JPH0415400B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、液圧媒体が完全に満たされているダ
イアフラム作業室に対して搬送室を仕切るダイア
フラムとピストン室とを有するダイアフラムポン
プであつて、前記ピストン室は、少なくとも２つ
の接続通路を介してダイアフラム作業室に接続さ
れていて、該ピストン室内で押退けピストンがダ
イアフラムを振動運動させるために往復運動可能
であつて、前記接続通路が気泡を排出するため
に、各接続通路内で平均的流れ速度が常に一方の
行程方向に向けられるように構成されている形式
のものに関する。

［従来の技術］ 前記形式の公知のダイアフラムポンプにおいて
は、あらかじめ液圧媒体内に形成されたガスが遊
離して気泡の形状となつて、ダイアフラムポンプ
の申し分のない運転を妨げる不都合な箇所、例え
ばピストン室とダイアフラム作業室との間の接続
通路に集まるのを避けることができない。

前記不都合な箇所からガスを抜くことは、小さ
いダイアフラムポンプにおいて及び従来構造の接
続通路においては非常に困難であつて、所定の条
件下では不可能でさえある。それ故このようなガ
ス抜きは多くの場合、未だ解決されていないか、
又は構造費用を多くかけても不十分にしか解決さ
れていない問題を有している。

所定の大きさを有していて、ピストン室とダイ
アフラム作業室との間の接続通路で所定の高い速
度が形成されるダイアフラムポンプにおいては、
接続通路内に気泡が形成されるのを避けることは
殆どできない。しかも一度気泡が形成されると、
ダイアフラムポンプの大きさに基づいて調量の正
確さに影響を与えることが困難になつてしまう。

このような、液圧媒体内に常に形成される気泡
の影響は、行程容積が小さくひいてはダイアフラ
ムポンプの搬送流が少なければ少ない程、その欠
点は大きくなることが分つている。これは、接続
通路内で形成される流れ速度が遅くなればなる
程、ポンプの行程容積に対する形成された気泡容
積の比がより不都合になるということに基づいて
いる。従つてこれは、気泡を吸込み圧から搬送圧
に圧縮するために押退けピストンの所定の行程部
分が失われることを意味する。しかしながらこの
失われた行程部分は搬送効率をもたらさないの
で、特に小さいダイアフラムポンプ及び特に微量
調量ポンプにおいて不都合である。

このような、搬送効率をもたらさない失われた
若しくは作用しない押退けピストンの行程部分
は、液圧媒体に形成される気泡が常に同じ大きさ
の容積を有していればそれ程不都合ではないが、
気泡は不規則な形状で形成され、再び消失したり
するので全調量流は形成された気泡の数によつて
変化する。これによつて前記不都合な影響は、ダ
イアフラムポンプの調量精度を著しく低下させ
る。ポンプの行程容積が小さくなればなる程、欠
点は大きくなる、それというのはこの場合、気泡
容積に対する行程容積の比は常に不都合になるか
らである。

気泡を排出するために、ダイアフラム作業室を
ピストン室に接続する２つの通路に逆止弁が、つ
まり、２つの逆止弁が逆方向で開放若しくは閉鎖
するように設けられているダイアフラムポンプは
すでに知られている。このような配置形式によれ
ば吸込み弁と送り出し弁とを備えたポンプのよう
に作用する。それというのは、吸込み弁を備えた
一方の通路が常にピストンの吸込み行程時におい
てのみ作用し、これに対して送り出し弁を備えた
他方の通路は常にピストンの送り出し行程時に作
用するからである。これによつて、２つの接続通
路内で液圧媒体の純粋な循環流が得られ、液圧媒
体内に形成された気泡が強制的に排出される。

しかしながらこの公知の装置は、ダイアフラム
作業室とピストン室との間に存在する接続通路全
部に逆止弁が設けられているために不都合である
ことが証明された。これは、当該のダイアフラム
ポンプの費用を高くする、構造的に高価な手段を
必要とするだけではなく、多くの場合実施できな
いものであることが明らかになつた。特に、比較
的多くの接続通路が設けられているか、又はこれ
らの接続通路が非常に小さい横断面を有してい
て、逆止弁の配置がまつたく不可能であるような
場合に、実施できないものである。

