JPS6123302A - バリスタの製造方法 - Google Patents

バリスタの製造方法

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JPS6123302A
JPS6123302A JP59143530A JP14353084A JPS6123302A JP S6123302 A JPS6123302 A JP S6123302A JP 59143530 A JP59143530 A JP 59143530A JP 14353084 A JP14353084 A JP 14353084A JP S6123302 A JPS6123302 A JP S6123302A
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JP
Japan
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varistor
voltage
silver electrode
present
manufacturing
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JP59143530A
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JPH0576762B2 (ja
Inventor
雅昭 勝又
高見 昭宏
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

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  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はバリスタの製造方法に関するものであ、す、銀
電極とバリスタ素子間のエネルギー障壁を保護し、高性
能のバリスタの製造方法を提供することを目的とする。
従来例の構成とその問題点 2 ′\− 近年、家電機器、産業機器の電気回路の半導体化が著し
く進み、その主要構成要素である半導体電子部品のザー
ジ対策が不可欠のものとなって来ている。一般に、ザー
ジ電圧の抑制には電圧非直線性が高く、ザージ耐量の大
きい金属酸化物バリスタが用いられている。しかし、現
在、半導体電子部品の駆動電圧は低下傾向にあり、その
ほとんどのものが10v以下である。これに伴い、低電
圧回路用でザージ抑制性能の高いバリスタが市場から求
められている。
以下、図面を参照しながら従来のバリスタの製造方法に
ついて説明する。第1図は従来のバリスタの正面図、第
2図は同断面図である。第1図および第2図において、
1は金属酸化物バリスタ素子で、例えば酸化亜鉛を主成
分とした焼結体である。2a、2bはバリスタ素子1」
二に設けられた銀電極で、蒸着、焼付は処理等により形
成されている。3a、3bは銀電極2a、2bよシ取出
されたリード線である。4a、4bはリード線3a。
3bを銀電極2a、2bに固定するだめの半田で3″− ある。通常、リード線3a、3bとバリスタ素子1の接
続は、バリスタ素子10両面に設けられた銀電極2a、
2bを先端がクロスしだコの字形のリードではさみ、半
田槽に電極面全体をディップすることによりなされてい
る。
一般に、金属酸化物バリスタと、その表面に形成された
電極は仕事関数の差によりエネルギー障壁を持つ。例え
ば酸化亜鉛型バリスタと銀電極のエネルギー障壁は両面
で3.0〜4.OVであり、これはバリスタ電圧(vl
rllA)に依らず常に一定の値をとる。ところが、こ
のエネルギー障壁は、銀電極の全面を半田付けすること
により大d]に破壊され、その結果バリスタ素子の緒特
性の劣化を引き起こす。エネルギー障壁の破壊の度合は
一定ではなく、半田槽の温度、ディップ時間、銀電極面
の厚みによっても左右されるが、半田付は面積の影響を
最も強く受ける。しかしながら、従来のバリスタの製造
方法は、銀電極全体を半田付けしているため、エネルギ
ー障壁の破壊によりバリスタ電圧が0■〜4vの範囲で
低下していた。このバリスタ電圧の低下は、バリスタ電
圧が高い場合、大きな問題とはならないが、低電圧バリ
スター特にバリスタ電圧が30V以下の場合、バリスタ
電圧のバラツキ、すなわち歩留り低下の主原因となる。
さらに、バリスタの最も重要な特性の一つに制限電圧比
がある。制限電圧とは、所定の電流をバリスタに印加し
た時、その電極間に発生する電圧であり、制限電圧をバ
リスタ電圧(vlrrlA)で除した値が制限電圧比と
して定義されている。すなわち、バリスタにaAの電流
を印加した時、発生した電圧を■aA とすると、制限
電圧比は”aA/ ”1mA   但しaA〉1rrl
Aで示される。この制限電圧比は、バリスタの銀電極全
体を半田ディツプすることにより大きく悪化する。今、
バリスタ電圧を■1.制限電圧をva、銀電極とバリス
タ素子のエネルギー障壁をvEG(電流により変化しな
いものとする)とすると、従来のバリスタの制限電圧比
は ■a/v1  ・・・・・・−・−−−・・・・−・・
・・・・・・・・(1)で示される。半田ディツプによ
りエネルギー障壁6′−一 が破壊されない場合、同一のバリスタ電圧を持つバリス
タ素子の制限電圧比は で示される。(2)式を(1)式で割って整理するとと
なる。
ここで定義よりva〉■1であるので(3)式は1より
小さい値をとる。従って銀電極−バリスタ素子間のエネ
ルギー障壁が大きい程、制限電圧比は良好となる。従来
のバリスタの製造方法では、銀電極全体を半田ディツプ
するだめ、銀電極−バリスタ素子間のエネルギー障壁が
低下し、制限電圧比が悪化するのである。
また、従来、半田ディツプの前にバリスタ素子全面にフ
ラックスを塗布する。フラックスは半田デイツプ後、有
機溶剤にて洗浄するが、バリスタ6A′−・ 発明の目的 本発明は上記欠点に鑑みてなされたものであり、バリス
タ素子上の銀電極とリード線の半田付は方法を改善する
ことにより、制限電圧比が良く、課電寿命特性の良好な
バリスタを歩留り良く製造する方法を提供するものであ
る。
発明の構成 上記目的を達成するために、本発明のバリスタの製造方
法は、金属酸化物バリスタ素子の両面に形成された銀電
極の上端部分と、」二記銀電極の少なくとも一方より取
出されたリード線の先端部分とをディップ法により半田
