JPS6397347A - 連鋳機における鋳型内湯面レベル制御方法 - Google Patents
連鋳機における鋳型内湯面レベル制御方法Info
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- JPS6397347A JPS6397347A JP24082886A JP24082886A JPS6397347A JP S6397347 A JPS6397347 A JP S6397347A JP 24082886 A JP24082886 A JP 24082886A JP 24082886 A JP24082886 A JP 24082886A JP S6397347 A JPS6397347 A JP S6397347A
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Landscapes
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、連鋳機における鋳型内湯面レベル制御方法の
改良に関するものである。
改良に関するものである。
（従来技術とその問題点）
鋳型内湯面レベルの制御方法としては、第１１図に示す
ように、鋳型内の湯面レベルを渦流式、ガンマ線式、電
極式等のレベル計を用いて検出し、設定器によって予め
設定した設定値ＳＶと上記実測値ＰＶとの偏差ｅを解消
するように、調節器からの制御信号をサーボアンプに入
力し、油圧ユニットを介してスライドノズルまたはスト
ッパーノズルを開度検出器により開度を検出しつつ制御
してタンディツシュから鋳型内への溶湯性大量を調整す
る方法、サーボモータを駆動して鋳片引き汝き速度を制
御する方法、両者を組み合わＵ・ろＩ（／Ｉ調制御方法
なとが採用されているが、制御信号がレベル５１からの
実測値と設定値との偏差ｅに基づくものでｉつるため、
複電な制御システムの内部で相互干渉や外乱が加わって
いる七、制御系が不安定となり、湯面レベルが変動する
ことになる。特に、鋳型の断面積が小さく、引き抜き速
度が早い装置では僅かな外乱か加わっただけで、レベル
変動が生じ、鋳片の表面品質に悪影響を与えることにな
る。したがって、急激なレベル変動は避けなければなら
ない。しかしながら、外乱に対して安定にすると、追随
性が悪くなるため、両者を満足するように制御するには
、現状では、第１２図に示すように、レベル計等の検出
器からの実測値ＰＶと設定ｆ）ｌ’ｉ Ｓ ｖとの偏差
ｅに堰づき、調整器から制御出力を出力するにあたり、
実プロセスとプロセスモデルとを比較し、修正ロジック
にて実プロセスと一致するように制御するいわゆるモデ
ル規範型制御方法や、ＰＩＤ制御系の前段に目標値フィ
ルタを挿入することにより２種のＰｒＤ要素を場合によ
り使い分ける２自由度ＰＩＤ制御方法を使用せざるを得
ない。ところが、萌者は大容量のコンピュータと複雑な
プログラムが必・要であるにもかかわらず、応答性がさ
ほど向上しないという問題点がある。他力、後者は安定
性と追随性の両方を満足ずろが、実際上連続鋳造におけ
るレベル制御について全ての外乱に対する最適パラメー
タ（α、β、γ）を選定することは不可能であると言う
難点がある。
ように、鋳型内の湯面レベルを渦流式、ガンマ線式、電
極式等のレベル計を用いて検出し、設定器によって予め
設定した設定値ＳＶと上記実測値ＰＶとの偏差ｅを解消
するように、調節器からの制御信号をサーボアンプに入
力し、油圧ユニットを介してスライドノズルまたはスト
ッパーノズルを開度検出器により開度を検出しつつ制御
してタンディツシュから鋳型内への溶湯性大量を調整す
る方法、サーボモータを駆動して鋳片引き汝き速度を制
御する方法、両者を組み合わＵ・ろＩ（／Ｉ調制御方法
なとが採用されているが、制御信号がレベル５１からの
実測値と設定値との偏差ｅに基づくものでｉつるため、
複電な制御システムの内部で相互干渉や外乱が加わって
いる七、制御系が不安定となり、湯面レベルが変動する
ことになる。特に、鋳型の断面積が小さく、引き抜き速
度が早い装置では僅かな外乱か加わっただけで、レベル
変動が生じ、鋳片の表面品質に悪影響を与えることにな
る。したがって、急激なレベル変動は避けなければなら
ない。しかしながら、外乱に対して安定にすると、追随
性が悪くなるため、両者を満足するように制御するには
、現状では、第１２図に示すように、レベル計等の検出