［発明の課題］ そこで本発明の課題は、冒頭に述べた形式のダ
イアフラムポンプを、例えば逆止弁の省略に基づ
く非常にわずかな構造費用で製造することができ
しかも存在する接続通路の数とは無関係な循環式
排出装置を設け、特に小さいダイアフラムポンプ
で気泡の停滞が妨げられると同時に気泡がピスト
ン室又はダイアフラム作業室から取り除かれる箇
所に自動的に送られるようにすることである。

［課題を解決するための手段］ 前記課題を解決した本発明によれは、接続通路
の一部の流れ抵抗が、一方の流れ方向と他方の流
れ方向とで異なつていて、ひいてはすべての接続
通路においては全体的に、液圧媒体に含まれた気
泡のための搬送流が得られるように、ダイアフラ
ム作業室をピストン室に接続する接続通路が配置
されかつ構成されている。

［作 用］ 従来のものでは、例えばピストン室とダイアフ
ラム作業室との間に２つの接続通路が設けられて
いて、これら２つの接続通路にはそれぞれ１つの
逆止弁が介在されており、これら２つの逆止弁は
互いに逆向きに、つまり逆方向に開放若しくは閉
鎖するような形式で配置されている。従つて２つ
の方向（吸込み行程若しくは圧縮行程）でそのつ
ど一方の接続通路が閉鎖し、他方の接続通路が開
放するようになつているので、２つの接続通路内
のすべての流れ抵抗は、両方向で少なくともほぼ
同じである。このようにして前述のように純粋な
循環流が得られるようにし、これによつて液圧媒
体内に形成された気泡を強制的に排出するように
なつているが、このような従来の構成では狭い接
続通路内に２つの逆止弁を設けなければならず、
前述のように構成が複雑でコストが高いという欠
点がある。

これに対して本発明の基本的な考え方は、各接
続通路の並列抵抗によつて形成されるすべての接
続通路の共通の全流れ抵抗を一方の流れ方向と他
方の流れ方向とで変える点にある。本発明によれ
ば、一方の流れ方向における全流れ抵抗は他方の
流れ方向における全流れ抵抗とは異なつているの
で（これは非常に重要なことなのであるが）、液
圧媒体の往復揺動的な流れ（Reciprocating
Rolling Process）が得られる。こうして本発明
によれば、すべての接続通路のそれぞれの全流れ
抵抗が吸込み行程において、送り出し行程におけ
るのと異なつていることが保証されているだけ
で、すべての接続通路内に、平均的流れ速度の方
向に抗する方向にも向けられる流れが得られる。
本発明のこの考えは次の式によつて表わされる。

各接続通路ｋ＝１，２，３……ｎの並列抵抗に
よつて形成される、すべての接続通路ｋの共通の
全流れ抵抗Ｒから出発して次の式が得られる。

１／Ｒ＝_k=o 〓^k=1 １／R_k， 吸込み行程時における全流れ抵抗R_Sは、 １／R_S＝_k=o 〓^k=1 １／R_Sk＝１／R_S1＋１／R_S2＋……， 送り出し行程時における全流れ抵抗R_Dは、 １／R_D＝_k=o 〓^k=1 １／R_Dk＝１／R_D1＋１／R_D2＋……， 本発明によれば次の式が有効である。

１／R_S≠１／R_D また本発明の有利な実施態様によれば次の式が
有効である。

１／R_S＜１／R_D 本発明の考え方を実現する際に、本発明のダイ
アフラムポンプにおいて、平均的流れ速度を速度
０とは異なるものにするために、ピストン室とダ
イアフラム作業室との間の接続通路のうちの１つ
だけが変化構成されている。この場合、平均的流
れ速度とは、吸込み行程時の流れ速度と送り出し
行程時の流れ速度の差のことである。換言すれ
ば、接続通路内には、公知のダイアフラムポンプ
においてそうであるように液圧媒体の純粋に中立
的な脈動流が形成されるのではなく、また純粋な
循環流も存在せず、それぞれの通路内に、平均的
流れ速度が一方の方向、つまり吸込み方向又は送
り出し方向に向けられる流れが形成され、気泡は
往復揺動的に排出される。

