JPS61190080A - 金属基材の遠赤外線放射体とその製造方法 - Google Patents
金属基材の遠赤外線放射体とその製造方法Info
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- JPS61190080A JPS61190080A JP3080285A JP3080285A JPS61190080A JP S61190080 A JPS61190080 A JP S61190080A JP 3080285 A JP3080285 A JP 3080285A JP 3080285 A JP3080285 A JP 3080285A JP S61190080 A JPS61190080 A JP S61190080A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/006—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of microcrystallites, e.g. of optically or electrically active material
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は各種の金属を基材とし、その基材表面に遠赤外
線放射体と低融点高膨脹ガラスとを主成分とする塗料組
成物の被膜が形成されている遠赤外線放射体とその製造
方法に関し、特に本発明は金属基材と表面被膜である遠
赤外線放射体の被膜との密着性が優れ、基材の耐熱衝撃
性や機械的強度などが優れた金属基材の遠赤外線放射体
とその製造方法に関する。
線放射体と低融点高膨脹ガラスとを主成分とする塗料組
成物の被膜が形成されている遠赤外線放射体とその製造
方法に関し、特に本発明は金属基材と表面被膜である遠
赤外線放射体の被膜との密着性が優れ、基材の耐熱衝撃
性や機械的強度などが優れた金属基材の遠赤外線放射体
とその製造方法に関する。
一般に遠赤外線放射体は表面温度がきわめて低く、反面
放射面積が広くて被照射体の遠赤外線吸収率が良好であ
るため加熱炉壁、サウナの加熱板、家畜の保温成長促進
床、食品用乾燥機、乾燥米飯製造機などに広く利用され
ておシ、特に近年の省エネルギ一対策の課題よシ遠赤外
線を効率よく放射するヒーターとして注目されている。
放射面積が広くて被照射体の遠赤外線吸収率が良好であ
るため加熱炉壁、サウナの加熱板、家畜の保温成長促進
床、食品用乾燥機、乾燥米飯製造機などに広く利用され
ておシ、特に近年の省エネルギ一対策の課題よシ遠赤外
線を効率よく放射するヒーターとして注目されている。
従来、遠赤外線放射体としては、コ−ジェライト、アル
ミナ、ジルコニアなどの酸化物系セラミックス体の磁性
体又はセラミックス基材の表面にこれら酸化物系セラミ
ックス磁性体粉末を主成分とする塗料組成物の被膜が形
成されたものが知られている。
ミナ、ジルコニアなどの酸化物系セラミックス体の磁性
体又はセラミックス基材の表面にこれら酸化物系セラミ
ックス磁性体粉末を主成分とする塗料組成物の被膜が形
成されたものが知られている。
しかしながら、前記従来の酸化物系セラミック焼結体は
一般に熱伝導率が低く、例えばコ−ジェライトでは熱伝
導率が０．００３ ｍ／／ｖ一覧・℃であシ、加熱して
使用する際に温度分布の不均衡が生じ、熱衝撃性が悪く
亀裂破かいを生起し易い欠点がある。
一般に熱伝導率が低く、例えばコ−ジェライトでは熱伝
導率が０．００３ ｍ／／ｖ一覧・℃であシ、加熱して
使用する際に温度分布の不均衡が生じ、熱衝撃性が悪く
亀裂破かいを生起し易い欠点がある。
また、前記酸化物系セラミック焼結体の表面に前記磁性
体粉末を主成分とする塗料組成物の被膜が形成されたも
のは、基材と被膜との熱膨張係数が異なるため密着性が
悪く亀裂破かいを生起し易い欠点がある。
体粉末を主成分とする塗料組成物の被膜が形成されたも
のは、基材と被膜との熱膨張係数が異なるため密着性が
悪く亀裂破かいを生起し易い欠点がある。
本発明は、前記従来技術における遠赤外線放射体の欠点
