JPS61190601A - 調節装置 - Google Patents

調節装置

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JPS61190601A
JPS61190601A JP60029441A JP2944185A JPS61190601A JP S61190601 A JPS61190601 A JP S61190601A JP 60029441 A JP60029441 A JP 60029441A JP 2944185 A JP2944185 A JP 2944185A JP S61190601 A JPS61190601 A JP S61190601A
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JP
Japan
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proportional
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JP60029441A
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Kazuo Hiroi
広井 和男
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Original Assignee
Toshiba Corp
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    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B13/00Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B11/00Automatic controllers
    • G05B11/01Automatic controllers electric
    • G05B11/36Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential
    • G05B11/42Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential for obtaining a characteristic which is both proportional and time-dependent, e.g. P. I., P. I. D.

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  • Medical Informatics (AREA)
  • Software Systems (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 この発明はプロセス制御に用いられ目標値変化と外乱と
の双方への同時の最適化を図った調節装置に関する。
[技術的背景とその問題点] 近年、プロセス制御においでは、省資源・省エネルギー
化、省力化・省人化、均質化・高品質化、安全化、フレ
キシブル化等の要請の高度化に伴ない、増々高い制御性
を有する調節装置が求められて来ている。このため、特
に連続プロセスなどでは、個々の制御系が生産量の変化
、各種外乱、目標変更などの変動要因に乱れを生ぜずに
最適応答するよう調節装置の制御性を極限まで向上させ
ることが基本となる。
従来、このような制御性の向上はP(比例)、+(積分
)、D(微分)の各制御要素の構造、組合せを変えるこ
とにより行なわれて来た。このような調節装置として従
来知られている代表例には、いわゆる標準型PID調節
装置、目標値フィルタ付P■D調節装置、I −PD調
調装装置どがあり、そのブ「コック図を第13〜15図
に示す。
第13図に示す標準型P■D調節装置101は、目標値
S■と測定値PVとの偏差をPID%算部103に入力
して「比例+積分十微分」演算し、その出力を操作信号
MVとして制御対象105に印加して、測定値Pvが目
標値Svに等しくなるよう調節するものである。
第14図に示す目標値フィルタ付PID調面装2771
は、標準型PID調節装置において目標値SVを一時遅
れフィルタ113を介して入力するようにしたものであ
る。
第15図に示すI−PDD節装置121は、目標値Sv
と測定値PVとの偏差を積分演算部123に入力して積
分演算し、その出力と測定値PVを比例・微分演算部1
25に入力して「比例+微分」演算した出力との差を求
