JPS61246908A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板上に下部磁性体、ギャップ、下１絶縁層
、単層以上の導体コイル、上絶縁層、上部磁性体を所定
の形状に順次積層してなる磁気ヘッドにおいて、該上絶
縁層を感光性ポリイミド系樹脂で構成するとともに複数
の層に分けて、各層毎に露光前の加熱処理条件を変えて
形成する。そして、下の層より上の層の現像速度を速く
し、パターンエツジ部のテーパー角を調整することによ
り、上部磁性体をなだらかに切れることなく形成でき、
ムダのない効率の良い磁気ヘッドの製造を可能にしたも
のである◇ 〔従来の技術〕 薄膜磁気ヘッドや半・導体などでは、層間絶縁膜として
Ｓ１０．などの酸化膜をスパッタなどで成膜し使われて
いた０そして、最近は塗布後加熱硬化させ、レジストを
使うフォトエツチング技術で、パターニングでき、安価
で、下地層の段差を緩和しやすい、ポリイミド系樹脂が
使われている。さらに、感光性のあるポリイミド系樹脂
が各メーカーより開発され、安価な成膜方法として使用
されている。

その感光性ポリイミド系樹脂を使う、従来の薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法を第２図によって一説明す（１）第２図
（１）の様に、基板１の上に下部磁性体２を形成し、ギ
ャップ６を成膜し、下絶縁層４を形成後、導体コイル５
を形成する。

（２）第２図（６）の様に、感光性ポリイミド１２を塗
布後、プレベークをする。そしてマスク８と露光用光９
により露光する。

（３）第２図（１）の様に、感光性ポリイミド１２を現
像し、上絶縁層１３を形成する。

（４）　　第３図（ｄ）の様に、上部磁性体１１を形成
する。

以上の方法で薄膜磁気ヘッドは製造されていた。

〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術では、感光性ポリイミドのエツジ部が鋭い
角になるため、その上に形成する上部磁性体が第２図（
ｄ）の様に、角で不連続となり、磁束が途中で切れるな
ど、効率の悪い薄膜磁気ヘッドとなる問題点を有する。

そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、安価で、なだらかな上絶縁層を
形成することにより、上部磁性体をなだらかに切れるこ
となく形成し、ムダのない効率の良い薄膜磁気ヘッドの
製造方法を提供するところにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の磁気ヘッドの製造方法は、基板上に下部磁性体
、ギャップ、下絶縁層、単層あるいは複数層の導体コイ
ル、上絶縁層、上部磁性体を所定の形状に順次積層して
なる薄膜磁気ヘッドにおいて、該上絶縁層を感光性ポリ
イミド系樹脂で構成するとともに複数の層に分け、各層
毎に露光前の加熱処理条件を変えて形成し、露光、現像
するようにしたことを特徴とする。

〔作　用〕

本発明の上記の構成によれば、感光性ポリイミドの露光
前の加熱処理条件で温度の低い方と、加熱時間が短かい
方が現像速度が速いことを利用したものである。そして
、上の層が現像速度が速くなるように温度を低く、又は
加熱時間を短かくすることにより、必ずパターンエツジ
部がなだらかになる。

〔実施例〕

本発明の実施例は、第１図に示す工程によって、薄膜磁
気ヘッドを製造するものである◎以下第１図によって詳
しく説明する。

（１）　　第１１Ｎ（ｒ）の様に、基板１の上に下部磁
性体２を２μ毒の厚みで形成し、ギャップ３を０．８μ
情の厚みで形成し、下絶縁層４を２μｍの厚みで形成後
、導体コイルを２μ常の厚みで形成する。

（２）第１図（＆）の様に、第１感光性ポリイミド６を
５μ惰の厚みで、レジストスピンナーで塗布し、８０℃
の温度で４０分間ベーキングする。

（３）　　第１図（１）の様に、第２感光性ポリイミド
７を２μ情の厚みで、レジストスピンナーで塗布し、８
０℃の温度で４０分間ベーキングする。そして、マスク
８と・露光用光９で露光する。

（４）第１図（ｄ）の様に、第１感光性ポリイミドと、
第２感光性ポリイミドを一緒に現像し、上絶縁層１０を
形成する〇 （５）　　第１図（−）の様に、上部磁性体１１を２μ
渭の厚みで形成する０７ 以上のプロセスにより薄膜磁気ヘッドの製造を完了する
。

尚、本発明の第１感光性ポリイミドの厚みは５μ渭で、
第２感光性ポリイミドは２μ毒であるが、パターンエツ
ジ部のテーパー角度調整のため、厚みを１０μ渭以下で
あれば、変えても同じ様に形成できる。

さらに、本発明のベーキング温度が８０ｔｌで１ベ一キ
ング時間が各４０分であるが、パターンエツジ部ノｆ−
バー角度調整のため・１３０℃以下６０℃以上、９０分
以下１０分以上であれば、変えても同じ様に形成できる
。

〔発明の効果〕

以上述べたように発明によれば、感光性ポリイミドを２
層以上を形成し、露光、現像することにより、必ず感光
性ポリイミドのパターンエツジ部がな、だらかになるた
め、その上に形成する上部磁性体が不連続になることな
く形成でき、ムダのない効率の良い薄膜磁気ヘッドの形
成が可能であるなどの効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（−）は、本発明の実施例における・薄
膜磁気ヘッドの製造方法の工程断面図である〇第２図（
α）〜（ｄ）は、従来の製造方法における、薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法の工程断面図である。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・下部磁性体 ３・・・・・・ギャップ ４・・・・・・下絶縁層 ５・・・・・・導体コイル ６・・・・・・本発明の第１感光性ポリイミド７・・・
・・・本発明の第２感光性ポリイミド８・・・・・・マ
スク ９・・・・・・露光用光 １０・・・・・・本発明の上絶縁層 １１・・・・・・上部磁性体 １２・・・・・・従来の製造方法の感光性ポリイミド１
３・−・・・・従来の製造方法の上絶縁層１４・・・・
・・従来の製造方法の上部磁性体の不連続部慮んへ−Ｉ
ド０１九二進餠山図 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上に下部磁性体、ギャップ、下絶縁層、単層あるい
   は複数層の導体コイル、上絶縁層、上部磁性体を所定の
   形状に順次積層してなる磁気ヘッドにおいて、該上絶縁
   層を感光性ポリイミド系樹脂で構成するとともに複数の
   層に分けて、各層毎に露光前の加熱処理条件を変えて形
   成し、露光、現像するようにしたことを特徴とする磁気
   ヘッドの製造方法。