を除去し改善することを目的とし、特に耐熱衝撃性およ
び展性に優れかつ加工性の良好な各種の金属を基材とし
、その表面に金属と密着性がよく比較的低温で遠赤外線
放射体の被膜が焼結形成され易い低融点ガラス物質等を
介在させて耐熱衝撃性および機械的強度等が優れた安価
な遠赤外線放射体を提供するものである。
を除去し改善することを目的とし、特に耐熱衝撃性およ
び展性に優れかつ加工性の良好な各種の金属を基材とし
、その表面に金属と密着性がよく比較的低温で遠赤外線
放射体の被膜が焼結形成され易い低融点ガラス物質等を
介在させて耐熱衝撃性および機械的強度等が優れた安価
な遠赤外線放射体を提供するものである。
すなわち、発明者らは従来の遠赤外線放射体はセラミッ
ク単体又はセラミック基材であるため耐熱衝撃性に劣り
高価であることに着目し、酸化物系セツミック磁性体の
単体製品に代えて耐熱衝撃性や加工性の優れた金属を基
材とし、更に金属表面に形成する遠赤外線放射体被膜中
に比較的低融点で熱膨張係数の高いガラス質物質を混入
して融点を低下させた遠赤外線放射体組成物で低温焼結
して被膜を形成することによって特に耐熱衝撃性と機械
的強度が優れた金属基材の遠赤外線放射体を提供するも
のである。
ク単体又はセラミック基材であるため耐熱衝撃性に劣り
高価であることに着目し、酸化物系セツミック磁性体の
単体製品に代えて耐熱衝撃性や加工性の優れた金属を基
材とし、更に金属表面に形成する遠赤外線放射体被膜中
に比較的低融点で熱膨張係数の高いガラス質物質を混入
して融点を低下させた遠赤外線放射体組成物で低温焼結
して被膜を形成することによって特に耐熱衝撃性と機械
的強度が優れた金属基材の遠赤外線放射体を提供するも
のである。
〔問題点を解決するための手段およびその作用〕本発明
によれば、金属基材の表面に酸化物系セラミック磁性体
粉末を主成分とする遠赤外線放射体と低融点の無機化合
物との組成物被膜が形成されていることが必要である。
によれば、金属基材の表面に酸化物系セラミック磁性体
粉末を主成分とする遠赤外線放射体と低融点の無機化合
物との組成物被膜が形成されていることが必要である。
゛前記金属としては、ステンレス、鋼、
鉄、アルミニウム、などの各種の金属を使用することが
できる。
鉄、アルミニウム、などの各種の金属を使用することが
できる。
このように本発明において各種の金属を基材とする理由
は、金属は一般にセラミック基材に比べて価格が安く熱
衝撃性に優れ、また加工性などに優れていることから、
遠赤外線放射体の前記組成の塗料の基材として適した性
質を有するからである。なお、前記例示の金属は比較的
安価で凡用されているものであシ、各種の用途すなわち
遠赤外線放射体によシ加熱しようとする温度例えば１０
０〜３００℃の温度に十分耐える耐熱性を有するもので
あれば特にその材質を問わない。但し、焼成温度が５０
０℃以上の場合は、鋼又は鉄のように耐熱温度が８００
℃位のもの又はステンレスのように耐熱温度が約１００
０℃以上のものを選ぶことが有利であシ、−労使用温度
が５００ を以下の場合はアルミニウム基材とすること
が有利である。
は、金属は一般にセラミック基材に比べて価格が安く熱
衝撃性に優れ、また加工性などに優れていることから、
遠赤外線放射体の前記組成の塗料の基材として適した性
質を有するからである。なお、前記例示の金属は比較的
安価で凡用されているものであシ、各種の用途すなわち
遠赤外線放射体によシ加熱しようとする温度例えば１０
０〜３００℃の温度に十分耐える耐熱性を有するもので
あれば特にその材質を問わない。但し、焼成温度が５０
０℃以上の場合は、鋼又は鉄のように耐熱温度が８００
℃位のもの又はステンレスのように耐熱温度が約１００
０℃以上のものを選ぶことが有利であシ、−労使用温度
が５００ を以下の場合はアルミニウム基材とすること
が有利である。
また、前記例示された以外の金属でも使用できるが、な
るべく熱膨張係数が小さいものを選ぶことが有利である
。表面に形成する前記塗料被膜の熱膨張係数は一般的に
金属よシも小さいため、これら両者間にミスマツチを生
じさせないためである。
