所望
のトラック巾TV (R/W )が残るように加工する
。このvA狭トラック加工# aa * adrs p
=ココアの対向面(2)から磁気ギャップを越えて媒体
との摺動面(至)で終わり、かつアペックス部の浴漕部
αうに達するよりに加工する。先行技術の狭トラック簿
加工の工程を示す第11図においては、モールドカラス
の流出防止のため、狭トラック別工溝(4゜adの深さ
はその底面3υがアペックス曽よりは深くかつアペック
ス部の溶層ガラスの底面(至)よりは浅くなるような深
さに加工する必瀘がめつ次が、この発明の一実施例にお
いてにaa4.αずの底面は単にアペックス(至)より
深けnばよく、アペックス部の溶着ガラスの底面(至)
よりは浅くとも、eRくともどちらでもよい。
TV(R/W)を規制するための狭トラツク溝の切欠加
工の工程を示す。ダイヤモンドブレード等を用いて狭ト
ラツク溝(14)、 ci4rを所定のピッチPで所望
のトラック巾TV (R/W )が残るように加工する
。このvA狭トラック加工# aa * adrs p
=ココアの対向面(2)から磁気ギャップを越えて媒体
との摺動面(至)で終わり、かつアペックス部の浴漕部
αうに達するよりに加工する。先行技術の狭トラック簿
加工の工程を示す第11図においては、モールドカラス
の流出防止のため、狭トラック別工溝(4゜adの深さ
はその底面3υがアペックス曽よりは深くかつアペック
ス部の溶層ガラスの底面(至)よりは浅くなるような深
さに加工する必瀘がめつ次が、この発明の一実施例にお
いてにaa4.αずの底面は単にアペックス(至)より
深けnばよく、アペックス部の溶着ガラスの底面(至)
よりは浅くとも、eRくともどちらでもよい。
つづいて第5図に示すように、R/Wコア用溶着ブロッ
ク■と、第2ガラス材料、この場合第1ガラス材料と*
質的に同lI!!融温度のものでセンターコアを溶着し
同様の手法で加工したEコア用漂着ブロック(ロ)と?
:R/W)ラックのセンターラインC1と2つのEトラ
ックのセンターラインC2とが一致するように調蟹、す
なわちR/W、にトラックの相互位[虜f’に行った後
、互のヘッドコアブロックの対向接合部を有機溶剤等に
より仮止めする。
ク■と、第2ガラス材料、この場合第1ガラス材料と*
質的に同lI!!融温度のものでセンターコアを溶着し
同様の手法で加工したEコア用漂着ブロック(ロ)と?
:R/W)ラックのセンターラインC1と2つのEトラ
ックのセンターラインC2とが一致するように調蟹、す
なわちR/W、にトラックの相互位[虜f’に行った後
、互のヘッドコアブロックの対向接合部を有機溶剤等に
より仮止めする。
つづいて第6図の断面図に示すように、媒体との摺動面
を位置的に下向きにして、かつR/Wコア■とEコア(
ロ)の相互位置ずれを生じないように均一に加圧・保持
し友状態でR/Wコア、Eコアのそnぞnのアペックス
部(至)の上部に第3ガラス材料、又はモールド用ガラ
ス棒−を挿入する。このとき、モールドガラス弊t4G
は溶層カラス、すなわち第1.第2〃ラス材料と同一か
又は同程度の作業温度、即ち実質的に同溶融温度を有す
る低融点ガラスを用いる。
を位置的に下向きにして、かつR/Wコア■とEコア(
ロ)の相互位置ずれを生じないように均一に加圧・保持
し友状態でR/Wコア、Eコアのそnぞnのアペックス
部(至)の上部に第3ガラス材料、又はモールド用ガラ
ス棒−を挿入する。このとき、モールドガラス弊t4G
は溶層カラス、すなわち第1.第2〃ラス材料と同一か
又は同程度の作業温度、即ち実質的に同溶融温度を有す
る低融点ガラスを用いる。
つづいて第1図に示すように全体をモールドカラスの作
業温度に昇温・保持してモールドカラス棒t40を溶融
し、狭トランク#I#底面0υがアペックス部を切るこ
とによって形成さnた穴を貫通して狭トラツク加工溝部
およびR/WコアとEコアとの対同面間l!ilsにカ
ラスモールドさnる。狭トラック纒底面C(υがアペッ
クス部を切ることによって形成さt”L fc ′Kを
貫通したモールドガラスは先ず矢印t43に示すように
狭トラック加工S部空間な通り。
業温度に昇温・保持してモールドカラス棒t40を溶融
し、狭トランク#I#底面0υがアペックス部を切るこ
とによって形成さnた穴を貫通して狭トラツク加工溝部
およびR/WコアとEコアとの対同面間l!ilsにカ
ラスモールドさnる。狭トラック纒底面C(υがアペッ
クス部を切ることによって形成さt”L fc ′Kを
貫通したモールドガラスは先ず矢印t43に示すように
狭トラック加工S部空間な通り。
毛管作用によりR/ WコアとEコアとの対向面間挿を
