JPS61230618A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPS61230618A JPS61230618A JP7298785A JP7298785A JPS61230618A JP S61230618 A JPS61230618 A JP S61230618A JP 7298785 A JP7298785 A JP 7298785A JP 7298785 A JP7298785 A JP 7298785A JP S61230618 A JPS61230618 A JP S61230618A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- alloy substrate
- sputtering
- magnetic film
- Prior art date
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- Pending
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は情報処理システムに於けるファイル記憶として
用いられる磁気ディスクに関するものである。
用いられる磁気ディスクに関するものである。
従来の技術
近年、フ・イシ・記憶として用いられる磁気ディスクは
高密度磁気記録の進展に呼応するよう改良が進められて
いる。
高密度磁気記録の進展に呼応するよう改良が進められて
いる。
示すものである。
第２図において、１は合金基板、２は塗布磁性２１＼−
Ｉ゛ 膜である。第３図において３は合金基板、４はアルマイ
ト層、６はスパッタ磁性膜である。
Ｉ゛ 膜である。第３図において３は合金基板、４はアルマイ
ト層、６はスパッタ磁性膜である。
第２図に示した磁気ディスクは現在実用に供されている
ものの大半を占めるもので、γ−Ｆ ｅ ２０３針状微
粒子を樹脂と共に塗布した塗布形のものである。
ものの大半を占めるもので、γ−Ｆ ｅ ２０３針状微
粒子を樹脂と共に塗布した塗布形のものである。
塗布法としては、ディスク基板を回転させて、表面に塗
液を滴下し遠心力で面上に均一に塗液を伸展させる方法
（スピンコード法）を用いる。膜厚は高密度記録の要求
が強くなるにつれて薄くなり１μｍ以下のものも実用に
なっている。しかし塗布技術の薄層化には限界があり、
めっきやスパッタで連続磁性膜を形成する技術の利用が
検討され、一部で実用に供されるようになっている。
液を滴下し遠心力で面上に均一に塗液を伸展させる方法
（スピンコード法）を用いる。膜厚は高密度記録の要求
が強くなるにつれて薄くなり１μｍ以下のものも実用に
なっている。しかし塗布技術の薄層化には限界があり、
めっきやスパッタで連続磁性膜を形成する技術の利用が
検討され、一部で実用に供されるようになっている。
その−例が第３図に示すもので、例えばＡＩ−Ｍｑ合金
基板をアルマイト処理しポリシング後、磁性膜をスパッ
タ法で形成して成るものである。〔例えば、電子通信学
会誌、第６７巻、第１１号。
基板をアルマイト処理しポリシング後、磁性膜をスパッ
タ法で形成して成るものである。〔例えば、電子通信学
会誌、第６７巻、第１１号。
１１８４〜１１９ｏ頁、 （１９８４））発明が解決し
ようとする問題点 しかしながら第３図のような構成では、磁性膜が薄くな
ると、機械強度が弱くなり、コンタクトスタート・スト
ップ方式で使用をくり返した時、耐摩耗性が劣り、傷の
発生につながり、信頼性が著しく低下するという問題点
を有していた。
ようとする問題点 しかしながら第３図のような構成では、磁性膜が薄くな
ると、機械強度が弱くなり、コンタクトスタート・スト
ップ方式で使用をくり返した時、耐摩耗性が劣り、傷の
発生につながり、信頼性が著しく低下するという問題点
を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、耐摩耗性を向−ヒさせ、信
頼性を改良した磁気ディスクを提供するものである。
頼性を改良した磁気ディスクを提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するため本発明の磁気ディスクは、合
金基板上に微粒子塗布層を配し、スパッタ磁性膜を配し
た構成を備えたものである。
金基板上に微粒子塗布層を配し、スパッタ磁性膜を配し
