JPS61197778A - 循環式排出装置を有するダイアフラムポンプ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 意一上の利用分野　　　　　　″□ 本発明は、液圧媒体が完全に満たされているダイアフラ
ム作業室に対して搬送室を仕切るダイアフラムとピスト
ン室とを有するダイアフラム余ンプであって、前記ビス
トレーは、少なくとも２つの接続通路を介してダイアレ
ラム作業室に接続されていて、該ピストンｉ内で押退は
ピストンがダイアフラムを振動運一させるために往復運
動可能であって、前記通路がキャビテーションを排出す
るために、各ｉ読違路内で中位ｌの流れ速度が常に一方
の行程方向に向けられるように構成されている形式のも
のに関する。

従来の技術 前記形式の公知のダイアフラムポンプにおいてｉ％あら
かじめ液圧媒体内に形成されたガスが遊離してキャビテ
ーションの形状となって、ダイアフラムポンプの申し分
のない運転を妨げる不都合な箇所、例えばンストン室と
ダイアフラム作業室との間の接続通路に巣ｉるめを避け
ることができない。

前記不都合な箇所示らガスを抜くことは、小さいダイア
フラムポンプκお□いて及び従来構造の接続通′路にお
いては非常に困難であって、所定の条件下では不可能で
さえある。それ故このようなガス抜きは多くの場合、未
だ解決されていないか、又は構造費用を多くかけても不
十分にしか解決されていない問題を有している。

所定の大きさを有していて、ピストン室とダイアフラム
作業室との間の接続通路で所定の高い流れ速度が形成さ
れるダイアフラムポンプにおもては、接続通路内にキャ
ビテーションが形成されるのを避けることはほとんどで
きない。

しか蝙一度キャピテーションが形成されると、ダイアフ
ラムポンプの大きさに基づいて調量の正確さく影響を与
えることが困難になってしまう。

このような、液圧媒体内に常に形成されるキャビテーシ
ョンの影響は、行程容積が小さくひいてはダイアフラム
ポンプの搬送流が少なければ少ない程、その欠点は大き
くなることが分っている。これは、接続通路内で形成さ
れる流れ速度が遅くなればなる程、ポンプの行程容積に
対する形成されたキャビテーション容積の比がより不都
合になるということに基づいている。

従ってこれは、キャビテーションを吸込み圧から搬送圧
に圧縮するために押退はピストンの所定の行程部分が失
なわれることを意味する。し部 かしながらこの失なわれた行程区分は搬送効率を持たら
さないので、特に小さいダイアフラムポンプ及び特に微
量調量ポンプにおいて不都合である。

このような、搬送効率を持たらさない失なわれた若しく
は作用しない押退はピストンの行程部分は、液圧媒体に
形成されるキャビテーションが常に同じ大きさの容積を
有していればそれ根子都合ではないが、キャビテーショ
ンは不規則な形状で形成され、再び消失したりするので
全調量流は形成されたキャビテーションの数によって変
化する。これによって前記不都合な影響は、ダイアフラ
ムポンプの調量精度を著しく低下させる。ポンプの行程
容積が小さくなればなる程、欠点は大きくなる。それと
いうのはこの場合、キャビテーション容積に対する行程
容積の比は常に不都合になるからである。

キャビテーションを排出するために、ダイアフラム作業
室をピストン室に接続する２つの通路に逆止弁が、つま
り、２つの逆止弁が逆方向で開放若しくは閉鎖するよう
に設けられているダイアフラムポンプはすでに知られて
いる。このような配置形式によれば、吸込み弁と送り出
し弁とを備えたポンプのように作用する。それというの
は、吸込み弁を備えた一方の通路が常にピストンの吸込
み行程時においてのみ作用し、これに対して送り出し弁
を備えた他方の通路は常にピストンの送り出し行程時に
作用するからである。これによって、２つの接続通路内
で液圧媒体の純粋な循環流が得られ、液圧媒体内に形成
されたキャビテーションが強制的に排出される。

この公知の装置は、ダイアフラム作業室とピストン室と
の間に存在する接続通路全体に有効に作用させるための
逆止弁が設けられているために不都合であることが証明
された。これは、当該のダイアフラムポンプの費用を高
くする、構造的に高価な手段を必要とするだけではなく
、多くの場合実施できないものでおることが明らかにな
った。つまり特に、比較的多くの接続通路が設けられて
いる場合、又はこれらの接続通路が非常に小さい横断面
を有している場合に実施モきないので、逆止弁の配置は
まったく不可能である。