器からの実測値ＰＶと設定ｆ）ｌ’ｉ Ｓ ｖとの偏差
ｅに堰づき、調整器から制御出力を出力するにあたり、
実プロセスとプロセスモデルとを比較し、修正ロジック
にて実プロセスと一致するように制御するいわゆるモデ
ル規範型制御方法や、ＰＩＤ制御系の前段に目標値フィ
ルタを挿入することにより２種のＰｒＤ要素を場合によ
り使い分ける２自由度ＰＩＤ制御方法を使用せざるを得
ない。ところが、萌者は大容量のコンピュータと複雑な
プログラムが必・要であるにもかかわらず、応答性がさ
ほど向上しないという問題点がある。他力、後者は安定
性と追随性の両方を満足ずろが、実際上連続鋳造におけ
るレベル制御について全ての外乱に対する最適パラメー
タ（α、β、γ）を選定することは不可能であると言う
難点がある。
（発明の課題）
本発明は、従来のモデル規範型制御方法や２自由度ＰＩ
Ｄ制御方法に代わる安定性と追随性の両方を満足する浸
れた制御方法を提供することを課題とする。
Ｄ制御方法に代わる安定性と追随性の両方を満足する浸
れた制御方法を提供することを課題とする。
（課題解決のための手段）
本発明は、鋳型内の湯面レベルをレベル計で検出して実
測湯面レベルＰＶと目標湯面レベルＳｖとの偏差ｅを算
出し、該偏差に基づいて演算される制御出力信号ＭＶに
よりノズルの開度および／または鋳片引き抜き速度を調
節し、鋳型内湯面レベルを制御するにあたり、 設定値またはプロセス値が突如変化すると、偏差ｅは第
７図に示す変化となるため、もし制御装置の追随性が悪
いと、第８図（ａ）のように一定区間の積分値は大きく
なり、他方、安定性が悪いと、第８図（ｂ）のように一
定区間の積分値は小さく、振動的になるが、第９図（ａ
）に示すように、偏差ｅが急変した場合は、偏差が急変
した初期によりおおきな修正制御を行い、偏差ｅが小さ
くなり始めた時に修正動作に制動をかける一方、第９図
（ｂ）に示すように、偏差ｅが小さい時はある程度大き
くなるまで修正制御をかけないようにすれば、第１０図
に示すような理想的な応答が実現できることに着目して
なされたもので、その要旨とするところは、 必ろ単位時間毎に測定される実測湯面レベルの変化計を
検出して積分し、その積分値を非線形ヒステリシス特性
回路に入力し、上記実測湯面レベルの変化−！ｎが所定
以上の場合に補正出力ｙを出力し、２該ｈｌｉ正出力Ｙ
により上記制御出力ＭＶを修正して上記第８図に示す理
想的な応答に基づき、鋳型内湯面レベルを制御し、湯面
レベルの急変をなくして鋳片の表面品質を改善する方法
にある。
測湯面レベルＰＶと目標湯面レベルＳｖとの偏差ｅを算
出し、該偏差に基づいて演算される制御出力信号ＭＶに
よりノズルの開度および／または鋳片引き抜き速度を調
節し、鋳型内湯面レベルを制御するにあたり、 設定値またはプロセス値が突如変化すると、偏差ｅは第
７図に示す変化となるため、もし制御装置の追随性が悪
いと、第８図（ａ）のように一定区間の積分値は大きく
なり、他方、安定性が悪いと、第８図（ｂ）のように一
定区間の積分値は小さく、振動的になるが、第９図（ａ
）に示すように、偏差ｅが急変した場合は、偏差が急変
した初期によりおおきな修正制御を行い、偏差ｅが小さ
くなり始めた時に修正動作に制動をかける一方、第９図
（ｂ）に示すように、偏差ｅが小さい時はある程度大き
くなるまで修正制御をかけないようにすれば、第１０図
に示すような理想的な応答が実現できることに着目して
なされたもので、その要旨とするところは、 必ろ単位時間毎に測定される実測湯面レベルの変化計を
検出して積分し、その積分値を非線形ヒステリシス特性
回路に入力し、上記実測湯面レベルの変化−！ｎが所定
以上の場合に補正出力ｙを出力し、２該ｈｌｉ正出力Ｙ
により上記制御出力ＭＶを修正して上記第８図に示す理
想的な応答に基づき、鋳型内湯面レベルを制御し、湯面
レベルの急変をなくして鋳片の表面品質を改善する方法
にある。
なお、上記制御方法は、通常、ある単位時間毎に測定さ
れる実測湯面レベルの変化量として、今回と前回の実測
ｌ湯面レベルの差ＰＶｎ−ＰＶｎ−。
れる実測湯面レベルの変化量として、今回と前回の実測
ｌ湯面レベルの差ＰＶｎ−ＰＶｎ−。
を用いる。この変化量は、実測湯面レベルＰＶと目標湯
面レベルＳＶとの偏差ｅが急変する場合に特に有効であ
るが、目標湯面レベルがあまり変化しない定値制御にお
いては、上記ＰＶｎ自体の変化、即ちＰＶｎ−９Ｖを定