これは本発明によれば、すべての接続通路では
なく１つの接続通路だけを相応に構成することに
よつて、つまり、一方の流れ方向（吸込み行程又
は送り出し行程）における流れ抵抗が他方の流れ
方向（送り出し行程又は吸行み行程）におけるよ
りも大きく、特に著しく大きくなるように構成す
ることによつて得られる。このような構造に基づ
いて、変えられた流れ抵抗を有する変化構成され
た特別な接続通路はピストンが一方方向で運動す
る際に他方方向で運動する際よりも非常に小さい
流れ速度に調節される。これは他の接続通路にも
相応に作用する。つまり変化構成された接続通路
内に例えば吸込み行程中に著しく減少された流れ
速度が形成されるか又は液圧媒体がほとんど流れ
ず、送り出し行程中に所定の高い流れ速度が形成
され、その他の接続通路内では強制的にまつたく
逆のことが行われる。つまり、補償を行う必要が
あり、押退けピストンが往復運動するために吸込
み行程中並びに送り出し行程中に常に同一量の液
圧媒体が搬送されるからである。

従つて、変化構成された接続通路内で例えば吸
込み行程中に流れ速度が著しく減少されるか又は
ほぼ０になると、その他の接続通路における液圧
媒体の流れ速度は吸込み行程中は相応に高くなけ
ればならず、これに対して前記例では送り出し行
程中に全接続通路内に同一の流れ速度が形成され
る。これによつて次のような技術的効果が得られ
る。つまり、本発明による構造部を有するすべて
の接続通路内では例えば吸込み行程時に高められ
た流れ抵抗が形成されるので、送り出し行程方
向、つまりダイアフラムへ向かつて全体的に平均
的流れ速度が得られ、これに対してその他の接続
通路内では吸込み行程方向、つまり押退けピスト
ンに向かつて平均的流れ速度が得られる。これに
よつて所望の方向、つまりピストン及び／又はダ
イアフラムへ向かつて効果的な排出作用が得られ
る。

本発明によるダイアフラムポンプは次の点です
ぐれている。つまり１つの接続通路だけが、送り
出し行程時及び吸込み行程時に押退けピストンに
よつて動かされる液圧媒体のための、前記１つの
接続通路内に形成される流れ抵抗がその他の接続
通路内の流れ抵抗とは異なるように変化構成され
ているので、これによつて全接続通路内に全体的
に、液圧媒体内に含有された気泡のための往復揺
動的な搬送流が形成される。

本発明の特別な構造によれば、変化構成された
接続通路が、液圧媒体の流れに基づいて２つの位
置間で可動な抵抗体を有しており、該抵抗体がそ
の一方の位置で液圧媒体の流れ速度に影響を与え
ないが、他方の位置で増大された流れ抵抗を形成
し、これによつて液圧媒体の流れ速度が遅くされ
る。

特に有利には、前記抵抗体がピンによつて形成
されており、該ピンが変化構造された接続通路の
ほぼ垂直に延びる孔区分内に配置されていて、流
れ抵抗を増大させる位置で重力の作用下で孔区分
のシヨルダに載つている。これはつまり、抵抗体
として用いられるピンが本発明によつて、このピ
ンを有する接続通路の流れ抵抗が吸込み行程で非
常に大きくなるように構成されることを意味す
る。このような形式のピンは必ずしも孔区分のシ
ヨルダに密接して載せる必要はないが、吸込み行
程時においてのみ当該接続通路内で、送り出し行
程時における流れ抵抗と比べて著しく大きい流れ
抵抗を生ぜしめるようにしなければならない。

構造費用を高める唯一の点は、付加的なピンを
設けなければならないということだけである。こ
の付加的なピンは、抵抗体として用いられ、当該
接続通路の簡単に製造可能な別個の孔区分内で一
方では送り出し行程時に流動する液圧媒体の作用
下で持ち上げられ、他方では吸込み行程時に重力
の作用下で下降せしめられる。つまり前記孔区分
のシヨルダに載せられる。

抵抗体として用いられるピンは有利には、少な
くともその一端部で、面取りされた縁を備えてい
るので、ピンを相応に構成することによつて吸込
み行程時の流れ抵抗を高める程度に影響を与える
ことができる。

本発明の枠内で、ピストン室及び／又は作業室
に、通常の排気弁又は漏らし弁に開口し本発明に
よつて接続通路から除かれた気泡を搬送する別個
の排気通路を設けることができる。