満たすように吸上げらnる。この場合、媒体との摺動面
からのモールドガラスのはみ出し高さ偲υハ30〜50
μm程度ときわめて小さく抑えることかでき、かつ摺動
面全面をモールドガラスで蝋ってしまうことがないので
、ギャップ深さ規制のための基準面が確保さnると共T
!(、この部分の余#A方ラスの除去工程を大幅に短縮
できる。
満たすように吸上げらnる。この場合、媒体との摺動面
からのモールドガラスのはみ出し高さ偲υハ30〜50
μm程度ときわめて小さく抑えることかでき、かつ摺動
面全面をモールドガラスで蝋ってしまうことがないので
、ギャップ深さ規制のための基準面が確保さnると共T
!(、この部分の余#A方ラスの除去工程を大幅に短縮
できる。
つづいて第8図に示すように、一点鎖線−に沿つて、所
望の厚さのカッターでピッチPでスライシングして、第
1B図の先行技術にて示したと同様のヘッドチップを得
る。
望の厚さのカッターでピッチPでスライシングして、第
1B図の先行技術にて示したと同様のヘッドチップを得
る。
つづいて第16図の先行技術で示したと同様一点鎖線(
2)に沿ってスライシングして第1図に示し友複合型ヘ
ッドチップ(ハ)を得る。
2)に沿ってスライシングして第1図に示し友複合型ヘ
ッドチップ(ハ)を得る。
なお2以上の実施例において第3図中、R/WコアとE
コアとの対向面間隙に相当する深さの溝(ロ)を加工し
て両ヘッドコアブロック間の間隙巾に等して高さの突部
を形成する除、巾D4の段状部又は突部(ハ)が等ピッ
チP1で残るように加工する。
コアとの対向面間隙に相当する深さの溝(ロ)を加工し
て両ヘッドコアブロック間の間隙巾に等して高さの突部
を形成する除、巾D4の段状部又は突部(ハ)が等ピッ
チP1で残るように加工する。
この段状部(ハ)がコアブロック(財)の両端部にのみ
形成さn、コアブロックの中間部分には無い場合に第7
図に示したガラスモールドの工程で、ギャップ溶着ガラ
スα9が再溶融するためヘッドコアブロックの中間部分
でL形コア(4)とセンターコア(5)トの加圧状態が
解放さn、ギャップ部(8)が開きギャップ長が大きく
なるという問題風があった。この対策として段状部(ハ
)を等ピッチP1で設けることによp、溶着カラスを再
溶融し、さらにモールドする工程においても、第5図に
示したR / Wヘッドコアブロック勾とEヘッドコア
ブロック(ロ)との接合面■において各ブロックがキメ
細かく等間隔で加圧さnるので、溶着カラスaSが再溶
融してもギャップが開くということがない。この段状部
の巾D4は第16図の状態にスライスした状態で。
形成さn、コアブロックの中間部分には無い場合に第7
図に示したガラスモールドの工程で、ギャップ溶着ガラ
スα9が再溶融するためヘッドコアブロックの中間部分
でL形コア(4)とセンターコア(5)トの加圧状態が
解放さn、ギャップ部(8)が開きギャップ長が大きく
なるという問題風があった。この対策として段状部(ハ
)を等ピッチP1で設けることによp、溶着カラスを再
溶融し、さらにモールドする工程においても、第5図に
示したR / Wヘッドコアブロック勾とEヘッドコア
ブロック(ロ)との接合面■において各ブロックがキメ
細かく等間隔で加圧さnるので、溶着カラスaSが再溶
融してもギャップが開くということがない。この段状部
の巾D4は第16図の状態にスライスした状態で。
段状部が残らない値にしてやnばよく、溝加工のピッチ
Pに対して D4(P−(II&終ヘッドチップ厚)を満足するよう
な値に加工すt′Lばよい。
Pに対して D4(P−(II&終ヘッドチップ厚)を満足するよう
な値に加工すt′Lばよい。
また段状部(ハ)の加工ピッチP1i上記ギャッグ開き
の観点からは、狭トラツク溝加工のピッチPが0.5〜
1 mの場合、 P1=IXP 〜5X’Pの値を選ら
べばギャップ開きを大巾に!!減できる。
の観点からは、狭トラツク溝加工のピッチPが0.5〜
1 mの場合、 P1=IXP 〜5X’Pの値を選ら
べばギャップ開きを大巾に!!減できる。
なお、上記実施例でfiR/W用センターコア(5)に
R/WコアとEコアとの対向面間陣中に等しい高さの突
部な形成するための複数個の#f44)を設けたか、こ
の#11(財)rri、 Kコア用センターコア(7
)に設けてもよく、又はR/ Wコア用センターコア(
5)とE用センターコア(7)の双方に設けても良い。
R/WコアとEコアとの対向面間陣中に等しい高さの突
部な形成するための複数個の#f44)を設けたか、こ
の#11(財)rri、 Kコア用センターコア(7