期的にサンプリングして積分し、その積分値を非線形ヒ
ステリシス特性回路に入力し、上記変化量が所定以上の
場合に補正出力ｙを出力し、該補正出力ｙにより上記制
御出力ＭＶを修正するようにして制御付加回路構成を簡
略化してもよい。
面レベルＳＶとの偏差ｅが急変する場合に特に有効であ
るが、目標湯面レベルがあまり変化しない定値制御にお
いては、上記ＰＶｎ自体の変化、即ちＰＶｎ−９Ｖを定
期的にサンプリングして積分し、その積分値を非線形ヒ
ステリシス特性回路に入力し、上記変化量が所定以上の
場合に補正出力ｙを出力し、該補正出力ｙにより上記制
御出力ＭＶを修正するようにして制御付加回路構成を簡
略化してもよい。
本発明の制御方法は通常のＰＩＤ制御方法における制御
出力ＭＶに対する補助的な出力Ｙとして利用するのが望
ましく、どのような補正出力Ｙを演算出力すべきかは、
制御出力ＭＶに対する外乱影響を考慮して決定すべきで
ある。通常外乱としては、 （１）油圧サーボ弁の不感帯や追随誤差（２）油圧シリ
ンダの漏れによる誤動作（３）油圧配管への空気の混入
による不感帯や誤動作 （４）開度検出機構の機械的ガタ （５）電気的ノイズ （６）スライドバルブ部の溶損やアルミ等の介在物付着
によるバルブ部の径の変化等を挙げることができる。し
たがって、かかる外乱影響を考慮して非線形ヒステリシ
ス回路特性を決定し、理想的応答が得られるように補正
出力を演算することになる。
出力ＭＶに対する補助的な出力Ｙとして利用するのが望
ましく、どのような補正出力Ｙを演算出力すべきかは、
制御出力ＭＶに対する外乱影響を考慮して決定すべきで
ある。通常外乱としては、 （１）油圧サーボ弁の不感帯や追随誤差（２）油圧シリ
ンダの漏れによる誤動作（３）油圧配管への空気の混入
による不感帯や誤動作 （４）開度検出機構の機械的ガタ （５）電気的ノイズ （６）スライドバルブ部の溶損やアルミ等の介在物付着
によるバルブ部の径の変化等を挙げることができる。し
たがって、かかる外乱影響を考慮して非線形ヒステリシ
ス回路特性を決定し、理想的応答が得られるように補正
出力を演算することになる。
以下、具体例に基づき、本発明の制御方法を詳しく説明
することとする。
することとする。
（実施例）
第１図は本発明方法を実施する制御ブロック図で、第２
図はその付加回路構成の詳細を示すブロック図、第３図
は第２図のスイッチ機構の動作説明図、第４図（ａ）〜
（ｄ）は第２図の付加回路によって補正出力を出力する
に至るグラフである。
図はその付加回路構成の詳細を示すブロック図、第３図
は第２図のスイッチ機構の動作説明図、第４図（ａ）〜
（ｄ）は第２図の付加回路によって補正出力を出力する
に至るグラフである。
図面において、かかる制御回路は通常のＰＩＤ制御を行
うように構成されており、鋳型内のｌ門前レベルをレベ
ル計等の検出器（１）で検出して実測湯面レベルＰＶと
目標湯面レベルＳＶとの偏差ｅを算出し、該偏差に基づ
いて調整計（２）でｎｉｉ算される制御出力信号〜１■
によりプロセス制御装置（３）を介してノズルの開度お
よび／または鋳片引き抜き速度を調節するにあたり、 上記検出器（１）からの実測湯面レベル信号ＰＶを付加
回路（４）にも入力して、上記制御出力ＭＶを付加回路
（４）から出力される補正出力ｙにより必要に応じて補
正し、理想的応答出力により鋳型内湯面レベルを制御す
るようになっている。
うように構成されており、鋳型内のｌ門前レベルをレベ
ル計等の検出器（１）で検出して実測湯面レベルＰＶと
目標湯面レベルＳＶとの偏差ｅを算出し、該偏差に基づ
いて調整計（２）でｎｉｉ算される制御出力信号〜１■
によりプロセス制御装置（３）を介してノズルの開度お
よび／または鋳片引き抜き速度を調節するにあたり、 上記検出器（１）からの実測湯面レベル信号ＰＶを付加
回路（４）にも入力して、上記制御出力ＭＶを付加回路
（４）から出力される補正出力ｙにより必要に応じて補
正し、理想的応答出力により鋳型内湯面レベルを制御す
るようになっている。
詳しくは、上記付加回路（４）は第３図（ａ）に示す動
作を行うスイッチ機構４１を介して実測湯面レベル信号
ＰＶを記憶保持する保持回路４２．４３を並列接続し、
いずれか一方の保持回路・１２．４３に上記実測湯面レ
ベル信号Ｐ■が入力され（図示の状態では、保り回路４
２に入力されている。）、ある単位時間毎の最終値を保
持するようになっている。したがって、スイッチが入っ
