JPS61200885A

JPS61200885A - 蒸気洗浄装置

Info

Publication number: JPS61200885A
Application number: JP3974385A
Authority: JP
Inventors: 松田　恒雄
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1985-02-28
Filing date: 1985-02-28
Publication date: 1986-09-05

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は各種光学、電子部品、半導体部品などの洗浄に
用いられる蒸気洗浄装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来この種の装置としては、例えば第３図に示すような
ものが知られている。これは、超音波洗浄装置と組合せ
た例で、フロン等の化学的に安定で気化しやすい液体を
入れた蒸気洗浄槽１と超音波洗浄槽２とが隣接して配置
されている。蒸気洗浄槽１中の液体は、底部に設けられ
た加熱器３によって加熱されて沸騰し、蒸気を発生する
。蒸気は、上部の凝縮コイル４で冷やされて液化し、水
分離器５において水を除去された後、超音波洗浄槽２に
収容される。超音波洗浄槽２から溢れた洗浄液は蒸気洗
浄槽１に戻る。

被洗浄物６は、超音波洗浄槽２で、振動子１の発生する
超音波振動により洗浄された後、蒸気洗浄槽１の蒸気中
に置かれ、表面に凝縮した洗浄液によって洗浄される。

その後、凝縮コイル４の部分に形成されているペーパー
ライン８の上方に取シ出されて乾燥され、一連の洗浄工
椙を終了する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、このような従来の蒸気洗浄装置においては、
上述した通シ、水分離器５によって洗浄液と水とを分離
し、水の洗浄液への混入および被洗浄物への付着防止を
図ってはいるが、水分離器５によって洗浄液と水とが完
全には分離されず、一部洗浄液に混って水が蒸気洗浄槽
１に混入したり、あるいはまた被洗浄物６の表面の水分
が蒸気洗浄槽１１Ｃ持ち込まれたシするため、完全には
防止することができず、そのため蒸気洗浄槽１内の水蒸
気が問題となる。

すなわち、ＩＣの製造に使用されるガラス基板の洗浄に
おいて、水が付着するとガラス表面と水との化学反応に
より、ガラス成分中のアルカリなどの可溶性成分が水中
のヒドロニウムイオン（Ｈｓ＋０　）とイオン交換反応を起こし、これがためガラス表
面に形成されている８ｉＱ愈、人１０８などの不溶轟に
とんだ薄膜の屈折率が変化し、その膜厚によって色々な
干渉色を呈するという不具合があつた。これを一般に「
彎ヤケ」と称している。また、ガラス形成酸化物（５ｉ
ｆｔ　、　Ｂｔｕｓなど）の加水分解によりガラス表面
全体が溶解すると、凹凸が生じ、水滴が蒸発した跡には
荒れた面と溶出した成分と空気中のガスとの化合物（Ｎ
ａｓＣＯｓなど）と、溶解した８　ｉｔｓの結晶が残さ
れて白いくもシを生じ、これを一般Ｋ「白ヤケ」と称し
ている。

一方、金属部品の洗浄においては水による腐食の問題が
ある。

また、トリクレンなどのハロン系洗浄剤を用いている場
合は、これが加水分解され、有害な塩酸などが発生する
。したがって、水を有効かつ効果的に除去し得る装置の
開発が要望されている。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明に係る蒸気洗浄装置は上記要望に応えるべくなさ
れたもので、洗浄液体を収容し、蒸気洗浄槽からオーバ
ーフローする液体がその液面上に溜った水（または水滴
）と共に導かれかつ少なくとも液位以下に設けられた開
口部を介して前記蒸気洗浄槽と連通ずる補助槽を設け、
この補助槽より前記液体を前記蒸気洗浄槽に補給するよ
うにしたものである。

〔作用〕

本発明においては、蒸気洗浄槽中の液面上に溜った水を
洗浄液と共にオーバーフローさせて除去しているので、
蒸気中の水分を減少させることができる。

〔実施例〕

以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。

第１図は本発明に係る蒸気洗浄装置の一実施例を示す構
成図である。同図において、蒸気洗浄槽１中の洗浄用液
体、例えばフロンが電気ヒータからなる加熱器３により
加熱されて気化し、上部の凝縮コイル４で冷やされて再
び液化し、水分離器５を介して超音波洗浄槽２に入る経
路、および被洗浄物Ｂを、振動子７の発生する超音波振
動により洗浄した後、蒸気洗浄し乾燥する手順は従来と
全く同様である。