るべく熱膨張係数が小さいものを選ぶことが有利である
。表面に形成する前記塗料被膜の熱膨張係数は一般的に
金属よシも小さいため、これら両者間にミスマツチを生
じさせないためである。
前記酸化物系セラミックス磁性体粉末は、シリマナイト
、ステアタイト、フォルステタイト、ペリクレーズ、コ
−ジェライト、ムライト、アルミナ、ジルコニア、チタ
ニア、ジルコンのいずれか１種又は２種以上であること
が必要である。その理由は、前記酸化物系セラミックス
磁性体は波長が５〜１５μｍ位の遠赤外線を吸収したシ
、加熱によシ遠赤外線を放射する特性を有するものであ
シ、例えば前記酸化物系セラミックス磁性体粉末を３０
０℃前後の温度で加熱すると波長が７〜１２μ舅の遠赤
外線を放射し、あられ原料であるもち米を表面をこがす
ことなく内部まで均一にα化し消化される状態にし、含
水率を余シ損うことなく自己発熱によってほどよく加工
することができる。また、従来の直火で加熱加工する方
法に比し２５〜３０９６位の省エネルギーになることが
知られているからである。
、ステアタイト、フォルステタイト、ペリクレーズ、コ
−ジェライト、ムライト、アルミナ、ジルコニア、チタ
ニア、ジルコンのいずれか１種又は２種以上であること
が必要である。その理由は、前記酸化物系セラミックス
磁性体は波長が５〜１５μｍ位の遠赤外線を吸収したシ
、加熱によシ遠赤外線を放射する特性を有するものであ
シ、例えば前記酸化物系セラミックス磁性体粉末を３０
０℃前後の温度で加熱すると波長が７〜１２μ舅の遠赤
外線を放射し、あられ原料であるもち米を表面をこがす
ことなく内部まで均一にα化し消化される状態にし、含
水率を余シ損うことなく自己発熱によってほどよく加工
することができる。また、従来の直火で加熱加工する方
法に比し２５〜３０９６位の省エネルギーになることが
知られているからである。
また、前記無機化合物は、低融点高膨脹ガラスであって
、アルミナ珪酸ガラス、ソーダ亜鉛ガラス、ソーダバリ
ウムガラス、ソーダ鉛ガラス、高鉛ガラス、ボタッシュ
ソーダ鉛ガラス、ポタッシュ鉛ガラス、ホウケイ酸鉛ガ
ラスのいずれか１種又は２種以上から選ばれたものであ
ることが必要である。これらの低融点ガラスは、軟化温
度が４００〜１０００℃の範囲にあυ、これを遠赤外線
放射体との組成比を各種の配合とすることにより、遠赤
外線放射塗料全体の融点並びに焼付は焼成温度を色々と
変えることができる。それゆえ、各種の金属基材の耐熱
温度が凡そ１２００℃以下であることを考慮して前記ガ
ラスの種類及び配合量を適宜選択して使用することが重
要であシ、金属基材の種類に応じて前記塗料中のガラス
の配合量を決定することになる。つまシ木発明によれば
、前記低融点で比軟点高膨張係数の各種のガラスの適正
量を遠赤外線放射塗料中に混入して使用することによっ
て比較的低温度すなわち５００〜１１００℃の加熱焼成
温度によシ金属表面に遠赤外線放射体被膜を容品にしか
も強固に形成することができる。
、アルミナ珪酸ガラス、ソーダ亜鉛ガラス、ソーダバリ
ウムガラス、ソーダ鉛ガラス、高鉛ガラス、ボタッシュ
ソーダ鉛ガラス、ポタッシュ鉛ガラス、ホウケイ酸鉛ガ
ラスのいずれか１種又は２種以上から選ばれたものであ
ることが必要である。これらの低融点ガラスは、軟化温
度が４００〜１０００℃の範囲にあυ、これを遠赤外線
放射体との組成比を各種の配合とすることにより、遠赤
外線放射塗料全体の融点並びに焼付は焼成温度を色々と
変えることができる。それゆえ、各種の金属基材の耐熱
温度が凡そ１２００℃以下であることを考慮して前記ガ
ラスの種類及び配合量を適宜選択して使用することが重
要であシ、金属基材の種類に応じて前記塗料中のガラス
の配合量を決定することになる。つまシ木発明によれば
、前記低融点で比軟点高膨張係数の各種のガラスの適正
量を遠赤外線放射塗料中に混入して使用することによっ
て比較的低温度すなわち５００〜１１００℃の加熱焼成
温度によシ金属表面に遠赤外線放射体被膜を容品にしか
も強固に形成することができる。
また前記低融点ガラスの熱膨張係数Ｃａ）は６〜１５×