発明の課題 そこで本発明の課題は、冒頭に述べた形式のダイアフラ
ムポンプで、非常にわずかな構造費用で製造することが
できしかも存在する接続通路の数とは無関係な循環式排
出装ｍを設け％特に小さいダイアフラムポンプでキャビ
テーションの停滞が妨げられると同時に、キャビテーシ
ョンがピストン室又はダイアフラム作業室から取り除か
れる一所に自動的に送られるようにすることである。

課題を解決するための手段 前記課題を解決した本発明は、各接続通路の平行抵抗に
よって形成された、すべての接続通路の一方の流れ方向
における全流れ抵抗が他方の流れ方向における全流れ抵
抗とは異なっていて、ひいてはすべての接続通路におい
て全体的に、液圧媒体に含まれたキャビテーションのた
めの搬送流が得られるように、ダイアフラム作業室をピ
ストン室に接続する接続通路が配置されかつ構成されて
いる。

作用 本発明の基本的な考え万は、各接続通路の平行抵抗によ
って形成されるすべての接続通路の共通の全流れ抵抗を
一方の流れ方向と他方の流れ方向とで変える点にある。

それ故、本発明によれば、従来技術におけるように゛、
古典的な転換の意味で純粋な循環流を得るために、各接
続通路に逆上弁を設け、この逆止弁は他方の接続通路の
逆上弁とは反対に開放するような構造的に複雑な構成を
必要とするのではなく、中位の流れ速度だけを所定の一
方方向に向けるだけで十分である。従って、従来技術に
おいてはすべての接続通路の全流れ抵抗が２つの流れ方
向で同じ大きさであるのに対して、本発明によれば、二
方の流れ方向における全流れ抵抗は他方の流れ方向にお
ける全流れ抵抗とは異なっているので（これが非常に重
要なことなのであるがン、ピルグリムステップ法（ｐｉ
　Ｉｇｒ　ｉｍ　５ｔｅｐ　ｍｅｔｈｏｄ　）によって
特徴づけられた液圧媒体の流れが得られる。こうして本
発明によれば、すべての接続通路のｉれぞれの全流れ抵
抗が吸込み行程において、送り出し行程におけるのと異
なっているととが保証されているだけで、すべての接続
通路内に、中位の流れ速度の方向に抗する方向にも向け
られる流れが得られる。本発明のこの考えは次の式によ
って表わされる。

各接続通路に＝１．２．３・・・・・・ｎの平行抵抗に
よって形成される、すべての接続通路にの共通の全流れ
抵抗Ｒから出発して次の式が得られる。

吸込み行程時における全流れ抵抗Ｒ５は、送り出し行程
時における全流れ抵抗ＲＤは、□ 本発明によれは次の式が有効である。

ま九本発明の有利な実施態様によれば次の式が有効であ
る。

とは異なるものＫするために、ピストン室とダイアフラ
ム作業室との間の接続□通路めうちの１つだけが変化構
成されている。この場合、中位の流れ速度とは、吸込み
行程時の流れ速度並びに送り出し行程時の流れ速度から
の差のむとである。換言すれば、接続通路内には、公知
のダイア２ラムポンプにおいてそうで′あるように液圧
媒体の純粋に中立的な脈動流が形成されるのでは門〈□
、また純粋な循環流も存在せず、それぞれの通路内に、
中位の流れ速度が一方の方向、つまり吸込み方向又は送
り出し方向に向けられる□流れが形成され、キャビテー
ションはピルグリムステップ法に基づいて排出される。