ていない方の保持回路４３は前回の最終値ＰＶｎ−，を
保持している。他方、上記実測湯面レベル信号ＰＶは第
４図（ａ）に示すように、刻々変化しつつ差検出回路４
４に入力されているので、該差検出回路４４からは、前
回の最終値ＰＶｎ ｌと刻々変化する上記実測湯面レ
ベル信号ＰＶｎとのある単位時間毎に測定される実測湯
面レベルの変化量ＰＶｎ−ＰＶｎ−１が出力され（第４
図（ｂ）参照）、積分器４５にて積分され、該積分値（
第４図（Ｃ）参照）を第３図（ｂ）に示す動作を行うス
イッチ機構４６を介して非線形ヒステリシス特性回路４
７に入力し、上記実測湯面レベルの変化量が所定以上の
場合に補正出力ｙ（第４図（ｄ）参照）を出力し、該補
正出力ｙにより上記制御出力ＭＶを修正するようになっ
ている。
作を行うスイッチ機構４１を介して実測湯面レベル信号
ＰＶを記憶保持する保持回路４２．４３を並列接続し、
いずれか一方の保持回路・１２．４３に上記実測湯面レ
ベル信号Ｐ■が入力され（図示の状態では、保り回路４
２に入力されている。）、ある単位時間毎の最終値を保
持するようになっている。したがって、スイッチが入っ
ていない方の保持回路４３は前回の最終値ＰＶｎ−，を
保持している。他方、上記実測湯面レベル信号ＰＶは第
４図（ａ）に示すように、刻々変化しつつ差検出回路４
４に入力されているので、該差検出回路４４からは、前
回の最終値ＰＶｎ ｌと刻々変化する上記実測湯面レ
ベル信号ＰＶｎとのある単位時間毎に測定される実測湯
面レベルの変化量ＰＶｎ−ＰＶｎ−１が出力され（第４
図（ｂ）参照）、積分器４５にて積分され、該積分値（
第４図（Ｃ）参照）を第３図（ｂ）に示す動作を行うス
イッチ機構４６を介して非線形ヒステリシス特性回路４
７に入力し、上記実測湯面レベルの変化量が所定以上の
場合に補正出力ｙ（第４図（ｄ）参照）を出力し、該補
正出力ｙにより上記制御出力ＭＶを修正するようになっ
ている。
」二記付加回路（４）は目標湯面レベルＳＶがあまり変
化しない定値制御では、第５図に示すように、変形され
る。すなわち、鋳型内の湯面レベルをレベル計等の検出
器（＋）で検出して実測湯面レベルＰＶと目標湯面レベ
ルＳ■との偏差ｅを算出し、該偏差に基づいて調整計（
２）で演算される制御出力信号ＭＶによりプロセス制御
装置（３）を介してノズルの開度および／または鋳片引
き抜き速度を調節するにあたり、上記制御出力信号ＭＶ
を修正する付加回路（５）は、偏差信号ｅを第６図（ａ
）に示す動作を行うスイッチ機構５１を介して積分器５
２に入力し、該積分値を非線形ヒステリシス特性回路５
３に入力し、上記第６図（ａ）に示す動作を行うスイッ
チ機構５１と同様の動作を行うスイッチ機構５４を介し
て補正出力ｙ′を出力するようにする一方、第６図（ｂ
）に示す動作を行うスイッチ機構５５を積分器５２と並
列接続して一定時間毎にサンプリングされる上記偏差ｅ
の変化量が所定以上の場合に該補正出力ｙ′により上記
制御出力ＭＶを修正するようにしてもよい。
化しない定値制御では、第５図に示すように、変形され
る。すなわち、鋳型内の湯面レベルをレベル計等の検出
器（＋）で検出して実測湯面レベルＰＶと目標湯面レベ
ルＳ■との偏差ｅを算出し、該偏差に基づいて調整計（
２）で演算される制御出力信号ＭＶによりプロセス制御
装置（３）を介してノズルの開度および／または鋳片引
き抜き速度を調節するにあたり、上記制御出力信号ＭＶ
を修正する付加回路（５）は、偏差信号ｅを第６図（ａ
）に示す動作を行うスイッチ機構５１を介して積分器５
２に入力し、該積分値を非線形ヒステリシス特性回路５
３に入力し、上記第６図（ａ）に示す動作を行うスイッ
チ機構５１と同様の動作を行うスイッチ機構５４を介し
て補正出力ｙ′を出力するようにする一方、第６図（ｂ
）に示す動作を行うスイッチ機構５５を積分器５２と並
列接続して一定時間毎にサンプリングされる上記偏差ｅ
の変化量が所定以上の場合に該補正出力ｙ′により上記
制御出力ＭＶを修正するようにしてもよい。
（発明の作用効果）
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、鋳型内
の湯面レベルをレベル計で検出して実測湯面レベルＰＶ
と［］標渇湯面しルＳ■との偏差ｅを算出し、該偏差に
基づいて演算される制御出力信号Ｘ１ｖによりノズルの
開度および／または鋳片引き抜き速度を凋節し、鋳型内