１０−“と比較的低い膨張係数を有しているので金属基
材の熱膨張率（α）と比べて小さいため高融点のガラス
を混入し全体の熱膨張係数を金属のそれと同等にするこ
とによシ、両者間にミスマツチが生起し難い状嘘にし金
属表面に密着力の強固な遠赤外線放射体被膜を形成でき
る。
１０−“と比較的低い膨張係数を有しているので金属基
材の熱膨張率（α）と比べて小さいため高融点のガラス
を混入し全体の熱膨張係数を金属のそれと同等にするこ
とによシ、両者間にミスマツチが生起し難い状嘘にし金
属表面に密着力の強固な遠赤外線放射体被膜を形成でき
る。
このように本発明によれば、耐熱衝撃性や加工性に優れ
た各種の金属を使用目的に応じて基材として使用し、さ
らに遠赤外線波長領域において放射効率の高い酸化物系
セラミック磁性体粉末と、低融点で金属の熱膨張係数（
α）に近似のαを有する各種のガラスとを主成分とする
遠赤外線放射体塗料の被膜を比較的低温の焼成温度で前
記金属基材表面に形成することにより、従来の遠赤外線
放射体の欠点を除去・改善することができる。
た各種の金属を使用目的に応じて基材として使用し、さ
らに遠赤外線波長領域において放射効率の高い酸化物系
セラミック磁性体粉末と、低融点で金属の熱膨張係数（
α）に近似のαを有する各種のガラスとを主成分とする
遠赤外線放射体塗料の被膜を比較的低温の焼成温度で前
記金属基材表面に形成することにより、従来の遠赤外線
放射体の欠点を除去・改善することができる。
次に本発明の遠赤外線放射体の製造方法について説明す
る。
る。
本発明によれば、下記の（イ）〜（ハ）のシーケンスか
らなる金属基材の遠赤外線放射体。
らなる金属基材の遠赤外線放射体。
（イ）金属基材の表面を処理する工程１（ロ）酸化物系
セラミックス磁性体粉末１０〜９０重量部と低融点の無
機化合物９０〜１０重量部との組成物にビークル等の粘
稠物を混合した塗料を金属基材表面に被覆する工程； （ハ）５００〜１０００℃の加熱温度で焼成し金属基材
表面に遠赤外線放射体と低融点の無機化合物との組成被
膜を形成する工程。
セラミックス磁性体粉末１０〜９０重量部と低融点の無
機化合物９０〜１０重量部との組成物にビークル等の粘
稠物を混合した塗料を金属基材表面に被覆する工程； （ハ）５００〜１０００℃の加熱温度で焼成し金属基材
表面に遠赤外線放射体と低融点の無機化合物との組成被
膜を形成する工程。
前記（イ）の工程は、金属基材の表面の汚物除去或いは
脱脂処理として必要なもので１）、また金属基材表面に
密着性のよい遠赤外線放射体被膜を形成するために金属
表面を化学的に活性化し金属酸化被膜を形成し酸化物系
磁性体との親和性を向上するために必要なものである。
脱脂処理として必要なもので１）、また金属基材表面に
密着性のよい遠赤外線放射体被膜を形成するために金属
表面を化学的に活性化し金属酸化被膜を形成し酸化物系
磁性体との親和性を向上するために必要なものである。
前記（ロ）の工程は、前述のようにコ−ジェライト磁性
体などの酸化物系セラミックス磁性体は波長が５〜１５
μ風の範囲で高い放射率を得るために必要であシ、また
ソーダ鉛ガラスや高鉛ガラスのように低融点でかつ熱膨
張係数の高いガラスを前記遠赤外線放射体塗料に混入す
ることによシ比較的低温、例えば５００〜１０００℃の
焼成温度で強固な密着力を有する遠赤外線放射体被膜を
形成することができ、金属基材の熱膨張係数とその表面
に形成する遠赤外線放射体被膜の熱膨張係数をマツチさ
せることが必要である。その理由は、従来のアルミナ又
はコージェフイト磁器単体からなる遠赤外線放射体では
金属基材表面に放射体の被膜を形成することができない
からである。すなわち、金属の表面処理をして化学的に
活性化された基材表面に、金属と同程度の熱膨張係数を
有する遠赤外線放射体塗料被膜を金属の耐熱温度以下の
５００〜１１００℃という比較的低温度で加熱焼成する
ことによシ、耐熱衡性や密着性の優れた金属基材の遠赤
外線放射体を製造することができるからである。
体などの酸化物系セラミックス磁性体は波長が５〜１５
μ風の範囲で高い放射率を得るために必要であシ、また
ソーダ鉛ガラスや高鉛ガラスのように低融点でかつ熱膨