これは本発明によれば、すべての接続通路ではなくｉつ
の接続通□路だけを相応に構成することによつソ、つま
り、二重の流れ方向（吸込み行゛程又は送り出し行程〕
における流れ抵抗が他方の流れ方向（送り出し行程又は
吸込み行程）にシけるよりも大きく、特に著しく大きく
なるよ゛うに構成することによって得られる。この゛よ
うな構造に基づいて、変えられた流れ抵抗を有する変化
構成され′た特別な接続通路はピストンが一方方向で運
動する際に他方方向で運動す゛る際よりも１常Ｋ＞トさ
い流れ速度に両筒される二゛これは他の接続通路にも相
応に作用する。つま゛り変化構成”された接続通路内ｋ
例えば吸込み行程中に着しく減少された流れ速度が形成
されるか又は液圧媒体がほとんど流れず、送り出しｉ程
中に所定の高い流れ速度が形成され、その他の接続通路
内では強制的にまったく逆のことが行なわれる。つまり
、補償を行なう必要があり、押退はピストンが往復運動
するために吸込み行程中並びに送り出し行程中に常に同
一量の液圧媒体が搬送されるからである。

従って、変化構成された接続通路内で例えば吸込み行程
中に流れ速度が著しく減少されるか又はほぼＯになると
、その他の接続通路における液圧媒体の流れ速度は吸込
み行程中は相応に高くなければならず、これに対して前
記例では送り出し行程中に全接続通路内に同一の流れ速
度が形成される。これＫよって次のような技術的効果が
得られる。つまり、本発明による構造部を有するすべて
の接続通路内で例えば吸込み行程時に高められた流れ抵
抗が形成されるので、送り出し行程方向、つｌ）ダイア
フラムへ向かつて全体的に中位の流れ速度が得られ、こ
れに対してその他の接続通路内では吸込み行程方向つま
り押退はピストンに向かって中位の流れ速度が得られる
。これによって所望の方向、つまりピストン及び／又は
ダイアフラムへ向かつて効果的な排出作用が得られる。

本発明によるダイアフラムポンプは次の点ですぐれてい
る。つまり１つの接続通路だけが、送り出し行程時及び
吸込み行程時に押退はピストンによって動かされる液圧
媒体のための、前記１つの接続通路内に形成される流れ
抵抗がその他の接続通路内の流れ抵抗とは異なるように
変化構成されているので、これによって全接続通路内に
全体的に、液圧媒体内に含有されたキャビテーションの
だめのピルグリムステップ法に従って作用する搬送流が
形成される。

本発明の特別な構造によれば、変化Ｓ成された接続通路
が、液圧媒体の流れに基づいて２つの位置間で可動な抵
抗体を有しており、該抵抗体がその−１の位置で液圧媒
体の流れ速度に影響を与えないが、他方の位置で増大さ
れた流れ抵抗を形成し、これによって液圧媒体の流れ速
度が遅くされる。

特に有利には、前記抵抗体がピンによって形成されてお
り、該ピンは変化構成された接続通路のほぼ垂直に延び
る孔区分内に配置されていて、流れ抵抗を増大させる位
置で重力の作用下で孔区分のショルダに載っている。こ
れはつまり、抵抗体として用いられるピンが本発明によ
って、このピンを有す・る接続通路の流れ抵抗が吸込み
行程で非常に大きくなるように構成されることを意味す
る。このような形式のピンは必らずしも孔区分のショル
ダに密接して載せる必要はないが、吸込み行程時におい
てのみ当該接続通路内で、送り出し行程時における流れ
抵抗と比べて着しく太きい流れ抵抗を生ぜしめるように
しなければならな込。

構造費用を高める唯一の点は、付加的なピンを設けなけ
ればならないということだけである。

この付加的なピンは、抵抗体として用いられ、当該接続
通路の簡単に天運可能な別個の孔区分内で−１では送り
出し行程時に流動する液圧媒体の作用下で持ち上げられ
、他方では吸込み行程時に重力の作用下で下降せしめら
る、つまり前記孔区分のショルダに載せられる。

抵抗体として用いられるピンは有利には、少なくともそ
の一端部で、面取りされた縁を備えているので、ピンを
相応に構成することによって吸込み行程時の流れ抵抗を
高める程度に影響を与えることができる。

本発明の枠内で、ピストン室及び／又は作業室に、通常
の排気弁又は漏らし弁に開口し本発明によって接続通路
から除かれたキャビテーションを搬出する別個の排気通
路を設けることができる。

本発明はすべての大きさのポンプにおいて適用すること
ができる。それというのは、本発明によって設けられた
撮気装置着しくは循環掃気装置を得るためには、わずか
な構造面の手間及び費用を必要とするだけだからである
。また、掃気装置の特別な形式は、液圧媒体の常に一部
だけが抵抗体を流過するという理由からもすべての大き
さのポンプにおいて可能である。一般に、本発明は設け
られている接続通路の数とは無関係に適用される。これ
はさらに別の大きな利点を持たらす。