本発明はすべての大きさのポンプにおいて適用
することができる。それというのは、本発明によ
つて設けられた掃気装置若しくは循環掃気装置を
得るためには、わずかな構造面の手間及び費用を
必要とするだけだからである。また、掃気装置の
特別な形式は、液圧媒体の常に一部だけが抵抗体
を流過するという理由からもすべての大きさのポ
ンプにおいて可能である。一般に、本発明は設け
られている接続通路の数とは無関係に適用され
る。これはさらに別の大きな利点をもたらす。

従つて本発明によれば、従来技術のものとは異
なり、２つの基本的な要求が満たされている。つ
まり第１にダイアフラムがその後方位置において
損傷を蒙むるのを避けるために流れ若しくは接続
通路の横断面をできるだけ小さくすることができ
る。第２に、接続通路内における圧力損失をでき
るだけ小さくすることができる。これはつまり、
ピストン室とダイアフラム作業室とを接続するた
めに多数の、すなわち少なくとも２つの接続通路
を設ける必要があるが、例えば５つの又は６つの
接続通路を設けても有利である。このような構造
において、所望の自由掃気作用を得るために、平
均的流れ速度、つまり流れ速度の時間的な平均値
が０とは異なつていて、ひいては純粋な脈動流が
形成されないということが本発明にとつて重要で
ある。これはすなわち、純粋な脈動流においては
それぞれの接続通路内に存在する気泡がこれらの
接続通路から決して搬出されないことが経験的に
証明されているからである。

従つてまた、本発明によつて０とは異なつて形
成された平均的流れ速度が常にガス抜き室に向け
られていることも特に重要である。

本発明の別の実施態様においては、一般的に、
抵抗体として作用するピンに代わつて変化構成さ
れた接続通路内に弁を設けることも可能である。

本発明の別の実施態様によれば、前記弁は、吸
込み行程時に開放し、送り出し行程時に閉鎖する
ように前記変化構成された接続通路内に配置され
ている。

有利には、別の接続通路は、高い流れ抵抗を有
して構成されている。この場合、本発明の枠内
で、高い流れ抵抗を有する接続通路が細い孔とし
て構成されている。

接続通路の全流れ抵抗が吸込み行程時において
送り出し行程時におけるよりも小さくなるよう
に、接続通路を配置及び構成すると有利である。
これは、例えば最後に述べた実施態様において横
断面の大きい接続通路が吸込み行程で開放し、こ
れに対して絞り横断面を有する接続通路が送り出
し行程時に活動することを意味する。

本発明の特に有利な実施態様によれば、高い流
れ抵抗、つまり例えば絞り横断面を有する接続通
路が吸込み行程時に開放する弁を有する接続通路
よりも測地学上で高い位置に配置されている。何
故ならば、この絞り横断面を有する接続通路では
常に、つまり吸込み行程時においても送り出し行
程時においても気泡搬送が行われ、従つてこの通
路は、気泡が液圧媒体内で揚圧を受けるために常
に向かおうとする測地学上の位置に存在するべき
だからである。

実施例 次に図面に示した実施例について本発明の構成
を具体的に説明する。

図面で分かるように図示のダイアフラムには、
搬送媒体を受容する搬送室２をダイアフラム作業
室３に対して仕切るダイアフラム１が設けられて
いる。

ダイアフラム作業室３はポンプケーシング４の
端面側に配置されている。この端面側自体は、搬
送室２を有するケーシンカバー５によつて閉じら
れている。しかもケーシングカバー５には吸入弁
若しくは送り出し弁が配置されおり、これらの弁
はそれぞれ通路８若しくは９を介して搬送室２に
接続されているので、ダイアフラム１が振動する
と、搬送媒体は、弁６，７に関連して示された矢
印の方向に供給される。