湯面レベルを制御するにあたり、 ある単位時間毎に測定されろ実測湯面レベルの変化量を
検出してその積分値を非線形ヒステリンス特性回路に入
力し、上記実測湯面レベルの変化ｈ１が所定以上の場合
に補正出力ｙを出力し、該補正出力ｙにより上記制御出
力ＭＶを修正するので、偏差ｅの急変に対しては速やか
にかつ非振動的に応答する一方、偏差ｅのゆるやかな変
化に対してはゆっくりとした制御を行うことができ、外
乱に対する安定性と追随性を両立させることができ、湯
面レベルの安定した制御、即ちハンチングの少ない制御
が可能となる結果、鋳片品質を向上させることができる
。
の湯面レベルをレベル計で検出して実測湯面レベルＰＶ
と［］標渇湯面しルＳ■との偏差ｅを算出し、該偏差に
基づいて演算される制御出力信号Ｘ１ｖによりノズルの
開度および／または鋳片引き抜き速度を凋節し、鋳型内
湯面レベルを制御するにあたり、 ある単位時間毎に測定されろ実測湯面レベルの変化量を
検出してその積分値を非線形ヒステリンス特性回路に入
力し、上記実測湯面レベルの変化ｈ１が所定以上の場合
に補正出力ｙを出力し、該補正出力ｙにより上記制御出
力ＭＶを修正するので、偏差ｅの急変に対しては速やか
にかつ非振動的に応答する一方、偏差ｅのゆるやかな変
化に対してはゆっくりとした制御を行うことができ、外
乱に対する安定性と追随性を両立させることができ、湯
面レベルの安定した制御、即ちハンチングの少ない制御
が可能となる結果、鋳片品質を向上させることができる
。
第１図は本発明方法を実施する制御ブロック図で、第２
図はその付加回路構成の詳細を示すブロック図、第３図
は第２図のスイッチ機構の動作説明図、第４図（ａ）〜
（ｄ）は第２図の付加回路によって補正出力を出力する
に至るグラフである。第５図は本発明方法を実施する第
２実施例の制御ブロック図、第６図（ａ）〜（ｄ）は第
５図の制御装置の作動状態説明グラフ、第７図は実測湯
面レベルと設定湯面レベルとの偏差の変化を示すグラフ
、第８図（ａ） 、 （ｂ）は追随性が悪い場合（ａ）
および安定性が悪い場合（ｂ）の応答の変化を夫々示す
グラフ、第９図（ａ） 、 （ｂ）は本発明による偏差
の変化に対する応答状態を夫々示すグラフで、（ａ）は
大きな修正制御動作をかけろ場合で、（ｂ）は偏差があ
る程度大きくなるまで修正制御動作をかけない場合を示
す。第１Ｏ図は偏差に対する理想的応答を示すグラフ、
第１１図は従来の湯面レベル制御方法を示すブロック図
、第１２図はモデル規範型制御方法を示すブロック図で
ある。 （１）・・・レベル検出器、（２）・・・調整器、（３
）・・・プロセス制御装置、（４）、（５）・・・付加
回路。 特許出願人 株式会社神戸製鋼所 代 理 人 弁理士 前出 葆ほか２名集４図 儒Ｓ面
図はその付加回路構成の詳細を示すブロック図、第３図
は第２図のスイッチ機構の動作説明図、第４図（ａ）〜
（ｄ）は第２図の付加回路によって補正出力を出力する
に至るグラフである。第５図は本発明方法を実施する第
２実施例の制御ブロック図、第６図（ａ）〜（ｄ）は第
５図の制御装置の作動状態説明グラフ、第７図は実測湯
面レベルと設定湯面レベルとの偏差の変化を示すグラフ
、第８図（ａ） 、 （ｂ）は追随性が悪い場合（ａ）
および安定性が悪い場合（ｂ）の応答の変化を夫々示す
グラフ、第９図（ａ） 、 （ｂ）は本発明による偏差
の変化に対する応答状態を夫々示すグラフで、（ａ）は
大きな修正制御動作をかけろ場合で、（ｂ）は偏差があ
る程度大きくなるまで修正制御動作をかけない場合を示
す。第１Ｏ図は偏差に対する理想的応答を示すグラフ、
第１１図は従来の湯面レベル制御方法を示すブロック図
、第１２図はモデル規範型制御方法を示すブロック図で
ある。 （１）・・・レベル検出器、（２）・・・調整器、（３
）・・・プロセス制御装置、（４）、（５）・・・付加
回路。 特許出願人 株式会社神戸製鋼所 代 理 人 弁理士 前出 葆ほか２名集４図 儒Ｓ面
Claims (3)
- （１）鋳型内の湯面レベルをレベル計で検出して実測湯
面レベルＰＶと目標湯面レベルＳＶとの偏差ｅを算出し
、該偏差に基づいて演算される制御出力信号ＭＶにより
ノズルの開度および／または鋳片引き抜き速度を調節し
、鋳型内湯面レベルを制御する方法において、 ある単位時間毎に測定される実測湯面レベルの変化量を
検出してその積分値を非線形ヒステリシス特性回路に入
力し、上記実測湯面レベルの変化量が所定以上の場合に