従って本発明によれば、従来技術のものとは異なり、２
つの基本的な要求が満たされている。

つまり第１Ｋダイアフラムがその後方位置において損傷
を蒙むるのを避けるために流れ若しくは接続通路の横断
面をできるだけ小さくすることができる。＠２に、接続
通路内における圧力損失をできるだけ小さくすることが
できる。こ、　　　　れはつまり、ピストン室とダイア
フラム作業室とを接続するために多数の、すなわち少な
くとも２つの接続通路を設ける必要があるが、例えば５
つ又は６つの接続通路を設けても有利である。このよう
な構造において、所望の自由掃気作用を得るために、中
位の流れ速度、つまり流れ速度の時間的な中間値が０と
は異なっていて、ひいては純粋な脈動流が形成されない
ということが本発明にとって重要である。これはすなわ
ち、純粋な脈動流においてはそれぞれの接続通路内に存
在するキャビテーションがこれらの接続通路から決して
搬出されないこと□が経験的に証明されているからであ
る。

従ってまた、本発明によって０とは異なって構成された
中位の流れ速度が常にガス抜き室に向けられていること
も特に重要である。

本発明の別の実施態様においては、一般的に、抵抗体と
して作用するピンに代わって変化構成された接続通路内
に弁を設けることも可能である。

本発明の別の実施態様によれば、前記弁は、吸込み行程
時に開放し、送り出し行程時に閉鎖するように前記変化
構成された接続通路内に配置されている。

有利には、別の接続通路は、高い流れ抵抗を有して構成
されている。この場合、本発明の枠内で、高い流れ抵抗
を有する接続通路が細い孔として構成されている。

接続通路の全流れ抵抗が吸込み行程時において送り出し
行程時におけるよりも小さくなるように、接続通路を配
置及び構成すると有利である。これば、例えば−、後に
述べた実施態様において横断面の大きい接続通路が吸込
み行程で開放し、これに対して絞り横断面を有する接続
通路が送り出し行程時に活動することを意味する。

本発明の特に有利な実施態様によれば、高い路が、吸込
み行程時に開放する弁を有する接続通路よりも測地学上
で高い位置に配置されている。何故ならば、この絞り横
断面！有する接続通路では常に、つまシ竺込み行程時に
おいても送り出し行程時においてもキャビテーション搬
送が行なわれ、従ってこの通路は、キャビテーションが
液圧媒体内で揚圧を受けやために常に向かおうとする測
地学上の位置に存在するべきだからである。

実施例 次に図面に示した実施例について本発明の構成を具体的
に説明する。

図面で分るように、図示のダイアフラムには、搬送媒体
を受容する搬送室２をダイアフラム作業室３に対して仕
切るダイアフラム１が設けられている。

ダイアフラム作業室３はポンプケーシング４の端面側に
配置されている。５この端面側自体は、搬送室２を有す
るケーシングカバー５によって閉じられている。しかも
ケーシングカバー５には吸入弁若しくは送り出し弁が配
置されており、これらの弁はそれぞれ通路８若しくは９
を介して搬送室２に接続されているので、ダイアフラ↑
１が振動すると、搬送媒体は、弁６．７に関連して示さ
れた矢印の方向く供給される。

ポンプケーシング４内にはさらにピストン室１０が設け
られており、このピストン室１０内ではダイアフラム１
を振動操作させるために押退はピストン１１が往復運動
可能である。ピストン室１０はほぼ水平に延びる２つの
接続通路１２．１３を介してダイアフラム作業室３に接
続されている。ダイアフラム作業室３と接続通路１２．
１３とピストン室１０とから成る全体は押退はピストン
１１によって負荷され、全体が液圧媒体で満たされた圧
力室を形成している。

