JPS61210691A - 水平回路を有する配線板の製造方法 - Google Patents
水平回路を有する配線板の製造方法Info
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- JPS61210691A JPS61210691A JP5301985A JP5301985A JPS61210691A JP S61210691 A JPS61210691 A JP S61210691A JP 5301985 A JP5301985 A JP 5301985A JP 5301985 A JP5301985 A JP 5301985A JP S61210691 A JPS61210691 A JP S61210691A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(、)産業上の利用分野
本発明は、回路が基板内に埋没してフラットな面となっ
た配線板、すなわち水平回路を有する配線板を製造する
方法に関するものである。
た配線板、すなわち水平回路を有する配線板を製造する
方法に関するものである。
(b)従来の技術
水平回路を有する配線板を製造する方法として、従来次
に述べるような方法が提案されてC・る。
に述べるような方法が提案されてC・る。
第一の方法は、金属板上に形成した回路を絶縁性樹脂で
固化したあと、金属板を化学的エツチングにより除去す
ることにより、回路を絶縁性樹脂に付着させる方法であ
る。
固化したあと、金属板を化学的エツチングにより除去す
ることにより、回路を絶縁性樹脂に付着させる方法であ
る。
第二の方法は、金属板上に回路を形成したあと、この上
に硬化時に還元性物質(ホルマリン)および水を発生す
る熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグが少なくとも表
面層に、また吸湿による寸法変化の小さい熱硬化性樹脂
を含浸させたプリプレグが中間層になるように積層し、
加圧加熱して成形してから、成形基板から金属板を吸盤
などで吸引して分離する方法である(特公昭57−11
125号公報)。硬化時に還元性物質および水を発生す
る熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグを表面層に配置
する理由は、還元性物質および水が、金属板の表面にで
島でいる酸化膜を除去すると共に、プリプレグ基板に転
写した回路が金属板に接着することを防ぐためである。
に硬化時に還元性物質(ホルマリン)および水を発生す
る熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグが少なくとも表
面層に、また吸湿による寸法変化の小さい熱硬化性樹脂
を含浸させたプリプレグが中間層になるように積層し、
加圧加熱して成形してから、成形基板から金属板を吸盤
などで吸引して分離する方法である(特公昭57−11
125号公報)。硬化時に還元性物質および水を発生す
る熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグを表面層に配置
する理由は、還元性物質および水が、金属板の表面にで
島でいる酸化膜を除去すると共に、プリプレグ基板に転
写した回路が金属板に接着することを防ぐためである。
第三の方法は、金属板の表面に、印刷配線回路の不要な
部分のみに永久保護被覆を施しくこの場合金属板裏面は
メッキが行なわれないように樹脂コートを施す)、つい
で下地金属の露出部に金属メッキを施したあと、上記永
久保護被覆の上からプリプレグを積層したあと加熱加圧
硬化させ、得られた積層物から下地金属のみをエツチン
グ又はビール剥離により除去する方法である(特開昭5
6−135998号公報)。
部分のみに永久保護被覆を施しくこの場合金属板裏面は
メッキが行なわれないように樹脂コートを施す)、つい
で下地金属の露出部に金属メッキを施したあと、上記永
久保護被覆の上からプリプレグを積層したあと加熱加圧
硬化させ、得られた積層物から下地金属のみをエツチン
グ又はビール剥離により除去する方法である(特開昭5
6−135998号公報)。
(c)発明が解決しようとする問題点
しかしなから、上記第一の方法は、金属板の除去のため
にエツチングを行なわなければならないため回路の電気
的特性を損なう恐れがあり、又金属板およびエツチング
液が消費されるためコスト的な面でも省資源の面でも不
利となる。
にエツチングを行なわなければならないため回路の電気
的特性を損なう恐れがあり、又金属板およびエツチング
液が消費されるためコスト的な面でも省資源の面でも不
利となる。
次に上記第二の方法は、金属板の剥離又は除去を容易に
するために加熱加圧硬化時に縮合反応によりホルマリン
および水を発生する材料を選択しなければならないが、
このような材料を用いると作業環境を悪くするうえ、積
層硬化物の耐熱寸法安定性を低下させる恐れがある。
するために加熱加圧硬化時に縮合反応によりホルマリン
および水を発生する材料を選択しなければならないが、
このような材料を用いると作業環境を悪くするうえ、積
層硬化物の耐熱寸法安定性を低下させる恐れがある。
又上記第三の方法においでは、金属板をビール剥離によ
り除去する場合は、金属との接着性の優れたエポキシプ
リプレグを用いると金属板面にエポキシ樹脂が部分的に
残ったり、あるいは金属板にメッキが残ったりして回路
が完全に転写されない場合があり、又金属板をエツチン
グにより除去する場合は、金属裏面にコートした樹脂コ
ートを除去する工程が必要となるため作業が煩雑になり
、さらには金属板およびエツチング液が消費される=4
− という不利もある。