た構成を備えたものである。
作 用
本発明は上記した構成により、塗布層がコンタクトスタ
ート・ストップ時の応力吸収を行うと共に、微粒子が形
成する表面突起のために、直接浮動ヘッドと接触しても
摩擦力が小さくできるので、傷が発生しないため、信頼
性が改良されることとなる。
ート・ストップ時の応力吸収を行うと共に、微粒子が形
成する表面突起のために、直接浮動ヘッドと接触しても
摩擦力が小さくできるので、傷が発生しないため、信頼
性が改良されることとなる。
実施例
以下、本発明の実施例の磁気ディスクについて図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例の磁気ディスクの拡大断面図を
示すものである。第１図に於て、６は入Ａ ｅ−Ｍｑ合
金基板で、７は微粒子塗布層で、無機微粒子又は有機微
粒子８と、樹脂９から成るものである。１０はスパッタ
法で形成された磁性膜である。
示すものである。第１図に於て、６は入Ａ ｅ−Ｍｑ合
金基板で、７は微粒子塗布層で、無機微粒子又は有機微
粒子８と、樹脂９から成るものである。１０はスパッタ
法で形成された磁性膜である。
先ず厚さｅｍｍのＡ Ｉ−Ｍｑ合金基板を熱処理し、旋
削により表面を平均粗さで３８０人となるよう仕上げて
、その上に、エポキシ樹脂中に平均粒子径２５０人のシ
リカ微粒子を分散させた塗布液をスピンコード法で平均
樹脂厚みが０．１μｍ となるよう塗布し、紫外線を７
００ ［”／ ２ ］ １．５秒照射し硬化させた。そ
の上にＣｏ−Ｎｉ磁性膜を０．０７μｍと０．１μｍの
２種類高周波スパッタ法周波グロー放電を発生させてタ
ーゲットと基板の距離を８ｃｒｎに保ちスパッタを行っ
た。Ｎｉ 含有量は２２原子係とした３、得られた磁性
膜の保磁力は０．０７７４ｍ と０．１μｍの膜でそれ
ぞれ、９００比較例として、同じＡＩ−Ｍｑ金合金アル
マイト処理し、３．８μｍのアルマイト層を形成し、そ
の上に、同一条件でスパッタを行い、Ｃｏ−Ｎｉ磁性膜
を０．０７ ｐｍと０．１μｍと０．２μｍの３種類形
成した。保持力はそれぞれ、８７０ （Ｏｓ） 、７９
０これらの磁気ディスク（４インチ）をトラック幅１７
μｍのＭｎ−Ｚｎフェライト浮動ヘッドによりコンタク
トスタートストップでくり返し記録ビット長０．３７μ
ｍの記録再生を行った。
削により表面を平均粗さで３８０人となるよう仕上げて
、その上に、エポキシ樹脂中に平均粒子径２５０人のシ
リカ微粒子を分散させた塗布液をスピンコード法で平均
樹脂厚みが０．１μｍ となるよう塗布し、紫外線を７
００ ［”／ ２ ］ １．５秒照射し硬化させた。そ
の上にＣｏ−Ｎｉ磁性膜を０．０７μｍと０．１μｍの
２種類高周波スパッタ法周波グロー放電を発生させてタ
ーゲットと基板の距離を８ｃｒｎに保ちスパッタを行っ
た。Ｎｉ 含有量は２２原子係とした３、得られた磁性
膜の保磁力は０．０７７４ｍ と０．１μｍの膜でそれ
ぞれ、９００比較例として、同じＡＩ−Ｍｑ金合金アル
マイト処理し、３．８μｍのアルマイト層を形成し、そ
の上に、同一条件でスパッタを行い、Ｃｏ−Ｎｉ磁性膜
を０．０７ ｐｍと０．１μｍと０．２μｍの３種類形
成した。保持力はそれぞれ、８７０ （Ｏｓ） 、７９
０これらの磁気ディスク（４インチ）をトラック幅１７
μｍのＭｎ−Ｚｎフェライト浮動ヘッドによりコンタク
トスタートストップでくり返し記録ビット長０．３７μ
ｍの記録再生を行った。
信号の再生波形により磁性膜表面の劣化を評価°した。
対し、比較例は０．０７μ、０．１μ、０．２μとそれ
６ 八−７ ぞれ、１１万パス、２６万パス、１９０万パス。
６ 八−７ ぞれ、１１万パス、２６万パス、１９０万パス。
であった。比較例で０．２μｍの膜厚のものは実用上か
らみて許容できるレベルではあるが、厚み損失が大きく
又、保磁力の大きい膜が得にくいために、０．３７μｍ
のビット長では、本発明品の０．１μｍの磁性膜のもの
に比べて再生出力がｓ［ｄＢ）低い。
らみて許容できるレベルではあるが、厚み損失が大きく
又、保磁力の大きい膜が得にくいために、０．３７μｍ
のビット長では、本発明品の０．１μｍの磁性膜のもの
に比べて再生出力がｓ［ｄＢ）低い。
以上のように本実施例によれば、合金基板上に、微粒子
塗布層を設けその上に、スパッタ磁性膜を設けることに
より、記録密度を高めての記録再生で、くり返し使用回
数が大幅に向上する。