上部の接続通路１３内には鉛直方向に延びる孔区分１４
が形成されており、この孔区分１４は下端部でショルダ
１５を有していて、抵抗体として作用するピン１６を往
復運動可能に受容している。このピン１６はその両端部
で、面取りされた縁１７を備えていて、重力の作用下に
のみさらされているので、吸込み行程中、つまり押退は
ピストン１１の第１図で右側への運動中重力の作用下で
右側に延びる孔区分１４のショルダ１５上に載っている
。これによって、押退はピストン１１の吸込み行程中に
上部の接続通路１３内に形成される減少された流過横断
面に基づいて流れ抵抗が者しく高められるので、これに
応じて送り出し行程に比較してわずかな量の液圧媒体が
作業室３から上部の接続通路１３を介してピストン室１
０に達する。従って補償を行なうために、吸込み行程中
に下部の接続通路１２で相応に多量の液圧媒体を作業室
３からピストン室１０へ搬送させる必要がある。このよ
うにすれば、流れ速度が高められ、上部の通路１３内で
中位の流れ速度がダイアフラムｌの方向に向けられてい
る間、下部の通路１２内で中位の流れ速度がピストン室
１０の方向に向けられるように配慮される。

ピン１６（ｄ重力の作用下にのみさらされているので、
このピン１６は、押退はピストン１１がダイアフラム１
に向かって送り出し行程を行なうと、第１図で左側に搬
送された液圧媒体によって鉛直方向に延びる孔区分１４
における下側のショルダ１５から持ち上げられる。つま
り送り出し行程時に通路１３内の流れ抵抗が通路１２内
における流れ抵抗とほぼ同じ位になるまで持ち上げられ
る。

しかしながら、通路１３内における流れ抵抗は吸込み行
程方向で送り出し行程方向におけるよりも著しく大きい
ので、前述のように、中位の流れ速度及びひいては場合
によっては存在するキャビテーションがダイアフラム１
に向かって移動せしめられ、これに対して下部の通路１
２内においては中位の流れ速度が必要な強制補償を行な
う目的でピストン室１０若しくは送り出し行程の方向に
向けられひいてはこの下部の通路１２内に少量存在する
キャビテーションもピストン室１０の方向に搬送される
。これによって全体としてキャビテーションはビルグリ
ムステップ法（ｐｉ　Ｉｇｒ　ｉｍ　５ｔｅｐ　ｒｒｅ
ｔｈｏｄ）　Ｋ基づイテ移動せしめられるので、通路１
２．１３内でキャビテーションが滞留することは避けら
れ、キャビテーションは確実に通路１２．１３から搬出
される。

通路１２．１３から搬出されたキャビテーションをすべ
てダイアスラムポンプから排出させることができるよう
にするために、ダイアスラムポンプは通常形式で排気通
路１８．１９を有している。これらの排気通路１８．１
９はダイアフラム作業室３若しくはピストン室１０の測
地学上の一番高い位置から出発してガス吐出弁２０若し
くは漏らし弁２１を介して自由空間又は適当な容器内に
開口している。

第２図に示した変化実施例は第１図に示した実施例と比
較して次の点で異なっている。すなわち、第１図の実施
例においてピストン室１０と鉛直な孔区分１４との間に
砥びる上側の接続通路１３の水平な区分が、第２図の実
施例においては省かれているので、垂直に延びる孔区分
１４はピストン室１０内に直接開口している。

第３図の変化実施例においては２つの接続通路１２．１
３のうちの一方、つまり上側の通路１３に拡張部１３ａ
が設けら・れており、この拡張部１３ａはピストン室１
０に接続している。これによってピストン１１の送り出
し行程時に通路１３内に２本の矢印で示された大きい流
れが形成され、ピストン１１の吸込み行程中に１本の矢
印で示された小さい流れが形成されるので、所望の排出
効果が得られ、この変化実施例においてもキャビテーシ
ョンはビルグリムステップ法に基づいて排出される。

第４図に示したさらに別の変化実施例においては、測地
学上で低く位置する通路１２に鉛直な通路区分１２′が
設けられており、この通路区分１２′はピストン作業室
１０に直接接続されていて、弁２２を有している。この
弁２２は、第４図で分るように、押退はピストン１１の
吸込み行程時に開放し、送り出し行程時に閉鎖するよう
な形式で配置されている。

さらに、測地学上で高く配置された通路１３は図示の実
施例では、この通路１３が高い流れ抵抗を有するように
構成されている。このために、通路１３は細い孔として
、つまり、その流過横断面が測地学上で低く配置された
通路１２の流過横断面よりも著しく小さくなるように構
成されている。通路１３の端部はピストン室１０に直接
接続しているのではなく、ピストン室１０をガス排出弁
２０に接続する鉛直な孔区分１４を介してこのピストン
室１０に接続されている。