)に設けてもよく、又はR/ Wコア用センターコア(
5)とE用センターコア(7)の双方に設けても良い。
また、上記実施例によnば、第1.第2及び第3ガラス
材料として実質的に同溶融温度のもの。
材料として実質的に同溶融温度のもの。
しかも800℃以下の低融点ガラスを用いているがこの
ことは以下の点から有効である。即ち、先行技術による
ヘッドチップの製造方法によれば第10図に示すように
作業温度が800℃〜900℃の高融点ガラスでアペッ
クス部の溶着ガラス1値を形成しなけnfiならず、い
っぽう@13図、第14図に示すように狭トラック加工
碑αもaぜ及びR/Wコアと837間の間隙には上記高
融点の作業温度以下の軟化点を有する抵融点ガラスでモ
ールドガラス部cl[9を形成しなけnばならないなど
少くとも作業m度の異なる2台のガラス溶着炉を用意し
しかもその内の1台ニ800℃〜900℃の使用に耐え
ねばならず、溶着炉の仕様0価格などヘッドチップ生産
のための設備投資の面で問題であっ之。
ことは以下の点から有効である。即ち、先行技術による
ヘッドチップの製造方法によれば第10図に示すように
作業温度が800℃〜900℃の高融点ガラスでアペッ
クス部の溶着ガラス1値を形成しなけnfiならず、い
っぽう@13図、第14図に示すように狭トラック加工
碑αもaぜ及びR/Wコアと837間の間隙には上記高
融点の作業温度以下の軟化点を有する抵融点ガラスでモ
ールドガラス部cl[9を形成しなけnばならないなど
少くとも作業m度の異なる2台のガラス溶着炉を用意し
しかもその内の1台ニ800℃〜900℃の使用に耐え
ねばならず、溶着炉の仕様0価格などヘッドチップ生産
のための設備投資の面で問題であっ之。
また高融点ガラスを用いることはカラスによるフェライ
トの浸食の面からも問題であったが、上記の実施例によ
nはガラス溶着炉のための設備投資を軽減することがで
きると同時に高融点ガラスによるフェライトの浸食を軽
減できる。
トの浸食の面からも問題であったが、上記の実施例によ
nはガラス溶着炉のための設備投資を軽減することがで
きると同時に高融点ガラスによるフェライトの浸食を軽
減できる。
この発明は0以上説明したとおり、第1磁気ギャップを
介して第1センターコアと第1サイドコアを対向させて
第1アペックス部で第1ガラス材料を用いて溶着し、第
1磁気ギャップを有する面が磁気媒体との第1摺動面と
なる第1ヘントコアブロツクを形成する工程、第2磁気
ギャップを介して第2センターコアと第2サイドコアな
対向させて第2アペックス部で第2カラス材料を用いて
′#I漕し、第2磁気ギヤンプを有する面が磁気媒体と
の第2描動面となる第2ヘッドコアブロックを形成する
工程、第1ヘッドコアブロックの第1センターコアにお
ける第2ヘッドコアブロックの第2センターコアと対向
する第1対同面から第1磁気ギャップを越えて第1摺動
面で終わりかつ第1アペックス部の溶着部に達する第1
111を設けて第1ヘッドコアブロックのトラック巾を
規制する工程、第2ヘッドコアブロックの第2センター
コアにおける第1ヘッドコアブロックの第1センターコ
アと対向する第2対向面・から第2磁気ギャップを越え
て第2摺動面で終わりかつ第2アペックス部の溶着部に
達する第2溝を設けて第2ヘッドコアブロックのトラッ
ク巾を規制する工程、第1ヘッドコアブロックの第1セ
ンターコアと、第2ヘッドコアブロックの第2センター
コアを間隙ヲ介して対向させ両ヘッドコアブロック間の
位置合わせをする工程1位置合わせなした両ヘッドコア
ブロックの各摺動面を位置的に下し、保持した状態で、
上記アペックス部から第3ガラス材料?!’供給して両
ヘッドコアブロックの第1.第2の′#IIヲモールド
すると共に両ヘッドコアブロックの対向する間原部を毛
細管現象を利用してモールドし両ヘッドコアブロックを
一体に固層する工程、及び一体固層した両ヘッドコアブ
ロックより複合形ヘッドチップを切り出す工程を施すよ
うにしたので。
介して第1センターコアと第1サイドコアを対向させて
第1アペックス部で第1ガラス材料を用いて溶着し、第
1磁気ギャップを有する面が磁気媒体との第1摺動面と
なる第1ヘントコアブロツクを形成する工程、第2磁気
ギャップを介して第2センターコアと第2サイドコアな
対向させて第2アペックス部で第2カラス材料を用いて
′#I漕し、第2磁気ギヤンプを有する面が磁気媒体と
の第2描動面となる第2ヘッドコアブロックを形成する
工程、第1ヘッドコアブロックの第1センターコアにお
ける第2ヘッドコアブロックの第2センターコアと対向
する第1対同面から第1磁気ギャップを越えて第1摺動