付けする方法であり、この方法によって、半田は銀電極
の一部にしか付着しなくなり、特性の優れたバリスタを
容易に得ることができる。
実施例の設明 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
第3図は本発明の一実施例におけるバリスタの正面図、
第4図は同断面図である。第3図および第4図において
、6は金属酸化物、たとえば酸化亜鉛を主成分とした焼
結体よりなるバリスタ素子、ea、6bはバリスタ素子
6の両面に、蒸着、焼付けなどの処理を施して形成した
銀電極、7a。
7bはリード線で第1図、第2図の構成と同じものであ
る。8a、8bはリード線7a、7bを銀電極ea、e
bに固定するだめの半田で、半田付は部分の面積は、銀
電極6a、6bの面積の50%以下である。本発明によ
りバリスタを製造する場合、リード線7a、7bの上端
部を、バリスタ素子5上の銀電極6a 、 6bの上部
に合わせ、フラックスをリード17a、7bの上端を含
むバリスタ素子6の上部にのみ塗布し、半田槽にこの部
分をディップする。このようにすると、半田は銀電極6
a、6bの」二部にしか付着しなくなり、銀電極の任意
の面積を容易に半田付けする事ができる。
本発明の効果を実験結果とともに示す。使用したバリス
タ素子5は、バリスタ電圧(■1frlA)が22■、
素子径20φの同一ロソトの試料である。半田槽の温度
は230°C、ディップ時間は約2秒である。第5図は
、半田付は面積とvlrrlAの劣化中との関係である
。半田付は面積を銀電極6a、6bの面積の5a%以下
にすることにより、” 1 mAの劣化を約5チ以下に
押えることが可能である。従って、本発明のバリスタの
製造方法により、半田デイツプ工程でのバリスタ電圧の
劣化を大巾に低減させることができ、歩留り向上の有力
な手段となる。第6図は半田付は面積と制限電圧比との
関係である。銀電極全面に半田ディツプを施した場合、
■1oA/■1mAが1.80であるのに対し、本発明
によれば、1.65以下の高性能のバリスタを容易に製
造することができる。これは■1mA−22,。
Vのバリスタ素子の場合、■1oAを3v以上低下でき
るということである。さらに、本発明によれば、半田デ
ィツプの前に必ず行われるフラックス浸漬工程において
、従来はバリスタ素子のほぼ全94−・ ソクス残分の影響を強く受ける課電寿命特性の向上をも
図ることができるのである。
発明の効果 以上のように、本発明におけるリード線の半田付は方法
によれば、銀電極とバリスタ素子間で形成されるエネル
ギー障壁の破壊を防ぐことによりバリスタ電圧の低下を
押え、制限電圧比の劣化を防ぎ、歩留り良く所定の特性
を有するバリスタを製造することができる。さらに、フ
ラックスのバリスタ素子への影響を低減し、課電寿命特
性を向上させる効果も合わせ持つものであり、本発明は
バリスタの製造方法として非常に利用価値の高いもので
ある。
【図面の簡単な説明】 第1図は従来のバリスタの製造方法におけるバリスタの
正面図、第2図は同断面図、第3図は本発明のバリスタ
の製造方法におけるバリスタの正面図、第4図は同断面
図、第6図は半田付は面積10”−’ 特性図である。 6・・・・バリスタ素子、6a、6b・・銀電極、7 
a 、 7b・・・・リード線、sa、sb・・・・・
半田。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属酸化物バリスタ素子の両面に形成された銀電
    極の上端部分と、上記銀電極の少なくとも一方より取出
    されたリード線の先端部分とを、ディップ法により半田
    付けしたことを特徴とするバリスタの製造方法。
  2. (2)少なくとも一方の銀電極の半田付け部分の面積が
    、銀電極の面積の50%以下であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載のバリスタの製造方法。
JP59143530A 1984-07-11 1984-07-11 バリスタの製造方法 Granted JPS6123302A (ja)

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JP59143530A JPS6123302A (ja) 1984-07-11 1984-07-11 バリスタの製造方法

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JPS6123302A true JPS6123302A (ja) 1986-01-31
JPH0576762B2 JPH0576762B2 (ja) 1993-10-25

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018209562A1 (en) * 2017-05-16 2018-11-22 Dongguan Littelfuse Electronics Co., Ltd. Base metal electrodes for metal oxide varistor

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5586680A (en) * 1978-12-25 1980-06-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Soldering method of voltage nonlinear resistor
JPS5739505A (en) * 1980-08-20 1982-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of producing metal oxide voltage non-linear resistor

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US10839993B2 (en) 2017-05-16 2020-11-17 Dongguan Littelfuse Electronics Company Limited Base metal electrodes for metal oxide varistor

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