り除去する場合は、金属との接着性の優れたエポキシプ
リプレグを用いると金属板面にエポキシ樹脂が部分的に
残ったり、あるいは金属板にメッキが残ったりして回路
が完全に転写されない場合があり、又金属板をエツチン
グにより除去する場合は、金属裏面にコートした樹脂コ
ートを除去する工程が必要となるため作業が煩雑になり
、さらには金属板およびエツチング液が消費される=4
− という不利もある。
(d)問題点を解決するための手段
上述の問題点は、金属板上に回路を形成し、この金属板
を最終的には剥離又はエツチングにより除去することか
ら発生するものである。そこで本発明者は金属板を用い
ないで水平回路を有する回路板を工業的に有利に製造す
る方法を見出すべく研究を重ねた結果、本発明に到達す
るに至った。
を最終的には剥離又はエツチングにより除去することか
ら発生するものである。そこで本発明者は金属板を用い
ないで水平回路を有する回路板を工業的に有利に製造す
る方法を見出すべく研究を重ねた結果、本発明に到達す
るに至った。
即ち本発明の水平回路を有する配線板の製造方法は、
耐熱性プラスチックスフィルム面上に回路形成用材料を
用いて回路を形成する工程(A)、回路を形成したプラ
スチックスフィルムの回路形成面側に、加熱加圧により
基板となる基板用材料を重ね合わせたあと、両者を加熱
加圧して一体化し、積層物をえる工程(B)、 得られた積層物からプラスチックスフィルムを除去する
ことにより、回路を基板に転写する工程(C)、 よりなることを特徴とするものである。
用いて回路を形成する工程(A)、回路を形成したプラ
スチックスフィルムの回路形成面側に、加熱加圧により
基板となる基板用材料を重ね合わせたあと、両者を加熱
加圧して一体化し、積層物をえる工程(B)、 得られた積層物からプラスチックスフィルムを除去する
ことにより、回路を基板に転写する工程(C)、 よりなることを特徴とするものである。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明においては、まず耐熱性プラスチックスフィルム
の片面に回路形成用材料を用いて回路を形成する工程(
A)を実施する。
の片面に回路形成用材料を用いて回路を形成する工程(
A)を実施する。
耐熱性プラスチックスフィルムとしては、ポリエステル
フィルム又はポリイミドフィルムが好適に用いられるが
、ポリアミドフィルム(特に芳香族ポリアミドフィルム
)、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリカーボネート
フィルム、アセテートフィルム等の他のプラスチックス
フィルムを用いることもできる。
フィルム又はポリイミドフィルムが好適に用いられるが
、ポリアミドフィルム(特に芳香族ポリアミドフィルム
)、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィル
ム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリカーボネート
フィルム、アセテートフィルム等の他のプラスチックス
フィルムを用いることもできる。
これらのフィルムは耐熱性を有することが要求される。
耐熱性の程度は後述の工程(B)における加熱加圧に耐
えうる程度であればよい。
えうる程度であればよい。
又これらのフィルムは平滑性を有することが好ましいか
、その平滑の度合は、水平回路を有する配線板を得ると
いう目的から、表面粗さ5μI11以下であることが望
ましい。
、その平滑の度合は、水平回路を有する配線板を得ると
いう目的から、表面粗さ5μI11以下であることが望
ましい。
回路形成用材料を用いて耐熱性プラスチックスフィルム
の片面に回路を形成する方法としては、導電塗料をスク
リーン印刷などで印刷して所望のパターンを形成させ、
さらに用途によっては所望のパターンの抵抗塗料を塗布
したあと、焼き付けて硬化させる方法が採用できる。
の片面に回路を形成する方法としては、導電塗料をスク
リーン印刷などで印刷して所望のパターンを形成させ、
さらに用途によっては所望のパターンの抵抗塗料を塗布
したあと、焼き付けて硬化させる方法が採用できる。
又金属メッキ、金属蒸着により所望のパターンを形成さ
せ、さらに用途によっては所望のパターンの抵抗塗料を
塗布したあと、焼き付けて硬化させる方法も採用できる
。金属メッキとしては、銅メッキ、ニッケルメッキ、金
メッキ、銀メッキ、ハンダメッキ等が挙げられ、金属蒸
着としては、アルミニウム蒸着、亜鉛蒸着、銀蒸着、銅
蒸着、カドミウム蒸着等が挙げられる。
せ、さらに用途によっては所望のパターンの抵抗塗料を
塗布したあと、焼き付けて硬化させる方法も採用できる
。金属メッキとしては、銅メッキ、ニッケルメッキ、金
メッキ、銀メッキ、ハンダメッキ等が挙げられ、金属蒸
着としては、アルミニウム蒸着、亜鉛蒸着、銀蒸着、銅
蒸着、カドミウム蒸着等が挙げられる。
本発明においては、次に、回路を形成したプラスチック
スフィルムの回路形成面側に、加熱加圧により基板とな
る基板用材料を重ね合わせたあと、両者を加熱加圧して
一体化し、積層物を得る工程(B)を実施する。
スフィルムの回路形成面側に、加熱加圧により基板とな
る基板用材料を重ね合わせたあと、両者を加熱加圧して
一体化し、積層物を得る工程(B)を実施する。
基板用材料としては、ガラスクロス、〃ラスロービング
、ガラスマット、紙などの補強材に硬化剤を配合したエ
ポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、7エ/−ル樹脂
、シリフーン樹脂などの樹脂を含浸させて乾燥し、半硬
化状態(Bステージ状態)にしたプリプレグが好適に用