面で終わりかつ第1アペックス部の溶着部に達する第1
111を設けて第1ヘッドコアブロックのトラック巾を
規制する工程、第2ヘッドコアブロックの第2センター
コアにおける第1ヘッドコアブロックの第1センターコ
アと対向する第2対向面・から第2磁気ギャップを越え
て第2摺動面で終わりかつ第2アペックス部の溶着部に
達する第2溝を設けて第2ヘッドコアブロックのトラッ
ク巾を規制する工程、第1ヘッドコアブロックの第1セ
ンターコアと、第2ヘッドコアブロックの第2センター
コアを間隙ヲ介して対向させ両ヘッドコアブロック間の
位置合わせをする工程1位置合わせなした両ヘッドコア
ブロックの各摺動面を位置的に下し、保持した状態で、
上記アペックス部から第3ガラス材料?!’供給して両
ヘッドコアブロックの第1.第2の′#IIヲモールド
すると共に両ヘッドコアブロックの対向する間原部を毛
細管現象を利用してモールドし両ヘッドコアブロックを
一体に固層する工程、及び一体固層した両ヘッドコアブ
ロックより複合形ヘッドチップを切り出す工程を施すよ
うにしたので。
媒体との摺動面への余剰ガラスのまわり込みを軽減でき
るので余剰ガラス除云工dの作業時間を短縮できると同
時に、ギャップ深さ規制のための基準面を確保でき、棺
度の艮い複合形ヘッドチップが得らnるという効果があ
る。
るので余剰ガラス除云工dの作業時間を短縮できると同
時に、ギャップ深さ規制のための基準面を確保でき、棺
度の艮い複合形ヘッドチップが得らnるという効果があ
る。
また、第1.第2及び第3ガラス材料として実質的に同
溶融温度のもの、特に低融点ガラスを用いるならば、第
1.第2ガラス材料を世いてのガラス溶着工程と第3ガ
ラス材料を用いてのガラスモールド工程で電気炉を使い
分ける必要がなく。
溶融温度のもの、特に低融点ガラスを用いるならば、第
1.第2ガラス材料を世いてのガラス溶着工程と第3ガ
ラス材料を用いてのガラスモールド工程で電気炉を使い
分ける必要がなく。
かつ低温用雰囲気炉を用意すnばよいので1作業効率設
備投資面での効果がおる。また低融点ガラスを使用でき
るのでガラスによるフェライトの浸食を軽減することが
できるという効果がある。
備投資面での効果がおる。また低融点ガラスを使用でき
るのでガラスによるフェライトの浸食を軽減することが
できるという効果がある。
第1図にこの発明の一実施例及び先行技術の製法による
複合形ヘッドチップの構造を示す斜視図。 第2図〜第8図はこの発明の一実施例の製造方法を工程
順に説明するための図で、第2図、第3図。 第4図、第5図及び第8図は斜視図、第6図及び第7図
は断面図である。第8図は従来のフロッピーディスク用
複合形ヘッドチップの構造を示す斜視図、第10図〜第
16図はこの発明の目的とする第1図に示した複合形ヘ
ッドチップを得るための先行技術による製造方法を示す
図で、第10図。 第11図、第12図、第15図及び第16図は斜視図、
第13図及び第14図は断面図である。 図において、(21はR/Wコア、(3)はEコア、(
4)はR/W用サイドコア、(5)BR/W用センター
コア、+61HK用サイドコア、(711’!1!i用
センターコア。 (8)にR/Wギャップ、(9)はEギャップ、(14
は狭トランク加工擲1面はアペックス部、(1gはガラ
ス溶層部、(至)はカラスモールド部、C?7]はギャ
ップl?!看さしfcヘッドコアブロック、(Iυは狭
トランク加工碑都の底面、14は害、讃は突部である。 なお1図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
複合形ヘッドチップの構造を示す斜視図。 第2図〜第8図はこの発明の一実施例の製造方法を工程
順に説明するための図で、第2図、第3図。 第4図、第5図及び第8図は斜視図、第6図及び第7図
は断面図である。第8図は従来のフロッピーディスク用
複合形ヘッドチップの構造を示す斜視図、第10図〜第
16図はこの発明の目的とする第1図に示した複合形ヘ
ッドチップを得るための先行技術による製造方法を示す
図で、第10図。 第11図、第12図、第15図及び第16図は斜視図、
第13図及び第14図は断面図である。 図において、(21はR/Wコア、(3)はEコア、(
4)はR/W用サイドコア、(5)BR/W用センター
コア、+61HK用サイドコア、(711’!1!i用
センターコア。 (8)にR/Wギャップ、(9)はEギャップ、(14
は狭トランク加工擲1面はアペックス部、(1gはガラ
ス溶層部、(至)はカラスモールド部、C?7]はギャ
ップl?!看さしfcヘッドコアブロック、(Iυは狭