張係数の高いガラスを前記遠赤外線放射体塗料に混入す
ることによシ比較的低温、例えば５００〜１０００℃の
焼成温度で強固な密着力を有する遠赤外線放射体被膜を
形成することができ、金属基材の熱膨張係数とその表面
に形成する遠赤外線放射体被膜の熱膨張係数をマツチさ
せることが必要である。その理由は、従来のアルミナ又
はコージェフイト磁器単体からなる遠赤外線放射体では
金属基材表面に放射体の被膜を形成することができない
からである。すなわち、金属の表面処理をして化学的に
活性化された基材表面に、金属と同程度の熱膨張係数を
有する遠赤外線放射体塗料被膜を金属の耐熱温度以下の
５００〜１１００℃という比較的低温度で加熱焼成する
ことによシ、耐熱衡性や密着性の優れた金属基材の遠赤
外線放射体を製造することができるからである。
前記（ハ）の工程は、前述のように金属基材の耐熱温度
よシも低い焼成温度によシ遠赤外線放射体塗料の被膜を
強固に形成するために必要な工程であシ、低融点で高膨
張のガラス組成物を使用する理由はここにある。つｔｂ
、低融点の前記例示のガラスは遠赤外線放射体塗料全体
の融点を低下させる役割を果すものである。
よシも低い焼成温度によシ遠赤外線放射体塗料の被膜を
強固に形成するために必要な工程であシ、低融点で高膨
張のガラス組成物を使用する理由はここにある。つｔｂ
、低融点の前記例示のガラスは遠赤外線放射体塗料全体
の融点を低下させる役割を果すものである。
なお、前記（Ｃｆ）の工程において、金属基材表面に遠
赤外線放射体塗料の被膜を形成する方法としては、前記
酸化物系セラミック磁性体粉末と低融点高膨脹ガラスと
の組成物に各種の溶剤や結合剤などの混合物であるビー
クル等を混入し均一でかつ適正な粘度にし九粘稠物をス
プレー、へケ刷、スクリーン印刷、ドブ漬含浸法などの
各種の塗布法によって被膜を均一に形成する方法を採用
することができる。
赤外線放射体塗料の被膜を形成する方法としては、前記
酸化物系セラミック磁性体粉末と低融点高膨脹ガラスと
の組成物に各種の溶剤や結合剤などの混合物であるビー
クル等を混入し均一でかつ適正な粘度にし九粘稠物をス
プレー、へケ刷、スクリーン印刷、ドブ漬含浸法などの
各種の塗布法によって被膜を均一に形成する方法を採用
することができる。
次に本発明の遠赤外線放射体の最も代表的な実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
実施例１
熱膨張係数（以下αと略称し、ＲＴ→３００℃以下同じ
）が１２ Ｘ １０−＠／ｌ：：であり、５００謡×５
００鵡Ｘ厚さ２１ｗ１の軟鋼板を、まずサンドブラスト
で表面研摩し、次にトリクレンで超音波脱脂し、１００
℃で１時間の条件で乾燥した後、空気中で５００℃１時
間加熱して酸化被膜を形成した。次に、ａが８Ｘ１０−
＠／℃のアルミナ粉末２５重量部と、低融点高膨脹ガラ
スとしてαがｘ２ｘ１０−’なのソーダバリツガ９１フ
５重量部と、エチｐセルロースとブチμカμピトーμア
セテートよシなるビーク／Ｉ／２０重量部とをボールミ
ｙで混合したスプレーを２に凶の圧力で前記のスプレー
で塗布し、乾燥した後、空気中で７００℃１時間焼成し
、αが１１．４ Ｘ １０−’／ｌの遠赤外線放射体を
得た。この放射体を乾燥米飯製造の加熱板としてバーナ
ーで２５００〜３００℃に加熱したところ、従来の直火
よシも２５〜３０９６の省エネルギーとなった。また、
消化し易いおいしいお米ができた。これは遠赤外線が米
の内部に吸収されて自己発熱し、米を効率よくα化し、
かつ結合水がそのまま保持できたものと考えられる。
）が１２ Ｘ １０−＠／ｌ：：であり、５００謡×５
００鵡Ｘ厚さ２１ｗ１の軟鋼板を、まずサンドブラスト
で表面研摩し、次にトリクレンで超音波脱脂し、１００
℃で１時間の条件で乾燥した後、空気中で５００℃１時
間加熱して酸化被膜を形成した。次に、ａが８Ｘ１０−
＠／℃のアルミナ粉末２５重量部と、低融点高膨脹ガラ
スとしてαがｘ２ｘ１０−’なのソーダバリツガ９１フ
５重量部と、エチｐセルロースとブチμカμピトーμア
セテートよシなるビーク／Ｉ／２０重量部とをボールミ