いられる。プリプレグは、その枚数を調整することによ
り所望の基板厚みに変化させることが可能であり、プラ
スチックスフィルム上に形成させた回路との密着性の点
でも優れている。
、ガラスマット、紙などの補強材に硬化剤を配合したエ
ポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、7エ/−ル樹脂
、シリフーン樹脂などの樹脂を含浸させて乾燥し、半硬
化状態(Bステージ状態)にしたプリプレグが好適に用
いられる。プリプレグは、その枚数を調整することによ
り所望の基板厚みに変化させることが可能であり、プラ
スチックスフィルム上に形成させた回路との密着性の点
でも優れている。
又基板用材料としては、不飽和ポリエステル樹脂にガラ
ス繊維、有機繊維等の補強材、炭酸カルシウム、クレー
、ケイソウ土、シリカ、石綿、王。
ス繊維、有機繊維等の補強材、炭酸カルシウム、クレー
、ケイソウ土、シリカ、石綿、王。
酸化アンチモン、硫酸バリウム、マイカ、炭酸マグネシ
ウム、水利アルミナ、塩化パラフィンなどの充填剤、ベ
ンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエート
などの重合触媒、そのほか着色剤、離型剤等を配合して
混練したブリミックスも用いられる。
ウム、水利アルミナ、塩化パラフィンなどの充填剤、ベ
ンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエート
などの重合触媒、そのほか着色剤、離型剤等を配合して
混練したブリミックスも用いられる。
そのほか基板用材料としては、メラミン樹脂、尿素樹脂
、グアナミン樹脂、ジアリル7タレニト樹脂、7エ7−
ル樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂に必要に応じ
適当な副資材を配合したもの、更にポリアミド、ポリカ
ーボネート、ポリアセタール樹脂、ABS樹脂、As樹
脂、ポリプロピレン、エチレン−ビニルアルコール共重
合体、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート
、ポリフェニレンサルファイドなどの熱可塑性樹脂に必
要に応じ適当な副資材を配合したものも用いることがで
外る。
、グアナミン樹脂、ジアリル7タレニト樹脂、7エ7−
ル樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂に必要に応じ
適当な副資材を配合したもの、更にポリアミド、ポリカ
ーボネート、ポリアセタール樹脂、ABS樹脂、As樹
脂、ポリプロピレン、エチレン−ビニルアルコール共重
合体、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート
、ポリフェニレンサルファイドなどの熱可塑性樹脂に必
要に応じ適当な副資材を配合したものも用いることがで
外る。
プラスチックスフィルムと基板用材料との特に好ましい
組み合わせは、 プラスチックスフィルムが表面粗さ5μI11以下、1
50℃で30分間経過した後の熱収縮T$3%以下のボ
リエ′ステルフィルムであり、基板用材料が芳香族アミ
ン系、酸無水物系又は三7フ化ホウ素アミンコンプレッ
クス系の硬化剤を硬化剤とするエポキシ樹脂組成物を含
浸したガラスエポキンプリブレグ又は紙エポキシプリプ
レグである場合、プラスチックスフィルムが表面粗さ5
μ「n以下、220℃で30分間経過した後の熱収縮率
3%以下のポリイミドフィルムであり、基板用材料が硬
化剤の限定をしないエポキシ樹脂組成物を含浸したガラ
スエポキシプリプレグ、紙エポキシプリプレグ又はガラ
スポリイミドプリプレグである場合、である。 プラス
チックスフィルムの回路形成面側に、上記のような基板
用材料を重ね合わせで熱プレス等の手段により加熱加圧
すれば、両者は一体化して積層物が得られる。プラスチ
ックスフィルム上の回路形成面と基板用材料との間には
若干の段差が生じているが、基板用材料が熱硬化性樹脂
を用いたものであるときは加熱加圧初期におい ・て樹
脂が流動して空隙に樹脂が充填され、基板用材料が熱可
塑性樹脂を用いたものであるときは樹脂が軟化ないし溶
融して空隙が充iされるので、何等支障はない。
組み合わせは、 プラスチックスフィルムが表面粗さ5μI11以下、1
50℃で30分間経過した後の熱収縮T$3%以下のボ
リエ′ステルフィルムであり、基板用材料が芳香族アミ
ン系、酸無水物系又は三7フ化ホウ素アミンコンプレッ
クス系の硬化剤を硬化剤とするエポキシ樹脂組成物を含
浸したガラスエポキンプリブレグ又は紙エポキシプリプ
レグである場合、プラスチックスフィルムが表面粗さ5
μ「n以下、220℃で30分間経過した後の熱収縮率
3%以下のポリイミドフィルムであり、基板用材料が硬
化剤の限定をしないエポキシ樹脂組成物を含浸したガラ
スエポキシプリプレグ、紙エポキシプリプレグ又はガラ
スポリイミドプリプレグである場合、である。 プラス
チックスフィルムの回路形成面側に、上記のような基板
用材料を重ね合わせで熱プレス等の手段により加熱加圧
すれば、両者は一体化して積層物が得られる。プラスチ
ックスフィルム上の回路形成面と基板用材料との間には
若干の段差が生じているが、基板用材料が熱硬化性樹脂
を用いたものであるときは加熱加圧初期におい ・て樹
脂が流動して空隙に樹脂が充填され、基板用材料が熱可
塑性樹脂を用いたものであるときは樹脂が軟化ないし溶
融して空隙が充iされるので、何等支障はない。
本発明においては最後に、上記で得られた積層物からプ
ラスチックスフィルムを除去することにより、回路を基
板に転写する工程(C)を実施する。
ラスチックスフィルムを除去することにより、回路を基