トランク加工碑都の底面、14は害、讃は突部である。 なお1図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)第1磁気ギャップを介して第1センターコアと第
1サイドコアを対向させて第1アペックス部で第1ガラ
ス材料を用いて溶着し、第1磁気ギャップを有する面が
磁気媒体との第1摺動面となる第1ヘッドコアブロック
を形成する工程、第2磁気ギャップを介して第2センタ
ーコアと第2サイドコアを対向させて第2アペックス部
で第2ガラス材料を用いて溶着し、第2磁気ギャップを
有する面が磁気媒体との第2摺動面となる第2ヘッドコ
アブロックを形成する工程、第1ヘッドコアブロックの
第1センターコアにおける第2ヘッドコアブロックの第
2センターコアと対向する第1対向面から第1磁気ギャ
ップを越えて第1摺動面で終わりかつ第1アペックス部
の溶着部に達する第1溝を設けて第1ヘッドコアブロッ
クのトラック巾を規制する工程、第2ヘッドコアブロッ
クの第2センターコアにおける第1ヘッドコアブロック
の第1センターコアと対向する第2対向面から第2磁気
ギャップを越えて第2摺動面で終わりかつ第2アペック
ス部の溶着部に達する第2溝を設けて第2ヘッドコアブ
ロックのトラック巾を規制する工程、第1ヘッドコアブ
ロックの第1センターコアと、第2ヘッドコアブロック
の第2センターコアを間隙を介して対向させ両ヘッドコ
アブロック間の位置合わせをする工程、位置合わせをし
た両ヘッドコアブロックの各摺動面を位置的に下にし保
持した状態で、上記アペックス部から第3ガラス材料を
供給して両ヘッドコアブロックの第1、第2の溝をモー
ルドすると共に、両ヘッドコアブロックの対向する間隙
部を毛細管現象を利用してモールドし両ヘッドコアブロ
ックを一体に固着する工程、及び一体固着した両ヘッド
コアブロックより複合形ヘッドチップを切り出す工程を
施す複合形ヘッドチップの製造方法。 - (2)第1、第2及び第3ガラス材料は実質的に同溶融
温度のものを用いることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の複合形ヘッドチップの製造方法。 - (3)両ヘッドコアブロック間の位置合わせは、第1ヘ
ッドコアブロックの第1センターコア及び第2ヘッドコ
アブロックの第2センターコアのうちのいずれか一方に
、両ヘッドコアブロック間の間隙巾に等しい高さの突部
を等間隔に形成して行なうことを特徴とする特許請求の
範囲第1項または第2項記載の複合形ヘッドチップの製
造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9700685A JPS61255513A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 複合形ヘツドチツプの製造方法 |
DE3602654A DE3602654C2 (de) | 1985-01-30 | 1986-01-29 | Verfahren zur Bildung einer Verbund-Magnetkopf-Stuktur und Verbund-Magnetkopf-Struktur |
US07/213,465 US4837922A (en) | 1985-01-30 | 1988-06-27 | Process for manufacturing a composite magnetic head structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9700685A JPS61255513A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | 複合形ヘツドチツプの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61255513A true JPS61255513A (ja) | 1986-11-13 |
Family
ID=14180165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9700685A Pending JPS61255513A (ja) | 1985-01-30 | 1985-05-08 | 複合形ヘツドチツプの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61255513A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63304412A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-12 | Alps Electric Co Ltd | 複合型磁気ヘッドの製造方法 |