ポンプケーシング４内にはさらにピストン室１
０が設けられており、このピストン室１０内では
ダイアフラム１を振動操作させるために押退けピ
ストン１１が往復運動可能である。ピストン室１
０はほぼ水平に延びる２つの接続通路１２，１３
を介してダイアフラム作業室３に接続されてい
る。ダイアフラム作業室３と接続通路１２，１３
とピストン室１０とから成る全体は押退けピスト
ン１１によつて負荷され、全体が液圧媒体で満た
された圧力室を形成している。上部の接続通路１
３内には鉛直方向に延びる孔区分１４が形成され
ており、この孔区分１４は下端部でシヨルダ１５
を有していて、抵抗体として作用するピン１６を
往復動可能に受容している、このピン１６はその
両端部で、面取りされた縁１７を備えていて、重
力の作用下にのみさらされているので、吸込み行
程中、つまり押退けピストン１１の第１図で右側
への運動中重力の作用下で右側に延びる孔区分１
４のシヨルダ１５上に載つている。これによつ
て、押退けピストン１１の吸込み行程中に上部の
接続通路１３内に形成される減少された流過横断
面に基づいて流れ抵抗が著しく高められるので、
これに応じて送り出し行程に比較してわずかな量
の液体媒体が作業室３から上部の接続通路１３を
介してピストン室１０に達する。従つてこれを補
償するために、吸込み行程中に下部の接続通路１
２で相応に多量の液圧媒体を作業室３からピスト
ン室１０へ搬送させる必要がある。このようにす
れば流れ速度が高められ、下部の通路１２内では
平均的流れ速度がピストン室の方向に向けられ、
これに対して上部の通路１３内では、平均的流れ
速度がダイアフラム１の方向に向けて形成され
る。

ピン１６は重力の作用下にのみさらされている
ので、このピン１６は、押退けピストン１１がダ
イアフラム１に向かつて送り出し行程を行うと、
第１図で左側に搬送された液圧媒体によつて鉛直
方向に延びる孔区分１４における下側のシヨルダ
１５から持ち上げられる。つまり送り出し行程時
に通路１３内の流れ抵抗が通路１２内における流
れ抵抗とほぼ同じ位になるまで持ち上げられる。

しかしながら通路１３内における流れ抵抗は吸
込み行程方向で送り出し行程方向におけるよりも
著しく大きいので、前述のように、平均的流れ速
度及びひいては場合によつては存在する気泡の移
動がダイアフラム１に向かう方向で生ぜしめら
れ、これに対して下部の通路１２内においては平
均的流れ速度は、ピストン室１０に向かう方向で
生ぜしめられる。したがつてこの下部の通路１２
内に少量存在する気泡もピストン室１０の方向に
搬送される。これによつて全体として気泡は往復
揺動的に移動せしめられるので、通路１２，１３
内で気泡が滞留することは避けられ、気泡は確実
に通路１２，１３から搬出される。

通路１２，１３から搬出された気泡をすべてダ
イアフラムポンプから排出させることができるよ
うにするために、ダイアフラムポンプは通常形式
で排気通路１８，１９を有している。これらの排
気通路１８，１９はダイアフラム作業室３若しく
はピストン室１０の測地学上の一番高い位置から
出発してガス吐出弁２０若しくは漏らし弁２１を
介して自由空間又は適当な容器内に開口してい
る。

第２図に示した変化実施例は第１図に示した実
施例と比較して次の点で異なつている。すなわ
ち、第１図の実施例においてピストン室１０と鉛
直な孔区分１４との間に延びる上側の接続通路１
３の水平な区分が、第２図の実施例においては省
かれているので、垂直に延びる孔区分１４はピス
トン室１０内に直接開口している。第３図の変化
実施例においては２つの接続通路１２，１３のう
ちの一方、つまり上側の通路１３に拡張部１３ａ
が設けられており、この拡張部１３ａはピストン
室１０に接続している。

この拡張部１３ａはノズルを構成している。つ
まり、この接続通路１３は、ピストン作業室１０
に向かう方向では拡張していて、ダイアフラム作
業室３に向かう方向では狭くなつている。従つて
流れ抵抗は２つの流れ方向でそれぞれ異なつてい
る。これによつてピストン１１の送り出し行程時
に通路１３内に２本の矢印で示された大きい流れ
が形成され、ピストン１１の吸込み行程中に１本
の矢印で示された小さい流れが形成されるので、
所望の排出効果が得られ、この変化実施例におい
ても気泡は往復揺動的に排出される。

第４図に示したさらに別の変化実施例において
は、測地学上で低く位置する通路１２に鉛直な通
路区分１２′が設けられており、この通路区分１
２′はピストン作業室１０に直接接続されていて、
弁２２を有している。この弁２２は、第４図で分
かるように、押退けピストン１１の吸込み行程時
に開放し、送り出し行程時に閉鎖するような形式
で配置されている。