め、この差に比例部127により比例ゲインKpを乗じ
た出力を操作信号MVとして制御対象105に印加して
、測定値PVが目標値Svに等しくなるよう調節するも
のである。
しかしながら、このような従来の装置はいずれもそれな
りの制御性の改善があるものの、大きな欠陥も併有して
いる。
即ち、標準型PID調節装置101では、目標値追従に
最適なPIDパラメータ(以下、対目標値最適パラメー
タという)と外乱抑制に最適なP10パラメータ(以下
、対外乱最適パラメータという)とが別値で存在するた
めに、追従制御の場合、対目標値と対外乱の両最適パラ
メータの中間的値にPIDパラメータを設定して妥協し
ているのが実情である。
このことを、対外乱最適パラメータと対目標値最適パラ
メータの特色が顕著に表われるレベル制御などの無定位
プロセスについて説明する。
ここで、無定位プロセスのモデルGp  (S)として
、 Gp  (S) =e−’/ (S −(1+S) )
 ・(+)をとりあげる。
第3図はこのモデルにおIJる、PTDパラメータ、つ
まり比例ゲインKO1積分時間Ti1微分時間Tdにつ
いての対外乱最適パラメータKpd、Tid、Trld
及び第目標値最適パラメータKps、Ti51Trls
の値を示したものである。また、これら各最適パラメー
タを使用した時の、ステップ外乱に対する応答を第4図
に、目標値Svの単位ステップ変化に対す応答を第5図
に示す。
第4図に示すように、外乱に対しては、対外乱最適パラ
メータKl)d、 Tid、 Tddを設定した場合に
はグラフ(A)に示すごとく良好な応答が得られるが、
対目標値最適パラメータKps、 Tis、 Tdsを
設定した場合にはグラフ(C)に示すごとく定常偏差が
生じてしまう。
その逆に、第5図に示すように、目標値SVのステップ
変化に対しては、対目標値最適パラメータKl)S、 
Tis、 Tdsを設定した場合にはグラフ(C)に示
すごとく良好な応答であるが、対外乱最適パラメータK
pd、 TidlTddを設定した場合にはグラフ(A
)に示すごとくオーバーダンピングを生じ振動的となる
そこで、この点を解決すべく考えられたのが第14図に
示した目標値フィルタ付PID;J節装首111で、こ
れは前記標準型PMDW4節装置に対して対外乱最適パ
ラメータKl)d、 Tid、 Tddを設定しておき
、上述したような目標値Svの変化に対するオーバーダ
ンピングを防止するため、目標値SVに一時遅れフィル
タ113を介して変化を遅らせてその影響をゆるやかに
しようとするものである。しかし、これとても全体の応
答を遅らせたのみで目標値追従に最適化させたわけでは
ない。
また、第15図に示したI−PD調節装@121は、前
記の対外乱最適パラメータK +”% T td1Td
(lを設定してお(づば、外乱に対しては第4図のグラ
フ(B)で示すように良好な応答となるが、目標値追従
については、目標値Svの変化に対し積分演算部123
のみで修正を行なっているので第5図のグラフ(B)で
示すごとく応答が非常に遅いという致命的な欠陥がある
このように1.従来のvA「装置はいずれも「目標値追
従」と「外乱抑制」との双方に対し同時に最適化させる
ことができないため、プラントの個々の制御系の制御性
を極限まで向上させることができず、また、制御系ごと
にそのプロセス特性に応じた制御特性を有する調節装置
を適用しなければならないので多種多用の槙造の調節装
置を用意しなければならないという問題があった。
[発明の目的コ この発明は、上記問題を除去し、「目標値追従」と「外
乱抑制Jの両目的に対して同時に最適化することができ
る調節装置を提供する゛ことを目的とする。
[1明の概要1 上記目的を達成するため、第1の発明は、比例演算を行
なう比例部n手段と、積分演算を行なう積分演算手段と
を有する調節装置において、比例演算手段の測定値入力
経路に測定値の大きさを調節する調節手段を設けて目標
値と調節手段を介した測定値との比較結果を比例演算手
段に入力するとともに、積分演算手段の測定値入力経路
に進み要素を設けて目標値と進み要素を介した測定値と
の比較結果を積分演算手段に入力するようにしたことを
要旨とする。
また、第2の発明は、比例演算を行なう比例演算手段と
、微分演算を行なう微分演算手段と、積分演算を行なう
積分演算手段とを有する調節装置において、比例演算手
段の測定値入力経路に測定値の大きさを調節する第1の
調節手段を設けて目標値と第1の調節手段を介した測定
値との比較結果を比例演算手段に入力し、微分演算手段
の測定値入力経路に測定値の大きさを調節する第2の調
節手段を設けて目標値と第2の調節手段を介した測定値