補正力ｙを出力し、該補正力ｙにより上記制御出力ＭＶ
を修正することを特徴とする鋳型内湯面レベル制御方法
。 - （２）鋳型内の湯面レベル変化量として、今回と前回の
実測湯面レベルの差（ＰＶｎ−ＰＶｎ−＿１）を用いる
前記第１項記載の鋳型内湯面レベル制御方法。 - （３）鋳型内の湯面レベル変化量として、実測湯面レベ
ルの目標湯面レベルとの差（ＰＶｎ−ＳＶ）を用いる前
記第１項記載の鋳型内湯面レベル制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24082886A JPH0229420B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | Renchukiniokeruigatanaiyumenreberuseigyohoho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24082886A JPH0229420B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | Renchukiniokeruigatanaiyumenreberuseigyohoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6397347A true JPS6397347A (ja) | 1988-04-28 |
| JPH0229420B2 JPH0229420B2 (ja) | 1990-06-29 |
Family
ID=17065298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24082886A Expired - Lifetime JPH0229420B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | Renchukiniokeruigatanaiyumenreberuseigyohoho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0229420B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02142658A (ja) * | 1988-11-22 | 1990-05-31 | Nippon Steel Corp | 連続鋳造プロセス制御装置 |
| JPH02207957A (ja) * | 1989-02-07 | 1990-08-17 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 鋳型内溶鋼レベル制御装置 |
| JP2015062917A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 新日鐵住金株式会社 | 連続鋳造機の湯面レベル制御装置、連続鋳造機の湯面レベル制御方法およびコンピュータプログラム |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP24082886A patent/JPH0229420B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02142658A (ja) * | 1988-11-22 | 1990-05-31 | Nippon Steel Corp | 連続鋳造プロセス制御装置 |
| JPH02207957A (ja) * | 1989-02-07 | 1990-08-17 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 鋳型内溶鋼レベル制御装置 |
| JP2015062917A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 新日鐵住金株式会社 | 連続鋳造機の湯面レベル制御装置、連続鋳造機の湯面レベル制御方法およびコンピュータプログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0229420B2 (ja) | 1990-06-29 |
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