ｙで混合したスプレーを２に凶の圧力で前記のスプレー
で塗布し、乾燥した後、空気中で７００℃１時間焼成し
、αが１１．４ Ｘ １０−’／ｌの遠赤外線放射体を
得た。この放射体を乾燥米飯製造の加熱板としてバーナ
ーで２５００〜３００℃に加熱したところ、従来の直火
よシも２５〜３０９６の省エネルギーとなった。また、
消化し易いおいしいお米ができた。これは遠赤外線が米
の内部に吸収されて自己発熱し、米を効率よくα化し、
かつ結合水がそのまま保持できたものと考えられる。
実施例２
αが９Ｘ１０−＠なであって、３００鵡Ｘ ９００ｊｌ
ｌＸ厚さが２．５３ｍ１のステンレス板を、実施例１と
同様の方法で前処理した。次に、αが２．８Ｘ１０７’
ｔ：のコ−ジェライト粉末２０重量部と低融点高膨脹ガ
ラスとしてαがｌ０ＸＩＯ−７ｔのバリウムガラス８０
重量部とニトロセルロースとプチルカμビトールアセテ
ートとからなるピーク／ｌ’ｌｏ重量部とをボールミρ
で混合してペースト状にして、へケ塗シで均一な遠赤外
線塗料被膜を形成し、空気中で８５０℃で３０分焼成し
、αが８．６Ｘ１０−７℃の遠赤外線放射体を得た。こ
の放射体上パン製造のコンベア炉の内壁に使用したとこ
ろ、パンの内部まで均一に、かつ短時間で焼けた。
ｌＸ厚さが２．５３ｍ１のステンレス板を、実施例１と
同様の方法で前処理した。次に、αが２．８Ｘ１０７’
ｔ：のコ−ジェライト粉末２０重量部と低融点高膨脹ガ
ラスとしてαがｌ０ＸＩＯ−７ｔのバリウムガラス８０
重量部とニトロセルロースとプチルカμビトールアセテ
ートとからなるピーク／ｌ’ｌｏ重量部とをボールミρ
で混合してペースト状にして、へケ塗シで均一な遠赤外
線塗料被膜を形成し、空気中で８５０℃で３０分焼成し
、αが８．６Ｘ１０−７℃の遠赤外線放射体を得た。こ
の放射体上パン製造のコンベア炉の内壁に使用したとこ
ろ、パンの内部まで均一に、かつ短時間で焼けた。
このように、本発明によれば従来のステンレス板単体を
用いた場合と比較して、約１５〜２０％の省エネルギー
の効果があった。
用いた場合と比較して、約１５〜２０％の省エネルギー
の効果があった。
実施例３
αが１３ Ｘ １ ｏ−７’ｔであって、６００謬Ｘ６
００Ｘ厚さが３鴫の軟鋼板を、前処理としてサンドブラ
スト処理をし、エアーコンプレッサーで清浄化し、空気
中で３００℃１時間加熱して酸化被膜を形成した。次Ｋ
。
００Ｘ厚さが３鴫の軟鋼板を、前処理としてサンドブラ
スト処理をし、エアーコンプレッサーで清浄化し、空気
中で３００℃１時間加熱して酸化被膜を形成した。次Ｋ
。
αが９．７Ｘ１０−７℃のジルコニア２５重量部とαが
３．８ｘ１０−＠／ｌ：のジルコン５重量部と低融点高
膨脹ガラスとしてαが１８．６Ｘ１０−ゾ℃のボタッシ
ュソーダ鉛ガラス７０ ｆＥ量部とニトロセルロースと
ブチルカルピトー！アセテートとよシなるビークル２０
重量部とをホーｔｖミμで混合したスプレーを２ ”Ｆ
／−の圧力で前記軟鋼板をスプレーで塗布し、乾燥した
後、空気中で５００℃１時間焼成し、αが１２．６ Ｘ
１ｏ−７℃の遠赤外線放射体を得た。この放射体を蒸
気又はヒータで１００℃〜２００℃に加熱し、サウナ用
の加熱板として使用したところ、従来に比べて人体の内
部まで暖ま９、また低温加熱で使用が可能であるので２
０〜２５％の省エネルギー効果があった。また、遠赤外
線放射体の塗膜は前記軟鋼板と極めて密着性がよく、１
０００時間以上の使用でもハクリやワレを生じなかった
。
３．８ｘ１０−＠／ｌ：のジルコン５重量部と低融点高
膨脹ガラスとしてαが１８．６Ｘ１０−ゾ℃のボタッシ
ュソーダ鉛ガラス７０ ｆＥ量部とニトロセルロースと
ブチルカルピトー！アセテートとよシなるビークル２０
重量部とをホーｔｖミμで混合したスプレーを２ ”Ｆ
／−の圧力で前記軟鋼板をスプレーで塗布し、乾燥した
後、空気中で５００℃１時間焼成し、αが１２．６ Ｘ
１ｏ−７℃の遠赤外線放射体を得た。この放射体を蒸
気又はヒータで１００℃〜２００℃に加熱し、サウナ用
の加熱板として使用したところ、従来に比べて人体の内
部まで暖ま９、また低温加熱で使用が可能であるので２