実際の実施例において下側の通路１２がその横断面形状
に基づいて例えば、吸込み行程Ｒ５＝０．１．送り出し
行程でＲＱ＝＝ψで流れる流れ抵抗Ｒを有していれば、
高い流れ抵抗を得るために前記絞シ横断面を備えた上側
の、通路１３は、排出しようとするキャビテーションの
ための搬送作用をできるだけ大きくするために、下側の
通路１２の前記２つの抵抗値の間１、りまシ例えばＲ＝
１である流れ抵抗Ｒを有している。もちろん、上側の通
路１３の相応の横断面寸法によって前記抵抗値Ｒ＝ｌは
直ちに得られる。

第４図で容易に分るように、通路１２．１３の配置及び
形状は、これらの通路１２．１３の全流れ抵抗が吸込み
行程時に小さくなるように選ばれている。それというの
は、吸込み行程時には下側の通路１２に存在する弁２２
が開放し、ひいては通路１２．１３の各横断面によって
形成された、液圧媒体を戻し搬送するための全横断面が
吸込み行程中に提供されるからである。

これＫよってキャビテーションは搬送されて、下側の通
路１２内でも上側の通路１３内でもダイアフラム作業室
３からピストン室１０に向かって移動する。

これに対して通路１．２．１３の全流れ抵抗は押退はピ
ストン１１の送り出し行程時に大きくなる。それという
のは、このような場合は弁２２が閉鎖されているので下
側の通路１２．によって液圧媒体の搬送は行なわれず、
すべての液圧媒体は通路１３を通ってピストン室１０か
らダイアフラム作業室３へ搬送されるから、である。こ
れに対して、送り出し行程時に例えば液圧媒体に形成さ
れたキャビテーション仲ダイアフラム作業寥３に向かっ
て移動する。つｔｂ押退はピストン１１の吸込み行程時
におけるキャビテーションの流れ速度よりも大きい速度
で移動する。

これによって全体でキャビテーションを鉛直な孔区分１
４を介してガス排出弁２０へ搬送する搬送流が得られる
。

図示の実施例におけるそれぞれの特徴は任意に互いに交
換若しくは組み合わせることができる。

効果 以上のように本発明によれば非常にわずかな構造費用で
、存在する接続通路や数とは無関係な、キャビテーショ
ンの循環式轡出装置が得られ、特に小さいダイアフラム
ポンプにおいてキャビテーションの停滞が妨げらむると
同時に、キャビテーションはピストン室又はダイアフラ
ム室から取り除かれる箇所に自動的に送られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例によるダイア７゛ラムポン
プの概略的な鉛直断面図、第２図は第、２実施例による
ダイアフラムポンプの概略的な鉛直断面図・第３図竺第
３実施例のダイアフラムポンプの接続通路部分の概略的
な断面図、第４図は第４実施例にキるダイアフラムポン
プの概略的な鉛直断面図である。 １・・・ダイアフラム、２・・・搬送室、３・・・ダイ
アフラム作業室、４・・・ポンプケーシング、５・・・
ケーシングカバー、６・・・吸入弁、７・・・送り出し
弁、８．９・・・通路、１０・・・ピストン室、１１・
・・押退はピストン、１２・・・接続通路、１２′・・
・通路区分、１３・・・接続通路、１３ａ・・・拡張部
、１４・・・孔区分、１５・・・ショル／、１６・・・
ピン、１７・・・縁、１８．１９・・・排気通路、２０
・・・ガス排出弁、２１・・・漏らし弁、２２・・・弁 図面の浄吉（内容に変更なし） ＦＩＧ、４ ３・・・ダイアフラム作業室 １０・・・ピストン室 １１・・・押退はピストン １２．１３・・・接続通路 手続補上書（方式） ％式％ １、事件の表示　昭和６０年特許願第２８５９１５号２
、発明の名称 循環式排出装置を有するダイアフラムポンプ３、補正を
する者 事件との関係　特許出願人 名　称　　レーヴア・ヘルベルト・オツド・グー・エム
・ベー・ノ・−・ラント・コンノミニー ４、代理人 昭和６１年２月２５日　　（発送日） ６、補正の対象