板に転写する工程(C)を実施する。
上述の積層物からのプラスチックスフィルムの除去は通
常ビール剥離によって行う。プラスチックスと基板用材
料の材質を適宜選択することにより、形成回路の基板側
に対する接着力をプラスチックスフィルム側よりも大き
くすることができるので、ビール剥離の場合でもこの剥
離処理は容易である。
常ビール剥離によって行う。プラスチックスと基板用材
料の材質を適宜選択することにより、形成回路の基板側
に対する接着力をプラスチックスフィルム側よりも大き
くすることができるので、ビール剥離の場合でもこの剥
離処理は容易である。
又積層物からのプラスチックスフィルムの除去は、プラ
スチックスフィルムを適当な有機溶剤や無機溶剤で溶解
することによっても達成できる。
スチックスフィルムを適当な有機溶剤や無機溶剤で溶解
することによっても達成できる。
この際溶剤をシャワリングするようにすれば、溶解に至
らずとも膨潤脱化するだけでフィルムを完全に除去する
ことができる。なおプラスチックスフィルムの除去に溶
解除去法を採用する場合は、形成回路の基板およびプラ
スチックスフィルムに対する接着力は、どちらが強くて
も差し支えはな1.1 。
らずとも膨潤脱化するだけでフィルムを完全に除去する
ことができる。なおプラスチックスフィルムの除去に溶
解除去法を採用する場合は、形成回路の基板およびプラ
スチックスフィルムに対する接着力は、どちらが強くて
も差し支えはな1.1 。
上記各工程を経ることにより目的とする水平回路を有す
る配線板が得られる。
る配線板が得られる。
(e)作用
本発明により得られた配線板は、回路が完全に基板内に
埋没されてフラットとなった水平回路板であり、摺動性
が要求される用途に用いる配線板として特に有用である
。たとえばこの配線板を可変抵抗器用抵抗体として用い
た場合、刷子による摺動特性が優れているので摺動寿命
、摺動雑音防止性などが優れている。
埋没されてフラットとなった水平回路板であり、摺動性
が要求される用途に用いる配線板として特に有用である
。たとえばこの配線板を可変抵抗器用抵抗体として用い
た場合、刷子による摺動特性が優れているので摺動寿命
、摺動雑音防止性などが優れている。
(f)実施例
以下、本発明を実施例にて説明する。
第1図(イ)〜(ホ)は実施例1の工程説明図、第2図
(イ)〜(へ)は実施例2の工程説明図、第3図(イ)
〜(ホ)は実施例3の工程説明図、第4図(イ)〜(ホ
)は実施例4の工程説明図、第5図(イ)〜(ト)は実
施例5の工程説明図である。
(イ)〜(へ)は実施例2の工程説明図、第3図(イ)
〜(ホ)は実施例3の工程説明図、第4図(イ)〜(ホ
)は実施例4の工程説明図、第5図(イ)〜(ト)は実
施例5の工程説明図である。
各図において、(1)はプラスチックスフィルム、(2
a)、(2b)、(2c)−(2d)はそれぞれ回路形
成材料としての導電塗料、抵抗塗料、金属メッキ、金属
蒸着であり、(2)はそれらの回路形成材料により形成
された回路である。(3a)’=(3b)はそれぞれ基
板用材料としてのプリプレグ、プリミックスであり、(
3)はそれらの基板用材料の加熱加圧により形成した基
板である。(4)は熱プレス装置、(5)はメッキレノ
ストである。
a)、(2b)、(2c)−(2d)はそれぞれ回路形
成材料としての導電塗料、抵抗塗料、金属メッキ、金属
蒸着であり、(2)はそれらの回路形成材料により形成
された回路である。(3a)’=(3b)はそれぞれ基
板用材料としてのプリプレグ、プリミックスであり、(
3)はそれらの基板用材料の加熱加圧により形成した基
板である。(4)は熱プレス装置、(5)はメッキレノ
ストである。
実施例1
表面粗さ1μm0.150°Cで30分間経過した後の
熱収縮率1.5%、厚さ0.05+n+oの二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム(1)の片面に、ス
クリーン印刷法により導電塗料としての銀塗料(2a)
を印刷しく第1図(イ))、さらにスクリーン印刷法に
より抵抗塗料(2b)を印刷しく第1図(ロ))、12
0℃で1時間熱処理して回路(2)を形成させた。
熱収縮率1.5%、厚さ0.05+n+oの二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム(1)の片面に、ス
クリーン印刷法により導電塗料としての銀塗料(2a)
を印刷しく第1図(イ))、さらにスクリーン印刷法に
より抵抗塗料(2b)を印刷しく第1図(ロ))、12
0℃で1時間熱処理して回路(2)を形成させた。
ついで上記フィルム(1)上の回路(2)形成面側に、
ジアミノジフェニルスルホンを硬化剤とした厚さ9.1
m+oのガラス基材エポキシプリプレグ(3a)10枚
を重ね(第1図(ハ))、熱プレス装置(4)を用いて
温度160℃、圧力30 kg/ etf12の条件下
に10分間熱プレスを行った。その結果プリプレグ(3
a)は硬化して基板(3)となり、フィルム(1)、回
路(2)、および基板(3)が完全に一体となった積層
物が得られた(第1図(ニ))。
ジアミノジフェニルスルホンを硬化剤とした厚さ9.1
m+oのガラス基材エポキシプリプレグ(3a)10枚
を重ね(第1図(ハ))、熱プレス装置(4)を用いて
温度160℃、圧力30 kg/ etf12の条件下
に10分間熱プレスを行った。その結果プリプレグ(3
a)は硬化して基板(3)となり、フィルム(1)、回
路(2)、および基板(3)が完全に一体となった積層
物が得られた(第1図(ニ))。
次にこの積層物からフィルム(1)をビール剥離したと
ころ(第1図(ホ))、フィルム(1)は容易に剥離除
去され、回路(2)が基板(3)に転写された厚さ0.