との比較結果を微分演算手段に入力するとともに、積分
演算手段の測定値入力経路に進み要素を設けて目標値と
進み要素を介した測定値との比較結果を積分演算手段に
入力するようにしたことを要旨とする。
[発明の実施例] 以下、図面に従い実施例を説明する。
第1図は、この発明の第一実施例に係る調節装置のブロ
ック図を示す。
図示のように、当該調節装置1は、制御対象3から検出
された測定値Pvの比例、積分、微分の各制御要素への
入力経路に夫々第1係数部5、第2係数部7及び進み要
素9(伝jヱ関数GL (S)=(1+2XT+ xs
)、/(1+T+ X5))を設けたところが前述の標
準型PID調節装置と異なる特徴である。
つまり、まず、測定値PVは並列的に第1係数部5、@
2係数部7、進み要素9に入力される。
第1係数部3では測定値PVに係数αが乗じられ、その
出力αSVは第1減算部13に入力されて目標値S■と
の19i差D1が演算される。第2係数部5では測定値
PVに係数βが乗じられ、その出力βSvは第2減算部
13に入力されて目標値S■との偏差D2が演算され、
偏差D2は微分演算部15により微分時間Tdで微分演
算が施される。
また、測定値PVの進み要素9を介した出力LSVは第
3減算部17に入力されて目標値Svとの偏差D3が演
算され、偏差D3は積分演算部19により積分時間Ti
で積分演算が施される。
そして、偏差D+ 、微分演算部15による偏差D2の
微分値DD2及び積分演算部1つによる偏差D3の積分
値■D3は加算部21に入力されて加算合成された侵、
比例部23に入力されて比例ゲインKpを乗じられ、操
作信号MVとして制御対象3に印加される。これにより
、測定値Pvが目標値SVに等しくなるように制御され
る。
このような構成において、PIDパラメータKp 、T
i 、Td及び係数α、β並びに進み要素9の時定数T
+を次のように設定することにより、「目標値追従」と
「外乱抑制」の双方に同時に最適化させることができる
ようになっている。
(丁)まず、PIDパラメータKp 、 Ti 、 T
dの夫々につき標準PIDv4節装置の対目標値最適パ
ラメータKps、 Tis、 Tdsを設定する。
即ち、 Kp=Kl)S Ti =Ti s Td =Td s と設定する。
この調節装置1はその構成から判るように目標値Svに
対しては標準型PAD調節装置と同一の作用を為すので
、上記のような設定により目標値SVに対しては対目標
laF&適パラメータKps、Tis、 Tdsに従う
動作が得られ目標値変化に対する応答は良好なものとな
る。
(ff)次に、係数α、βにつき、標準PID調節装置
の対外乱、対目標値最適パラメータのうちの対外乱最適
比例ゲインKl)d、対外乱最適微分時間7dd、対目
標値最適比例ゲインKps、対目標値最適微分時間T 
dslc基づき、 α= K pd/ K ps・・・・・・(2)β=α
×丁dd/ Tds・・・・・・(3)と設定する。
この調節装置1では係数α、βの作用により測定値PV
に対する実質比例ゲインはαXKI) 、実質微分時間
はβx)(pxTdである。従って、上記のような係数
α、βの設定をすれば、Kp、丁dはすでに1(ps、
1(dsに設定されているので、測定値P■に対する実
質比例ゲインはK11d、実質微分時間K pdx T
 ddとなる。即ち、測定値Pvに対しては標準型PI
D調節装置に対外乱最適パラメータ)(pdlTid、
 Tddを設定したのと同様の比例、微分動作が得られ
る。
(1)次に、時定数T1を調整して、測定値Pvに対す
る実質積分時間が、標準型PID調節装置に対外乱最適
パラメータKps、 Tis、 Tdsを設定したとき
の実質積分時間TiS/Kl)dに等しくなるようにす
る。
この時定数T1の調整は例えば次のようにして行なう。
即ち、測定1iiPVが外乱等により△PVだけ変化し
て“Pv−ΔPV″になったときの積分出力rD1は次
式で表わされる。
Ti −8T1  1+TI −8 この式に基づいた積分出力ID3の特性を第2図に示す
同図において、グラフ(A>は時定数T1=0、つまり
進み要素9が無い場合、即らID:+=ΔPV/ (T
i  ・S)の場合を示す。そして、時定数T1を大き
くして行けば、グラフ(B)→(C)→(D)→(E)
に示ずように応答が早くなっていく。
ここで、一般に入力変化に対しては時間の小さい領域、
例えば図示した時刻t1以下の領域で使用するので、時
定数T1を大きくすることは立ち上がりの傾斜を大きく
することになり、測定値PVに対し積分時間7iを小さ
くすることと略等価であることになる。従って、時定数
T+ を゛O″から次第に大きくして行き、測定[PV
に対する実質積分時間が、比例ゲインKl)に対外乱・