０〜２５％の省エネルギー効果があった。また、遠赤外
線放射体の塗膜は前記軟鋼板と極めて密着性がよく、１
０００時間以上の使用でもハクリやワレを生じなかった
。
以上のように、本発明によれば加熱ヒータなどの熱よシ
遠赤外線を吸収し、蓄積し、さらに放射する酸化物系磁
性体塗料が金属基材表面に密着性よく被覆された放射体
によって、１００から３００℃位の比較的低温加熱に適
しており、デンプン質の米やパンの食品加工、また健康
増進用ヒータ、さらには工業用ヒータの壁面などに使用
すれば、被加熱体の内部まで均一な加熱処理ができる利
点があシ、この業界において極めて有用なものである。
遠赤外線を吸収し、蓄積し、さらに放射する酸化物系磁
性体塗料が金属基材表面に密着性よく被覆された放射体
によって、１００から３００℃位の比較的低温加熱に適
しており、デンプン質の米やパンの食品加工、また健康
増進用ヒータ、さらには工業用ヒータの壁面などに使用
すれば、被加熱体の内部まで均一な加熱処理ができる利
点があシ、この業界において極めて有用なものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、金属基材の表面に酸化物系セラミックス磁性体粉末
と低融点の無機化合物との組成物被膜が形成されてなる
金属基材の遠赤外線放射体。 ２、前記酸化物系セラミックス磁性体粉末は、ジルコン
、コージライト、フォルステライト、ペリクレーズ、ム
ライト、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリマナイ
ト、ステアタイトのいずれか１種又は２種以上から選ば
れたものである特許請求の範囲第１項記載の遠赤外線放
射体。 ３、前記無機化合物は、低融点高膨脹ガラスであって、
アルミナ珪酸ガラス、ソーダ亜鉛ガラス、ソーダバリウ
ムガラス、ソーダ鉛ガラス、高鉛ガラス、ポタッシュソ
ーダ鉛ガラス、ポタッンュ鉛ガラス、ホウケイ酸鉛ガラ
スのいずれか１種又は２種以上から選ばれたものである
特許請求の範囲第１項記載の遠赤外線放射体。 ４、下記の（イ）〜（ハ）のシーケンスからなる金属基
材の遠赤外線放射体。 （イ）金属基材の表面を処理する工程； （ロ）酸化物系セラミックス磁性体粉末１０〜９０重量
部と低融点の無機化合物９０〜１０重量部との組成物に
ビークル等の粘稠物を混合した塗料を金属基材表面に被
覆する工程； （ハ）３００〜１０００℃の加熱温度で焼成し金属基材
表面に遠赤外線放射体と低融点の無機化合物との組成被
膜を形成する工程。 ５、前記酸化物系セラミックス磁性体粉末は、シリマナ
イト、ステアタイト、フォルステライト、コ−ジェライ
ト、ムライト、アルミナ、ジルコニア、チタニア、ジル
コン、ペリクレーズのいずれか１種又は２種以上である
特許請求の範囲第４項記載の製造方法。 ６、前記無機化合物は、低融点高膨脹ガラスである特許
請求の範囲第４項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3080285A JPS61190080A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | 金属基材の遠赤外線放射体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3080285A JPS61190080A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | 金属基材の遠赤外線放射体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61190080A true JPS61190080A (ja) | 1986-08-23 |
Family