9m+nの可変抵抗器用抵抗体が得られた。
ころ(第1図(ホ))、フィルム(1)は容易に剥離除
去され、回路(2)が基板(3)に転写された厚さ0.
9m+nの可変抵抗器用抵抗体が得られた。
この抵抗体は回路(2)が基板(3)内に埋没されてい
て表面が完全に7ラツトになっていた。
て表面が完全に7ラツトになっていた。
実施例2
表面粗さ1μ+n、220℃で30分間経過した後の熱
収縮率0.3%、厚さ0.05m+oのポリイミドフィ
ルム(1)の片面に、スクリーン印刷によりアクリル樹
脂を主剤とするメツキレシスト(リストンN08000
)(5)を0.025mmの厚さにコートしく第2図(
イ))、150℃で1時間熱処理した。
収縮率0.3%、厚さ0.05m+oのポリイミドフィ
ルム(1)の片面に、スクリーン印刷によりアクリル樹
脂を主剤とするメツキレシスト(リストンN08000
)(5)を0.025mmの厚さにコートしく第2図(
イ))、150℃で1時間熱処理した。
ついでこのフィルム(1)の前記レジス) (5)コー
ト部以外の箇所をパラジウム塩で処理し、ついで、無電
解メッキ法により当該箇所に銅メッキ(2C)を施した
(第2図(ロ))。
ト部以外の箇所をパラジウム塩で処理し、ついで、無電
解メッキ法により当該箇所に銅メッキ(2C)を施した
(第2図(ロ))。
この後上記メツキレシスト(5)を水酸化ナトリウムの
5%水溶液で除去し、さらに水洗乾燥し、厚み0.02
+n+nの銅回路(2)を得た(第2図(ハ))。
5%水溶液で除去し、さらに水洗乾燥し、厚み0.02
+n+nの銅回路(2)を得た(第2図(ハ))。
次にフィルム(1)上の銅メッキ(2c)による回路(
2)面に、厚さ0.08m+nのガラス基材プリプレグ
(3a)11枚を重ね(第2図(ニ))、熱プレス装置
(4)を用いて温度180℃、圧力40kg/cro2
の条件下に90分間熱プレスを行った結果、プリプレグ
(3a)は硬化して基板(3)となり、フィルム(1)
、回路(2)および基板(3)が一体となった積層物が
得られた(第2図(ホ))。この積層物を乾燥機中で2
20°Cで15時間熱処理した。
2)面に、厚さ0.08m+nのガラス基材プリプレグ
(3a)11枚を重ね(第2図(ニ))、熱プレス装置
(4)を用いて温度180℃、圧力40kg/cro2
の条件下に90分間熱プレスを行った結果、プリプレグ
(3a)は硬化して基板(3)となり、フィルム(1)
、回路(2)および基板(3)が一体となった積層物が
得られた(第2図(ホ))。この積層物を乾燥機中で2
20°Cで15時間熱処理した。
次にこの積層物からフィルム(1)をビール剥離したと
ころ(第2図(へ))、フィルム(1)は容易に除去さ
れ、メッキ回路(2)が基板(3)に転′f:J′され
た厚さ0 + 81?mの配線板が得られた。
ころ(第2図(へ))、フィルム(1)は容易に除去さ
れ、メッキ回路(2)が基板(3)に転′f:J′され
た厚さ0 + 81?mの配線板が得られた。
この配線板は回路(2)が基板(3)内に埋没されてい
て表面が完全に7ラツト1こなっていた。
て表面が完全に7ラツト1こなっていた。
実施例3
表面粗さ1μ+n、150℃で30分間経過した後の熱
収縮率1.5%、厚さ0.05+o+nの二軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルム(1)の片−=’i5
− 面に、スクリーンを介して金属蒸着としてのアルミニウ
ム(2d)を蒸着させ(第3図(イ))、さらにスクリ
ーン印刷法により抵抗塗料(2b)を印刷しく第3図(
ロ))、120℃で1時間熱処理して回路(2)を形成
させた。
収縮率1.5%、厚さ0.05+o+nの二軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルム(1)の片−=’i5
− 面に、スクリーンを介して金属蒸着としてのアルミニウ
ム(2d)を蒸着させ(第3図(イ))、さらにスクリ
ーン印刷法により抵抗塗料(2b)を印刷しく第3図(
ロ))、120℃で1時間熱処理して回路(2)を形成
させた。
ついでフィルム(1)上の回路(2)形成面側に、無水
トリメリット酸を硬化剤とした厚さ0.11Il+aの
紙基材エポキシプリプレグ(3a)10枚を重ね(第3
図(ハ))、熱プレス装置(4)を用いて温度180℃
、圧力30 kg/ 0m2の条件下に60分間熱プレ
スを行った。その結果プリプレグ(3a)は硬化して基
板(3)となり、フィルム(1)、回路(2)および基
板(3)が完全に一体となった積層物が得られた(第3
図(ニ))。
トリメリット酸を硬化剤とした厚さ0.11Il+aの
紙基材エポキシプリプレグ(3a)10枚を重ね(第3
図(ハ))、熱プレス装置(4)を用いて温度180℃
、圧力30 kg/ 0m2の条件下に60分間熱プレ
スを行った。その結果プリプレグ(3a)は硬化して基
板(3)となり、フィルム(1)、回路(2)および基
板(3)が完全に一体となった積層物が得られた(第3
図(ニ))。
次にこの積層物からフィルム(1)をビール剥離したと
ころ(#&3図(ホ))、フィルム(1)は容易に剥離
除去され、回路(2)が基板(3)に転写された厚さ0
.9mmの可変抵抗器用抵抗体が得られた。
ころ(#&3図(ホ))、フィルム(1)は容易に剥離
除去され、回路(2)が基板(3)に転写された厚さ0
.9mmの可変抵抗器用抵抗体が得られた。
この抵抗体は回路(2)が基板(3)内に埋没されてい
て表面が完全にフラットになっていた。
て表面が完全にフラットになっていた。