さらに、測地学上高く配置された通路１３は図
示の実施例では、この通路１３が高い流れ抵抗を
有するように構成されている。このために、通路
１３は細い孔として、つまり、その流過横断面が
測地学上で低く配置された通路１２の流過横断面
よりも著しく小さくなるように構成されている。
通路１３の端部はピストン室１０に直接接続して
いるのではなく、ピストン室１０をガス排出弁２
０に接続する鉛直な孔区分１４を介してこのピス
トン室１０に接続されている。

第４図に示した本願発明のものは、２つの逆止
弁を必要とする前記従来技術のものとは異なり、
１つの逆止弁しか必要とせず、しかも、ピストン
圧縮行程時、つまり液圧媒体がピストン作業室１
０からダイアフラム作業室３に送られる時には上
側の接続通路１３だけが開放し、これに対してそ
れとは逆方向で液圧媒体が移動する時には付加的
に逆止弁２２が開放するので、この場合は２つの
接続通路１２，１３が作用するようになつてい
る。従つて、前記従来のものと較べて簡単な構造
で、下側の接続通路１２内ではダイアフラム作業
室３からピストン作業室１０への流れが得られ、
上側の接続通路１３内ではダイアフラム作業室３
からピストン室１０への流れが得られるので、２
つの接続通路１２，１３内に気泡が留まることは
ない。

実際の実施例において下側の通路１２がその横
断面形状に基づいて例えば吸込み行程R_S＝0.1、
送り出し行程でR_D＝∞で流れる流れ抵抗Ｒを有
していれば、高い流れ抵抗を得るために前記絞り
横断面を備えた上側の通路１３は、排出しようと
する気泡のための搬送作用をできるだけ大きくす
るために、下側の通路１２の前記２つの抵抗値の
間、つまり例えばＲ＝１である流れ抵抗Ｒを有し
ている。もちろん上側通路１３の相応の横断面寸
法によつて前記抵抗値Ｒ＝１は直ちに得られる。

第４図で容易に分かるように、通路１２，１３
の配置及び形状は、これらの通路１２，１３の全
流れ抵抗が吸込み行程時に小さくなるように選ば
れている。それというのは、吸込み行程時には、
下側の通路１２に存在する弁２２が開放し、ひい
ては通路１２，１３の各横断面によつて形成され
た、液圧媒体を戻し搬送するための全横断面が吸
込み行程中に提供されるからである。これによつ
て気泡は搬送されて、下側の通路１２内でも上側
の通路１３内でもダイアフラム作業室３からピス
トン室１０に向かつて移動する。

これに対して通路１２，１３の全流れ抵抗は押
退けピストン１１の送り出し行程時に大きくな
る。それというのは、このような場合は弁２２が
閉鎖されているので下側の通路１２によつて液圧
媒体の搬送は行われず、すべての液圧媒体は通路
１３を通つてピストン室１０からダイアフラム作
業室３へ搬送されるからである。これに対して、
送り出し行程時に例えば液圧媒体に形成された気
泡はダイアフラム作業室３に向かつて移動する。
つまり押退けピストン１１の吸込み行程時におけ
る気泡の流れ速度よりも大きい速度で移動する。
これよつて全体で気泡を鉛直な孔区分１４を介し
てガス排出弁２０へ搬送する搬送流が得られる。