しかし、本実施例では蒸気洗浄槽１中の液体を側壁１人
によって所定の液位に保ち、この側壁１人よりオーバー
フローする液体を、洗浄液を貯蔵する補助槽２０に配管
２１を介して導くようにしている。補助槽２０は仕切壁
２２によって仕切られることにより下部において互いに
連通する２つの室２３．２４を有し、その一方の室２３
に前記配管２１の一端が接続され、またこの室２３には
洗浄液が図示しない供給源からバルブ２５を介して随時
補給される。これに対して他方の室２４はその下部に右
いて前記蒸気洗浄槽１と配管２６を介して接続されてお
り、この配管２６の途中には前記室２４内の液体を前記
蒸気洗浄槽１に補給する手段としてのポンプ２７と、液
体中の異物を除去するフィルタ２８が配設されている。

このような構成において、空気中の水蒸気の冷却により
蒸気洗浄槽１に入る水（または水滴）はフロン洗浄液よ
り比重が小さく、またフロンは水に対して不溶性である
ため完全分離した状態で洗浄液の液面上に溜シ、該洗浄
液と共に側壁１人からオーバーフローし、補助槽２０の
一方の室２３に入る。したがって、蒸気洗浄槽１中に溜
る水を完全に除去することができる。また、室２３．２
４の液位は連通管の原理により常に等しいが、オーバー
フローにより一方の室２ＬＫ入った水は、比重差のため
仕切壁２２の下方を通って他方の室２４に移動すること
はない。したがって、室２４内の液体をポンプ２７によ
り配管２６を介して蒸気洗浄槽１に補給した際、水が混
入することはない。

この結果、蒸気洗浄槽１内の蒸気中に含まれている水分
が新人減少し、水の付着によるガラス部品の「青ヤケ」
、「白ヤケ」、金属部品の腐食等の問題を解消防止する
ことができる。

なお、一方の室２３に貯った水は一定時間毎もしくは随
時ドレン（図示せず）より排水される。

第２図は本発明の他の実施例を示す構成図で、配管２１
の上端開口部を一定の高さまで上げ、これによるオーバ
ーフローを利用して蒸気洗浄槽１中に溜る水を洗浄液と
共に補助槽２０に回収するようにしたものである。この
ような構成においても上記実施例と同様の効果が得られ
ることは明らかであろう。

なお、上記実施例は補助槽２０を仕切壁２２によって２
つの室２３．２４に分割し、その下部において互いに連
通させたが、本発明は原理的には仕切壁を必要とせず、
単に補助槽２０の壁面で液面以下の位置に配管２Ｂを接
続したものであればよい。但し、２つの室２３．２４に
分割し、配管２６を室２４側に接続しておくと、室２３
にオーバーフローした液体が水と共に導かれた時その水
が配管２６に入り込むのを防止する上で効果大である。

また、上記実施例は洗浄液としてフロンを使用したが、
通常蒸気洗浄に用いられる液体で水に対して不溶性で、
かつ水より比重の大きいものであればよい。

さらに、上記実施例は超音波洗浄装置に組合せた例につ
いて説明したが、超音波洗浄装置以外の洗浄装置、例え
ばヌク。ラブ洗浄装置や噴射洗浄装置に組合せてもよく
、勿論単独で用いてもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明に係る蒸気洗浄装置は、洗浄
用の液体を収容し蒸気洗浄槽と連通する補助槽を設け、
前記蒸気洗浄槽中の液体をその液面上に溜った水（また
は水滴）と共にオーバーフローさせて前記補助槽に回収
するように構成したので、蒸気洗浄槽内の蒸気中に含ま
れる水分の割合が減少し、水による被洗浄物の腐食、青
ヤケ。

白ヤケ等を回避することができる。また、オーバーフロ
ーし補助槽に回収された液体は、蒸気洗浄槽に再び補給
されるので、オーバー７０−による液体の損失もない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は本発
明の他の実施例を示す構成図、第３図は従来装置の一例
を示す構成図である。１・・・・蒸気洗浄槽、２・・・・超音波洗浄槽、３・
・・・加熱器、４・・・・彎縮コイル、６・・・・被洗
浄物、２０・・・・補助槽、２２ａｍ−赤仕切壁、２３
，２４・・・・室、２７・・・・ポンプ。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）加熱により気化しその蒸気で被洗浄物を洗浄する
液体を収容した蒸気洗浄槽と、前記液体を収容し、前記
蒸気洗浄槽からオーバーフローする前記液体がその液面
上に溜つた水（または水滴）と共に導かれかつ少なくと
も液位以下に設けられた開口部を介して前記蒸気洗浄槽
に連通する補助槽と、この補助槽より前記液体を前記洗
浄槽に補給する手段とを備えたことを特徴とする蒸気洗
浄装置。
（２）補助槽が下部において連通する２つの室を有し、
その一方の室に前記蒸気洗浄槽からオーバーフローする
液体がその液面上に溜まつた水（または水滴）と共に導
かれることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の蒸
気洗浄装置。