最適比例ゲインKpdを、積分時間TIに対外乱最適積
分時間7idを設定した場合と略等価になるように時定
数T1を定めればよい。
上記ステップ(ff)、(I[I)における係数α、β
及び時定数T1の設定により、測定値Pvに対しては対
外乱最適パラメータKpd、 Tid、 Tddに従っ
た制御動作が得られるので良好な外乱抑制特性が得られ
ることになる。
以下、上記ステップ(I)、(II)、(f[I)につ
き、前述した(1)式の無定位プロセスのモデルを取り
上げオペレータの操作手順及びパラメータの設定方法を
具体的に説明する。
(I)まず、PIDパラメータKp、Ti、Tdの対目
標fliR適パラメータを設定するために、対外乱最適
化の係数α、βを変化させる以前の状態で、目標値を所
定量だけステップ状に変化させる。
するとこの変化はプロセスにおいて測定IPVに変動が
生じ、この変動を最適化するように対目標値最適パラメ
ータを調整する。その例としては第3図に示す如く、K
ps=0.126、T is=■(分) 、 TdS=
2.04 (分)となる。
ここで、積分時間Tiについては■′°に設定すると、
外乱変化「、!Iにオフセットが出るので、実質的に“
′■パとみなせる時間を設定する。例えば、Ti =2
9.2 f分)と設定する。この値に設定すると、後述
するように時定数T1も同じ値に設定できるので都合が
良い。
(lI[)次に、(I)により対目標値パラメータが設
定されると、次にオペレークは対外乱変化を最適化すべ
く係数α、βを設定する。
即ち、第3図により対外乱最適比例ゲインKpd、対目
標値最適比例ゲインKps、対外乱最適微分時間Tdd
及び対目標値最適微分時間Tdsは、Kr+d=0.1
88、Kps=0.126Tdd=1.98(分) 、
Tds=2.04 (分)である。
これを前記(5)、(6)式に代入して、α= K p
d/ K ps =0.18810.126 =1.49 β=αxTdd/Tds =1、49X1. 98/2.04 =1. 45 と設定される。
(III)次に、時定数T1を設定する。
ステップ(I)により、積分演算部19の積分時間T1
は29.2(分)に設定されている。そこで、時定数T
1を11011から次第に大きくして行き、測定値PV
に対してはあたかも積分時間Tiに対外乱最適積分時間
Tid=14.6(分)が設定されているかのごとく作
用するように調整する。
この場合、時定数T1は積分時間T1と同じ29゜2(
分)に設定すればよいことがわかっている。
以上の各ステップ(I)、<IF>、(I[I)の設 
  定により、この調節装置1の応答は、ステップ外乱
に対しては第4図のグラフ(A)で示すような標準型P
rD調節装置に対外乱最適パラメータKpd、 Tid
、 Tddを設定したと同様の応答が、また目標値Sv
の単位ステップ変化に対しては第5図のグラフ(C)で
示すような標準型PID調節装置ニ対目11X値ral
aハラメータKps1Tis、 Tdsヲ設定したのと
同様の応答が得られ、「外、乱抑制」と「目標値追従」
との双方に最適化されたことになる。
この結果、制御しようとするプロセス3が例えば「−次
遅れ+ムダ時間」の要素で構成されている場合の単位ス
テップ応答としては、第6図の(a>、(b)に示すよ
うになる。すなわち、外乱変化に対する制御性としては
時定数T+ が大きくなってもオフセットを生じること
なく良好である(第6図(a))一方、目標値変化に対
する制御性についても第6図(11)に示す如くオーバ
シュートが小さく高い追従性を得ることができる。
また、この調節装置にあっては、対外乱および対目標の
応答を最適化するため、制御装置全体に渡って対外乱お
よび対目標の応答性を同時に考慮しつつ各制御パラメー
タを決定するという複雑な処理を行なう必要がなく、そ
れぞれの制御ループについて別個独立に前述したステッ
プ(I)〜(I[[)に示した如き簡単な設定処理を行
なうだけでよいので調整が極めて容易になり結局オペレ
ータのコンソール上での調整のみで足りる。
尚、今まで説明した無定位プロセスでの最適化が最も難
しく、「−次遅れ+むだ時間」プロセス(e−’F/ 
((1+T+  ・S))や「二次遅れ+(l タ時間
」プロセス(e−”/ (1+T+  ・S) / (
1+T2 ・S))などであれば、対目標値最適積分時
間Tisが無限大になることがないので最適化が一層容
易となる。
第7図は、この発明の第2実施例に係る調節装置ブロッ
ク図を示す。
同図に示すように、本実施例に係る調節装置31は、第
1減算部11及び第2減算部13の各目標t*SV入力
経路にも夫々第3係数部33及び第4係数部35を設け