実施例4
表面粗さ2μm、150℃で30分間経過した後の熱収
縮率5.0%、厚さ0.05+n+nのポリビニルアル
コールフィルム(1)の片面に、スクリーン印刷法によ
り導電塗料としての銀塗料(2a)を印刷しく第4図(
イ))、さらにスクリーン印刷法により抵抗塗料(2b
)を印刷しく第4図(ロ))、120℃で1時間熱処理
して回路(2)を形成させた。
縮率5.0%、厚さ0.05+n+nのポリビニルアル
コールフィルム(1)の片面に、スクリーン印刷法によ
り導電塗料としての銀塗料(2a)を印刷しく第4図(
イ))、さらにスクリーン印刷法により抵抗塗料(2b
)を印刷しく第4図(ロ))、120℃で1時間熱処理
して回路(2)を形成させた。
ついでフィルム(1)上の回路(2)形成面側に、不飽
和ポリエステル樹脂30%、炭酸カルシウム50%、ガ
ラスN&雑20%および少量の離型剤と触媒を配合した
パテ状のプリミックス(3b)を塗工しく第4図(ハ)
)、熱プレス装置(4)を用いて温度150℃、圧力3
0 kg/ 0m2の条件下に20分間熱プレスを行っ
た。その結果プリミックス(31+)は硬化して厚さ3
.Oo++++の基板(3)となり、フィルム(1)、
回路(2)および基板(3)が完全に一体となった積層
物が得られた(第4図(ニ))。
和ポリエステル樹脂30%、炭酸カルシウム50%、ガ
ラスN&雑20%および少量の離型剤と触媒を配合した
パテ状のプリミックス(3b)を塗工しく第4図(ハ)
)、熱プレス装置(4)を用いて温度150℃、圧力3
0 kg/ 0m2の条件下に20分間熱プレスを行っ
た。その結果プリミックス(31+)は硬化して厚さ3
.Oo++++の基板(3)となり、フィルム(1)、
回路(2)および基板(3)が完全に一体となった積層
物が得られた(第4図(ニ))。
次にこの積層物のフィルム(1)側に温水をシャワリン
グしたところ、フィルム(1)は半溶解した状態で容易
に除去され、回路(2)が基板(3)に転写された厚さ
0.91の可変抵抗器用抵抗体が得られた(第4図(ホ
))。
グしたところ、フィルム(1)は半溶解した状態で容易
に除去され、回路(2)が基板(3)に転写された厚さ
0.91の可変抵抗器用抵抗体が得られた(第4図(ホ
))。
この抵抗体は回路(2)が基板(3)内に埋没されてい
て表面が完全に7ラツトになっていた。
て表面が完全に7ラツトになっていた。
実施例5
表面粗さ1μa+、150℃で30分間経過した後の熱
収縮率1.5%、厚さ0.05+nll1の二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム(1)の片面に、予
め所望のパターンが穿設されたステンレス製マスクシー
)(10)を密着させ(第5図(イ)゛)、この面にク
ラスターイオンビーム蒸着法により35μωの銅膜(2
d)を形成しく第5図(ロ))、次いで、上記マスクシ
ート(10)をフィルム面より除去し銅回路を形成させ
た(第5図(ハ))。
収縮率1.5%、厚さ0.05+nll1の二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム(1)の片面に、予
め所望のパターンが穿設されたステンレス製マスクシー
)(10)を密着させ(第5図(イ)゛)、この面にク
ラスターイオンビーム蒸着法により35μωの銅膜(2
d)を形成しく第5図(ロ))、次いで、上記マスクシ
ート(10)をフィルム面より除去し銅回路を形成させ
た(第5図(ハ))。
次いで、この回路の一部にスクリーン印刷法により、抵
抗塗料(2+3)を印刷し、120℃で1時間熱処理し
て回路(2)を形成した(第5図(ニ))。
抗塗料(2+3)を印刷し、120℃で1時間熱処理し
て回路(2)を形成した(第5図(ニ))。
次いで、上記フィルム(1)上の回路(2)形成面側に
、三7ツ化ホウ素モノエチルアミンを硬化剤とした厚さ
0.110I11のガラス基材エポキシプリプレグ(3
a)11枚を重ね(第5図(ホ))、熱プレス装置(4
)を用いて温度175°C1圧力30kg/cIf12
の条件下で15分間熱プレスを行った。その結果プリプ
レグ(3a)は硬化して基板(3)となり、フィルム(
1)、回路(2)および基板(3)が完全に一体となっ
た積層物が得られた(第5図(へ))。次にこの積層物
からフィルム(1)をビール剥離したところ(第5図(
ト))、フィルム(1)は容易に剥離除去され、蒸着回
路および抵抗回路(2)が基板(3)に転写された厚さ
1.0IflIflの回路体が得られた。
、三7ツ化ホウ素モノエチルアミンを硬化剤とした厚さ
0.110I11のガラス基材エポキシプリプレグ(3
a)11枚を重ね(第5図(ホ))、熱プレス装置(4
)を用いて温度175°C1圧力30kg/cIf12
の条件下で15分間熱プレスを行った。その結果プリプ
レグ(3a)は硬化して基板(3)となり、フィルム(
1)、回路(2)および基板(3)が完全に一体となっ
た積層物が得られた(第5図(へ))。次にこの積層物
からフィルム(1)をビール剥離したところ(第5図(
ト))、フィルム(1)は容易に剥離除去され、蒸着回
路および抵抗回路(2)が基板(3)に転写された厚さ
1.0IflIflの回路体が得られた。
この回路体は回路(2)が基板(3)内に埋没されてい
て表面が完全に7ラツトな回路板になっていた。
て表面が完全に7ラツトな回路板になっていた。
(g)発明の効果
本発明は、金属板を用いることなく水平回路を有する配
線板を得るものであるため、従来の金属板を用いる方法