JPH0438612A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-07 | Ngk Insulators Ltd | 複合型磁気ヘッド用コアの製造法及びそれによって得られた複合型磁気ヘッド用コア |
-
1985
- 1985-05-08 JP JP9700685A patent/JPS61255513A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63304412A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-12 | Alps Electric Co Ltd | 複合型磁気ヘッドの製造方法 |
JPH0438612A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-07 | Ngk Insulators Ltd | 複合型磁気ヘッド用コアの製造法及びそれによって得られた複合型磁気ヘッド用コア |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3922776A (en) | Method for making narrow track ferrite core flying pads | |
JPS6233642B2 (ja) | ||
US4897915A (en) | Process for producing magnetic head of floating type | |
JPS61255513A (ja) | 複合形ヘツドチツプの製造方法 | |
US4837922A (en) | Process for manufacturing a composite magnetic head structure | |
KR910009025B1 (ko) | 복합형 자기 헤드용 코어의 제조법 | |
JPS61175915A (ja) | 複合形ヘツドチツプおよびその製造方法 | |
JPS61145715A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JP2507686B2 (ja) | 複合型磁気ヘッド用コアおよびその製造方法 | |
JPS62287406A (ja) | 複合磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
JPS62259212A (ja) | 複合磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
JPH01220207A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS61165817A (ja) | 磁気ヘツドのスライダ−構造及び磁気ヘツド製造方法 | |
JPH03203805A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS63209016A (ja) | 複合形ヘツドチツプの製造方法 | |
JPS60111311A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH0684131A (ja) | 複合型磁気ヘッド用コアの製造方法 | |
JPH01179210A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS61165812A (ja) | 磁気ヘツド製造方法 | |
JPS61267912A (ja) | 磁気ヘツド製造方法 | |
JPS63308712A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JPS61258318A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPS63316307A (ja) | 複合型磁気ヘッド用コア | |
JPH01166304A (ja) | V溝を有する磁気ヘッド基板の製造方法 | |
JPS62285209A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 |