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、液圧媒体が完全に満たされているダイアフラム作業
   室（３）に対して搬送室（２）を仕切るダイアフラム（
   １）とピストン室（１０）とを有するダイアフラムポン
   プであつて、前記ピストン室（１０）は、少なくとも２
   つの接続通路（１２、１３）を介してダイアフラム作業
   室（３）に接続されていて、該ピストン室（１０）内で
   押退けピストン（１１）がダイアフラム（１）を振動運
   動させるために往復運動可能であつて、前記接続通路（
   １２、１３）がキャビテーションを排出するために、各
   接続通路（１２、１３）内で中位の流れ速度が常に一方
   の行程方向に向けられるように構成されている形式のも
   のにおいて、各接続通路（１２、１３）の平行抵抗によ
   つて形成された、すべての接続通路（１２、１３）の一
   方の流れ方向における全流れ抵抗が他方の流れ方向にお
   ける全流れ抵抗とは異なつていて、ひいてはすべての接
   続通路（１２、１３）において全体的に、液圧媒体に含
   まれたキャビテーションのための搬送流が得られるよう
   に、ダイアフラム作業室（３）をピストン室（１０）に
   接続する接続通路（１２、１３）が配置されかつ構成さ
   れていることを特徴とする、循環式排出装置を有するダ
   イアフラムポンプ。 ２、すべての接続通路（１２、１３）の全流れ抵抗が送
   り出し行程時におけるよりも吸込み行程時に小であるよ
   うに接続通路（１２、１３）が配置され、構成されてい
   る、特許請求の範囲第１項記載のダイアフラムポンプ。 ３、１つの接続通路（１２若しくは１３）だけが、この
   接続通路の一方の流れ方向における流れ抵抗が他方の流
   れ方向における流れ抵抗と異なるように変化構成されて
   いる、特許請求の範囲第１項又は第２項記載のダイアフ
   ラムポンプ。 ４、前記変化構成された接続通路（１３）が、液圧媒体
   の流れに基づいて２つの位置間で可動な抵抗体（１６）
   を有しており、該抵抗体（１６）がその一方の位置で液
   圧媒体の流れ速度に影響を与えないが、他方の位置で流
   れ抵抗を大きくし、これによつて液圧媒体の流れ速度が
   遅くされる、特許請求の範囲第３項記載のダイアフラム
   ポンプ。 ５、前記抵抗体（１６）がピンによつて形成されており
   、該ピンが変化構成された接続通路 （１３）のほぼ垂直に延びる孔区分（１４）内に配置さ
   れている、特許請求の範囲第４項記載のダイアフラムポ
   ンプ。 ６、前記ピンとして構成された抵抗体（１６）がその流
   れ抵抗を大きくさせる位置で重力の作用下で孔区分（１
   ４）のショルダ（１５）上に載つている、特許請求の範
   囲第５項記載のダイアフラムポンプ。 ７、抵抗体（１６）として用いられるピンが少なくとも
   その一端部で、面取りされた縁（１７）を備えている、
   特許請求の範囲第５項又は第６項記載のダイアフラムポ
   ンプ。 ８、変化構成された接続通路（１３）に横断面の拡張部
   （１３ａ）が設けられている、特許請求の範囲第３項記
   載のダイアフラムポンプ。 ９、変化構成された接続通路（１２）に弁（２２）が設
   けられている、特許請求の範囲第１項から第４項までの
   いずれか１項記載のダイアフラムポンプ。 １０、前記弁（２２）が、吸込み行程時に開放し、送り
   出し行程時に閉鎖するように、前記変化構成された接続
   通路（１２）内に配置されている、特許請求の範囲第９
   項記載のダイアフラムポンプ。 １１、別の接続通路（１３）が高い流れ抵抗を有して構
   成されている、特許請求の範囲第９項又は第１０項記載
   のダイアフラムポンプ。 １２、高い流れ抵抗を有する接続通路（１３）が細い孔
   として構成されている、特許請求の範囲第１１項記載の
   ダイアフラムポンプ。 １３、ピストン室（１０）及び／又はダイアフラム作業
   室（３）が別個の排気通路（１８若しくは１９）を有し
   ている、特許請求の範囲第１項から第１２項までのいず
   れか１項記載のダイアフラムポンプ。