において、金属板の除去に際して避けることのできない
問題、1.父、たとえば基板への回路の転写の不完全、
平滑性の阻害、使用する金属板や基板形成材料の材質の
制限、金属板お上vs−ッチング液が消費されるための
コスト的な面および省資源の面での不利などの問題点が
一挙に解消される。
線板を得るものであるため、従来の金属板を用いる方法
において、金属板の除去に際して避けることのできない
問題、1.父、たとえば基板への回路の転写の不完全、
平滑性の阻害、使用する金属板や基板形成材料の材質の
制限、金属板お上vs−ッチング液が消費されるための
コスト的な面および省資源の面での不利などの問題点が
一挙に解消される。
又本発明の方法はプラスチックスフィルムの表面に回路
を形成し、この回路を基板に転写するものであるところ
、平滑性の高いプラスチックスフィルムは入手が容易で
あり、しかも安価であるので、目的物である水平回路を
有する配線板の平滑性は良好で製品品質が優れていると
同時に、製造コストの低減が図られるので有利である。
を形成し、この回路を基板に転写するものであるところ
、平滑性の高いプラスチックスフィルムは入手が容易で
あり、しかも安価であるので、目的物である水平回路を
有する配線板の平滑性は良好で製品品質が優れていると
同時に、製造コストの低減が図られるので有利である。
しかもプラスチックスフィルムは、金属板とは異なり透
明性のグレードを選択できるので、プラスチックスフィ
ルム剥離前の積層物の段階でプラスチックスフィルム側
から回路を透視することができ、製品チェックが容易で
ある。
明性のグレードを選択できるので、プラスチックスフィ
ルム剥離前の積層物の段階でプラスチックスフィルム側
から回路を透視することができ、製品チェックが容易で
ある。
さらには積層物からプラスチックスフィルムを除去しな
い形態で保存、輸送等に供すれば、プラスチックスフィ
ルムは保護フィルムの役割を果たし、回路の損傷および
ほこり等の付着が効果的に’−20− 防止されるという利点もある。
い形態で保存、輸送等に供すれば、プラスチックスフィ
ルムは保護フィルムの役割を果たし、回路の損傷および
ほこり等の付着が効果的に’−20− 防止されるという利点もある。
第1図(イ)〜(ホ)は実施例1の工程説明図、第2図
(イ)〜(へ)は実施例2の工程説明図、第3図(イ)
〜(ホ)は実施例3の工程説明図、第4図(イ)〜(ホ
)は実施例4の工程説明図、第5図(イ)〜(ト)は実
施例5の工程説明図である。 (1)プラスチックスフィルム、(2)回路、(2a)
導電塗料、(2b)抵抗塗料、(2c)金属メッキ、(
2d)金属蒸着、(3)基板、(3a)プリプレグ、(
3+1)プリミックス、(4)熱プレス装置、(5)メ
ンキレジスト
(イ)〜(へ)は実施例2の工程説明図、第3図(イ)
〜(ホ)は実施例3の工程説明図、第4図(イ)〜(ホ
)は実施例4の工程説明図、第5図(イ)〜(ト)は実
施例5の工程説明図である。 (1)プラスチックスフィルム、(2)回路、(2a)
導電塗料、(2b)抵抗塗料、(2c)金属メッキ、(
2d)金属蒸着、(3)基板、(3a)プリプレグ、(
3+1)プリミックス、(4)熱プレス装置、(5)メ
ンキレジスト
Claims (8)
- (1)耐熱性プラスチックスフィルム面上に回路形成用
材料を用いて回路を形成する工程(A)、回路を形成し
たプラスチックスフィルムの回路形成面側に、加熱加圧
により基板となる基板用材料を重ね合わせた後、両者を
加熱加圧して一体化し、積層物を得る工程(B)、 得られた積層物からプラスチックスフィルムを除去する
ことにより、回路を基板に転写する工程(C)、 よりなることを特徴とする水平回路を有する配線板の製
造方法。 - (2)工程(A)における回路の形成が、印刷、金属メ
ッキ又は金属蒸着によりなされたものである特許請求の
範囲第1項記載の製造方法。 - (3)プラスチックスフィルムが、ポリエステルフィル
ム又はポリイミドフィルムである特許請求の範囲第1項
記載の製造方法。 - (4)基板用材料が、プリプレグ又はプリミックスであ
る特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 - (5)プラスチックスフィルムがポリエステルフィルム
であり、基板用材料が、芳香族アミン系、酸無水物系又
は三フッ化ホウ素アミンコンプレックス系を硬化剤とす
るエポキシ樹脂組成物を含浸したガラスエポキシプリプ
レグ又は紙エポキシプリプレグである特許請求の範囲第
1項記載の製造方法。 - (6)ポリエステルフィルムが、表面粗さ5μm以下、
150℃で30分間経過した後の熱収縮率3%以下のポ
リエステルフィルムである特許請求の範囲第5項記載の
製造方法。 - (7)プラスチックスフィルムがポリイミドフィルムで
あり、基板用材料がエポキシ樹脂組成物を含浸したガラ
スエポキシプリプレグ、紙エポキシプリプレグ又はガラ
スポリイミドプリプレグである特許請求の範囲第1項記
載の製造方法。 - (8)ポリイミドフィルムが、表面粗さ5μm以下、2
20℃で30分間経過した後の熱収縮率3%以下のポリ