て、目標値Svに第3係数部33の係数γを乗じた信号
γSVを比例演算に、目標値SVに第4係数部35の係
数δを乗じた信号δSVを微分演算に供するようにして
いる点が第1実施例と異なる特徴である。
この第3及び第4係数部33.35を付加したことによ
り、一層最適調整が容易になっている。
更に、係数α、β、γ、δを“1″又は゛0パにするこ
とにより、従来の各種の制御方式を選択することもでき
る。例えば、時定数T+ =Oとすれば以下のようにな
る。
(I)α=β=γ=δ=1のとき 第1〜第4係数部を無くしたことになり、標準型P I
 Di[装置と等価になる。
(U)α=β=γ=1、δ=Oのとき 微分動作を測定値PVのみに作用させたことになり、い
わゆるPV微分先行型PTD調節装置と等価になる。
(I[l)α=β=1、γ=δ−〇のとき比例、微分動
作を測定値PVのみに作用させたことになり、I−PD
WA節装置と等価になる。
このように、本実施例に係る調節装置1は従来技術の欠
陥を解消するとともに、各種の従来の制御方式も自由に
選択でき、高い制御性と広い沼川性とを有するものであ
る。
従って、この調節装置31をプラント内にちりばめて適
用することにより、プラントの各制御が外乱と目標変更
の双方に対して最適化され、前述したような近年の厳し
い要請にこれまでよりもより一層応えることができ、産
業界への貢献は極めて大きいと言える。
また、第8図は第3実施例のブ[1ツク図を示したもの
で、本実施例に係る調節装置41は、上記第2実施例に
おいて第3、第4係数部33.35を夫々第1、第2ス
イツチ45.43に置き換えたものである。これは、第
2実施例の係数γ、δを“OIT又は“1″に切換えら
れるようにしたもので、第1実施例と同様にして外乱と
目標値変化の双方に対して最適調整ができるとともに、
第2実施例と同様にして従来の制御方法の選択も可能で
ある。
尚、以上の第1〜第3実施例において、微分動作につい
ては完全微分(Td−3)で説明したが、実際の場合は
不完全微分(Td/(1+η・Td・S)、η=O12
〜0.3)を用いる。
第9図は、この発明の第4実施例に係る調節装置のブロ
ック図を示す。
図示するように、この調節装置51は、第1実施例から
微分動作に係わる第2係数部7、第2減算部13及び微
分演鐸部15を削除したものである。
また、第10.11図は、この発明の第5.6実施例に
係る調面装@61.71のブロック図を夫々示したもの
で、このWflil装置61.71は第2.3実施例か
ら微分動作に係る要素を削除したものである。
これら第4〜6実施例は、プロセスによってPIilI
IIllIで十分な場合に適用されるもので、PI副制
御範囲内で、夫々第1〜3実施例が有していた特性を有
する。
尚、以上の第1〜6実施例の変形例として次のようなも
のが考えられる。
(1)進み要素9の伝達関数GL  (S)は次のよう
に変形できる。
従って、第12図に示すように、目標値SVと測定値P
Vとの偏差D4を求め、この偏差D4と測定値PVに上
式の第2項の伝達関数を有するフィルタ81を介した信
号との偏差D3を求め、この偏差D3を積分演算部19
に加えるようにしても等価である。
(II)実質比例ゲインの調整を微分、積分動作から独
立して行なえるようにするために、第1減算部つと加算
部21との間の位置に、新たに係数部を付加したり、或
いはこの位置に比例部23を移してもよい。
(III)今まで説明した位置形演算方式だけではなく
、DDCで多用される速度形演算方式においても本発明
は適用可能である。
[発明の効果] 以上説明したように、第1の発明は比例及び積分演算手
段を有する調節装置において、比例演算手段の測定値入
力経路に測定値の大きさを調節する調節手段を設けると
ともに、積分演算手段の測定値入力経路に進み要素を設
け、また、第2の発明は比例、積分及び微分演算手段を
有する調節装置において、比例及び微分演算手段の各測
定値入力経路に測定値の大きさを夫々調節する第1及び
第2の調節手段を各々設けるとともに、積分演算手段の
目標値入力経路に進み要素を設【プることにより、目標
値と測定値の夫々に作用する実質比例ゲイン、実質積分
時間、及び第2の発明にあっては更に実質微分時間を夫
々独立に調整することがひきるようにしているので、「
目標値追従」と「外乱抑制Jの双方について同時に最適
化を図ることができる調節装置を提供することができる
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1実施例に係る調節装置のブロッ
ク図、第2図は積分動作の応答特性を示す図、第3図は
対外乱及び対目標値最適パラメータの値を示す図、第4