ID=12313808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3080285A Pending JPS61190080A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | 金属基材の遠赤外線放射体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61190080A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102633494A (zh) * | 2012-04-18 | 2012-08-15 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种宽波段内具有高红外辐射率的粉体材料及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS557586A (en) * | 1978-08-26 | 1980-01-19 | Toomei Kogyo Kk | Low temperature boiling kettle |
| JPS5756348A (en) * | 1980-09-19 | 1982-04-03 | Takara Standard Kk | Manufacture of enameled heating element for radiating far infrared ray |
| JPS58190838A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-07 | Takara Standard Kk | 遠赤外線放射のための琺瑯発熱体の製造方法 |
| JPS59173272A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-10-01 | Toomei Kogyo Kk | 特に遠赤外線発生素子を調合した釉薬を用いた琺瑯の製造方法 |
| JPS61179881A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Ibiden Co Ltd | 金属基材の赤外線放射体とその製造方法 |
-
1985
- 1985-02-19 JP JP3080285A patent/JPS61190080A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS557586A (en) * | 1978-08-26 | 1980-01-19 | Toomei Kogyo Kk | Low temperature boiling kettle |
| JPS5756348A (en) * | 1980-09-19 | 1982-04-03 | Takara Standard Kk | Manufacture of enameled heating element for radiating far infrared ray |
| JPS58190838A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-07 | Takara Standard Kk | 遠赤外線放射のための琺瑯発熱体の製造方法 |
| JPS59173272A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-10-01 | Toomei Kogyo Kk | 特に遠赤外線発生素子を調合した釉薬を用いた琺瑯の製造方法 |
| JPS61179881A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Ibiden Co Ltd | 金属基材の赤外線放射体とその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102633494A (zh) * | 2012-04-18 | 2012-08-15 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种宽波段内具有高红外辐射率的粉体材料及其制备方法 |
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