塗布層を設けその上に、スパッタ磁性膜を設けることに
より、記録密度を高めての記録再生で、くり返し使用回
数が大幅に向上する。
なお本実施例において合金基板６はＡｌ−Ｍｑ金合金し
たが、Ａｌ−Ｔｉ 、Ａｌ −Ｍｏ 、Ａｌ −Ｓｉ等
としてもよい。
たが、Ａｌ−Ｔｉ 、Ａｌ −Ｍｏ 、Ａｌ −Ｓｉ等
としてもよい。
微粒子８ｔｊニジリカを用イタカ、Ａｌ２Ｏ３，ＴｉＯ
２゜ＣａＣｏ３．ポリエステル球などでもよい。
２゜ＣａＣｏ３．ポリエステル球などでもよい。
樹脂９はエポキシとしたが、ポリエステル、ニトロセル
ロース、ポリウレタン、ポリカーボネートとしてもよい
。
ロース、ポリウレタン、ポリカーボネートとしてもよい
。
磁性膜１ｏはＣｏ−Ｎｉとしたが、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−
Ｍｇ 、 Ｃｏ−Ｔ ｉ 、 Ｃｏ−Ｃｒ 、 Ｃｏ−
Ｍｏ 、 Ｃｏ−Ｗ、 Ｃｏ−Ｖ 。
Ｍｇ 、 Ｃｏ−Ｔ ｉ 、 Ｃｏ−Ｃｒ 、 Ｃｏ−
Ｍｏ 、 Ｃｏ−Ｗ、 Ｃｏ−Ｖ 。
Ｃｏ−Ｎｉ−０等としてもよい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高密度磁気記録再生を浮
動ヘッドを用いてくり返し行う土で、極性膜に傷が入る
ことにより低下する信頼性を著しく向上せしめることが
できるといったすぐれた効果を得ることができる。
動ヘッドを用いてくり返し行う土で、極性膜に傷が入る
ことにより低下する信頼性を著しく向上せしめることが
できるといったすぐれた効果を得ることができる。
第１図は本発明の実施例の磁気ディスクの拡大断面図、
第２図、第３図は従来の磁気ディスクの拡大断面図であ
る。 ６・・・・・・合金基板、７・・・・・・微粒子塗布層
、１０・・・・・・スパッタ磁性膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名６・
・・存血基板 第１図 ７１．徴７立８老布層ｐ５１、スハ
町ツタ石盛）ＰＬ湧乏 ｌθ
第２図、第３図は従来の磁気ディスクの拡大断面図であ
る。 ６・・・・・・合金基板、７・・・・・・微粒子塗布層
、１０・・・・・・スパッタ磁性膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名６・
・・存血基板 第１図 ７１．徴７立８老布層ｐ５１、スハ
町ツタ石盛）ＰＬ湧乏 ｌθ
Claims (1)
- 合金基板上に微粒子塗布層を配し、スパッタ磁性膜を配
して成ることを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7298785A JPS61230618A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7298785A JPS61230618A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230618A true JPS61230618A (ja) | 1986-10-14 |
Family
ID=13505252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7298785A Pending JPS61230618A (ja) | 1985-04-05 | 1985-04-05 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61230618A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02208826A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜型磁気ディスク |
-
1985
- 1985-04-05 JP JP7298785A patent/JPS61230618A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02208826A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜型磁気ディスク |
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