図は外乱に対する応答特性を示す図、第5図は目標値変
更に対する応答特性を示す図、第6図は第1図の調節装
置における単位ステップ応答を示す図、第7図は第2実
施例のブロック図、第8図は第3実施例のブロック図、
第9図は第4実施例のブロック図、第10図は第5実施
例のブロック図、第11図は第6実施例のブロック図、
第12図は第1〜6実施例の変形例の要部のブロック図
、第13図は標!1’−P I D調節装置のブロック
図、第14図は目標値フィルタ(=JPID調節装置の
ブロック図、第15図はI−PD調調装装置ブロック図
である。 1.31,41.51,61.71・・・調節装置5・
・・第1係数部 7・・・第2係数部 9・・・進み要素 11・・・第1減算部 13・・・対2減算部 15・・・微分演算部 17・・・第3減算部 19・・・積分演算部 23・・・比例部 S■・・・目標値 PV・・・測定部 *1区 r   −−−−−−−−−−)− 冥2図 頁3区 °  7d図 第5図 TIME 第9図 L  ++   +−一−−一−−−−−−−+   
jア1エズ 何1と丁 q 第 13  rA r−−’−−−−−−2゜ 第A4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)比例演算を行なう比例演算手段と、積分演算を行
    なう積分手段とを有する調節装置において、比例演算手
    段の測定値入力経路に測定値の大きさを調節する調節手
    段を設けて目標値と調節手段を介した測定値との比較結
    果を比例演算手段に入力するとともに、積分演算手段の
    測定値入力経路に進み要素を設けて目標値と進み要素を
    介した測定値との比較結果を積分演算手段に入力するよ
    うにしたことを特徴とする調節装置。
  2. (2)比例演算を行なう比例演算手段と、微分演算を行
    なう微分演算手段と、積分演算を行なう積分演算手段と
    を有する調節装置において、比例演算手段の測定値入力
    経路に測定値の大きさを調節する第1の調節手段を設け
    て目標値と第1の調節手段を介した測定値との比較結果
    を比例演算手段に入力し、微分演算手段の測定値入力経
    路に測定値の大きさを調節する第2の調節手段を設けて
    目標値と第2の調節手段を介した測定値との比較結果を
    微分演算手段に入力するとともに、積分演算手段の測定
    値入力経路に進み要素を設けて目標値と進み要素を介し
    た測定値との比較結果を積分演算手段に入力するように
    したことを特徴とする調節装置。
JP60029441A 1985-02-19 1985-02-19 調節装置 Pending JPS61190601A (ja)

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US06/829,606 US4755924A (en) 1985-02-19 1986-02-14 Process controller having an adjustment system with two degrees of freedom
KR1019860001163A KR910000610B1 (ko) 1985-02-19 1986-02-19 조절방식을 갖는 프로세스 제어장치
EP86102109A EP0192245B1 (en) 1985-02-19 1986-02-19 Process controller having an adjustment system with two degrees of freedom
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DE3650164T DE3650164T2 (de) 1985-02-19 1986-02-19 Prozessregler mit einem System zur Einstellung mit zwei Freiheitsgraden.
IN148/MAS/86A IN169101B (ja) 1985-02-19 1986-03-04
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63219842A (ja) * 1987-03-06 1988-09-13 Hitachi Ltd 空燃比制御方法
JP2017003353A (ja) * 2015-06-08 2017-01-05 日本特殊陶業株式会社 センサ制御装置及びガス検知システム

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