イミドフィルムである特許請求の範囲第7項記載の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5301985A JPS61210691A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 水平回路を有する配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5301985A JPS61210691A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 水平回路を有する配線板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61210691A true JPS61210691A (ja) | 1986-09-18 |
JPH0422039B2 JPH0422039B2 (ja) | 1992-04-15 |
Family
ID=12931186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5301985A Granted JPS61210691A (ja) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | 水平回路を有する配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61210691A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4867839A (en) * | 1987-09-04 | 1989-09-19 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Process for forming a circuit substrate |
JP2004214702A (ja) * | 2004-04-19 | 2004-07-29 | Kyocera Corp | 多層配線基板の製造方法 |
JP2011187510A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Tokyo Univ Of Science | 金属微細構造体及びその製造方法並びに樹脂成形物の製造方法 |
JP2020501350A (ja) * | 2016-12-08 | 2020-01-16 | ゴットフリート・ビルヘルム・ライプニッツ・ウニベルシタート・ハノーファー | 電気微細構造を適用する方法、エラストマー構造体、ファイバー複合材部品、及びタイヤ |
WO2022137951A1 (ja) * | 2020-12-25 | 2022-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 圧力測定用シートセット、圧力測定用シート、マイクロカプセル、分散液、圧力測定用シートセットの製造方法、圧力測定用シートの製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49114778A (ja) * | 1973-03-10 | 1974-11-01 | ||
JPS54139064A (en) * | 1978-04-19 | 1979-10-29 | Alps Electric Co Ltd | Method of forming circuit board |
-
1985
- 1985-03-15 JP JP5301985A patent/JPS61210691A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49114778A (ja) * | 1973-03-10 | 1974-11-01 | ||
JPS54139064A (en) * | 1978-04-19 | 1979-10-29 | Alps Electric Co Ltd | Method of forming circuit board |
Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
US4867839A (en) * | 1987-09-04 | 1989-09-19 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Process for forming a circuit substrate |
JP2004214702A (ja) * | 2004-04-19 | 2004-07-29 | Kyocera Corp | 多層配線基板の製造方法 |
JP2011187510A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Tokyo Univ Of Science | 金属微細構造体及びその製造方法並びに樹脂成形物の製造方法 |
JP2020501350A (ja) * | 2016-12-08 | 2020-01-16 | ゴットフリート・ビルヘルム・ライプニッツ・ウニベルシタート・ハノーファー | 電気微細構造を適用する方法、エラストマー構造体、ファイバー複合材部品、及びタイヤ |
WO2022137951A1 (ja) * | 2020-12-25 | 2022-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 圧力測定用シートセット、圧力測定用シート、マイクロカプセル、分散液、圧力測定用シートセットの製造方法、圧力測定用シートの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0422039B2 (ja) | 1992-04-15 |
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