図示の実施例におけるそれぞれの特徴は任意に
互いに交換若しくは組み合わせることができる。

［効 果］ 以上のように本発明によれば例えば逆止弁の省
略に基づく非常にわずかな構造費用で、存在する
接続通路の数とは無関係な気泡の循環式排出装置
が得られ、特に小さいダイアフラムポンプにおい
て気泡の停滞が妨げられると同時に、気泡はピス
トン室又はダイアフラム室から取り除かれる箇所
に自動的に送られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例によるダイアフラ
ムポンプの概略的な鉛直断面図、第２図は第２実
施例によるダイアフラムポンプの概略的な鉛直断
面図、第３図は第３実施例のダイアフラムポンプ
の接続通路部分の概略的な断面図、第４図は第４
実施例によるダイアフラムポンプの概略的な鉛直
断面図である。 １……ダイアフラム、２……搬送室、３……ダ
イアフラム作業室、４……ポンプケーシング、５
……ケーシングカバー、６……吸入弁、７……送
り出し弁、８，９……通路、１０……ピストン
室、１１……押退けピストン、１２……接続通
路、１２′……通路区分、１３……接続通路、１
３ａ……拡張部、１４……孔区分、１５……シヨ
ルダ、１６……ピン、１７……縁、１８，１９…
…排気通路、２０……ガス排出弁、２１……漏ら
し弁、２２……弁。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 液圧媒体が完全に満たされているダイアフラ
   ム作業室３に対して搬送室２を仕切るダイアフラ
   ム１とピストン室１０とを有するダイアフラムポ
   ンプであつて、前記ピストン室１０は、少なくと
   も２つの接続通路１２，１３を介してダイアフラ
   ム作業室３に接続されていて、該ピストン室１０
   内で押退けピストン１１がダイアフラム１を振動
   運動させるために往復運動可能であつて、前記接
   続通路１２，１３が気泡を排出するために、各接
   続通路１２，１３内で平均的流れ速度が常に一方
   の行程方向に向けられるように構成されている形
   式のものにおいて、前記接続通路１２，１３の一
   部の流れ抵抗が、一方の流れ方向と他方の流れ方
   向とで異なつていて、ひいてはすべての接続通路
   １２，１３において全体的に、液圧媒体に含まれ
   た気泡のための搬送流が得られるように、ダイア
   フラム作業室３をピストン室１０に接続する接続
   通路１２，１３が配置されかつ構成されているこ
   とを特徴とする、循環式排出装置を有するダイア
   フラムポンプ。 ２ すべての接続通路１２，１３の全流れ抵抗が
   送り出し行程時におけるよりも吸込み行程時に小
   であるように接続通路１２，１３が配置され、構
   成されている、特許請求の範囲第１項記載のダイ
   アフラムポンプ。 ３ １つの接続通路１２若しくは１３だけが、こ
   の接続通路の一方の流れ方向における流れ抵抗が
   他方の流れ方向における流れ抵抗と異なるように
   変化構成されている、特許請求の範囲第１項又は
   第２項記載のダイアフラムポンプ。 ４ 前記接続通路１３が、液圧媒体の流れに基づ
   いて２つの位置間で可動な抵抗体１６を有してお
   り、該抵抗体１６がその一方の位置で液圧媒体の
   流れ速度に影響を与えないが、他方の位置で流れ
   抵抗を大きくし、これによつて液圧媒体の流れ速
   度が遅くされる、特許請求の範囲第３項記載のダ
   イアフラムポンプ。 ５ 前記抵抗体１６がピンによつて形成されてお
   り、該ピンが前記接続通路１３のほぼ垂直に延び
   る孔区分１４内に配置されている、特許請求の範
   囲第４項記載のダイアフラムポンプ。 ６ 前記ピンとして構成された抵抗体１６がその
   流れ抵抗を大きくさせる位置で重力の作用下で孔
   区分１４のシヨルダ１５上に載つている、特許請
   求の範囲第５項記載のダイアフラムポンプ。 ７ 抵抗体１６として用いられるピンが少なくと
   もその一端部で、面取りされた縁１７を備えてい
   る、特許請求の範囲第５項又は第６項記載のダイ
   アフラムポンプ。 ８ 前記接続通路１３に横断面の拡張部１３ａが
   設けられている、特許請求の範囲第３項記載のダ
   イアフラムポンプ。 ９ 前記接続通路１２に弁２２が設けられてい
   る、特許請求の範囲第１項から第４項までのいず
   れか１項記載のダイアフラムポンプ。 １０ 前記弁２２が、吸込み行程時に開放し、送
   り出し行程時に閉鎖するように、前記接続通路１
   ２内に配置されている、特許請求の範囲第９項記
   載のダイアフラムポンプ。 １１ 別の接続通路１３が高い流れ抵抗を有して
   構成されている、特許請求の範囲第９項又は第１
   ０項記載のダイアフラムポンプ。 １２ 高い流れ抵抗を有する接続通路１３が細い
   孔として構成されている、特許請求の範囲第１１
   項記載のダイアフラムポンプ。 １３ ピストン室１０及び／又はダイアフラム作
   業室３が別個の排気通路（１８若しくは１９）を
   有している、特許請求の範囲第１項から第１２項
   までのいずれか１項記載のダイアフラムポンプ。