JPS5836821B2 - 遠赤外線放射装置 - Google Patents

遠赤外線放射装置

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JPS5836821B2
JPS5836821B2 JP15098377A JP15098377A JPS5836821B2 JP S5836821 B2 JPS5836821 B2 JP S5836821B2 JP 15098377 A JP15098377 A JP 15098377A JP 15098377 A JP15098377 A JP 15098377A JP S5836821 B2 JPS5836821 B2 JP S5836821B2
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JP
Japan
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far
radiation
infrared
heat radiator
radiation device
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JP15098377A
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JPS5483138A (en
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明夫 三友
稔 米子
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Hitachi Netsu Kigu KK
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Hitachi Netsu Kigu KK
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は塗料の乾燥焼付、食品の加熱保温、暖房などに
適した赤外線放射装置に関する。
一般に遠赤外線放射装置は次の性質が要求される。
1)強力な遠赤外線を放射するためには、3〜50μの
波長領域において、放射物質の放射率が1に近いこと。
2)加熱時の速熱性に優れ、500〜7000Cにおい
て放射物質が熱的に安定であること。
3)金属から成る熱放射体と放射物質の密着性が大きく
冷熱サイクルの使用において剥離やクラツクを生じない
こと。
4)機械的な衝撃に対して強いこと。
5)製造が容易でかつ安価であること。
一方、従来の遠赤外線放射装置には、赤外線ランプ、発
熱線をセラミック放射物質に埋込んだ、いわゆる埋込ヒ
ータ、および金属からなる熱放射体表崩にセラミック放
射物質を溶射法によりライニングせしめた溶射ヒータな
どがある。
しかし、赤外線ランプは加熱時の速熱性に優れる反面、
5μ以上の長波長遠赤外線が放射されないため有機物質
の乾燥や加熱には、不適当であるばかりでなく、機械的
衝撃に弱くかつ寿命が短い欠点があった。
また埋込ヒータは400〜500℃における放射率が優
れ3〜50μの遠赤外線を強力に放射するが、500℃
以上の温度で使用すると放射層にクラツクが発生する他
に速熱性が劣り機械的衝撃に対して弱くかつ製造法が複
雑で高価になる欠点があった。
溶射ヒータは、3〜50μにおける放射率が大きく強力
な遠赤外線を放射し600〜700℃の高温で使用でき
る他に機械的な衝撃に対しても強い特徴を有する反面、
金属の熱放射体とセラミック放射物質との密着は単に機
械的結合なため、前処理方法や溶射条件を厳密に管理し
ないと、ライニングしたセラミック放射層が使用中に剥
離やクラツクを生じ、冷熱サイクルニ対して劣る欠屯の
他に、溶射のライニングコストが高く、安価な製品が製
造できない欠点があった。
本発明は以上述べたような従来の欠点を除去するために
なされたもので、500〜700℃において3〜50μ
の波長領域の赤外線を強力に放射し加熱時の速熱性に優
れ、冷熱使用に対しても剥離やクラツクがなく機械的衝
撃性に強く、さらに安価で容易な製造法の遠赤外線放射
装置を提供するものである。
以下本発明の実施例につき図面と\もに説明する。
すなわち金属からなる熱放射体例えば図1に示す鉄、ア
ルミあるいはステンレスなどのパイプの熱放射体1の中
に両端に電極ターミナル2を有?るら線状発熱体3を押
通し、MgC)a’どの耐熱絶縁性充填材4を充填し、
両端を気密材5でシールした構造を有する発熱体におい
て、熱放射体1の表面にセラミック粉例えばFe203
, Cr203 tNip2,MnO2,CoO,Al
03,Si02,MgO,ZrO2などの酸化物やSi
C,WC などの炭化物あるいはT r B2 ,WB
などの硼化物あるいはBN,SiNなどの窒化物などの
中から3〜50μの波長領域において放射率が犬なるよ
うに選択した少なくとも1種類以上の粉末と融点が45
0〜1200℃のガラス質例えば、長石、ホウ砂、ケイ
石、ソーダ灰、チリ硝石ホタル石などから成るガラスと
の混合物に粘土および水などから成る混合液をlO〜2
00μの厚さに塗着し、梨地状に放射層6をホウロウ仕
上することにより3〜50μの波長領域における放射率
が大きく速熱性も優れ500〜700℃において放射物
質が熱的に安定で熱放射体との密着性に優れて、冷熱使
用にも剥離やクラツクを起さず、機械的強度も強く、容
易な製造法で安価な遠赤外線放射装置を提供できる特長
を有する。
熱放射体表面の前処理はスチールグリッドやガラスビー
ズでブラスト処理を行うことにより、表面に付着した酸
化被膜や汚れは完全に除去でき、かつ放射層を形成した
ときの熱放射体と放射層との密着性を向上させることが
できる。
また熱放射体と放射層との密着性を向上する方法として
は、ブラスト処理した熱放射体表面に下地のガラスホー
ロー質を被着させても良い。
その場合は必ずしもガラスホウロウ質中に放射率を上げ
るためのセラミックを添加しなくてもよい。
ガラス質の融点を450〜1200℃に限定した理由は
次の通りである。
融点が450℃以下のガラス質を使用すると放射層を安
定に被着するためには、遠赤外線放射ヒータの動作温度
が300℃以下に設定しなければならず、強力な放射エ
ネルギーを放射できない。
また融点が1200℃以上の場合は熱放射体中の発熱線
の耐熱限度以上となり好ましくない。
遠赤外線放射装置の使用温度が500〜600℃である
ことから、ガラス質の融点は700〜850℃が好まし
い。
放射層の厚さを10〜200μに限定した理由は次の通
りである。
放射層の厚さが10μ以下では放射特性が劣る他に熱放
射体が鉄の場合酸化が進行して放射層の剥離が生じたり
、更に梨地処理できない不都合がある。
また放射層の厚さが200μ以上になると熱放射体と放
射層の熱膨張差が大きくなり、剥離し易くなったり、機
械的衝撃に弱くなるためである。
放射層表面を梨地状に仕上げる理由は、梨地状にするこ
とにより、表面が多孔質になり、放射面積が大きくなる
ため、放射エネルギー量が増加する。
従って優れた放射装置としては、表面を梨地状に仕上げ
ることが好ましいが、本発明では、特に限定しない。
また梨地状仕上げはガラスの融点よりやN低い温度でホ
ウロウ仕上げするか融点以上の温度でも短時間の焼付を
行うことにより得られる。
以下具体的な実施例につき説明する。
鉄パイプからなるシーズヒータ(IOOV、600W,
長さ500mm,直径12m杓の表面にガラスビーズで
ブラスト処理後表1に示す配合のガラスフリット混合粉
100に対し、粘土7、水50の割合で混合した液をヒ
ータ表面に塗着し、乾燥後850°C3分のホウロウ焼
付をする。
下地処理したヒータを表2に示す放射率大なるようなセ
ラミック粉を含む配合例の粉100に対し粘土7水40
の割合で混合し、下地処理と同様のホウロウ焼付を80
0℃で3分間行い、表面が梨地状の放射層を得た。
次にヒータを通電し赤外分光々度計により3〜50μま
での比放射エネルギーを測定し、その結果から平均放射
率を計算し、赤外線ランプについても同様の測定値から
計算すると表3になった。
なお平均放射率はヒータの放射エネルギーに対する同一
温度の黒体の放射エネルギーの比を平均して求められる
以上の結果から実施例の放射装置はヒータ単体でも放射
率が0.86以上となり、これに反射板等を取付ければ
更に効率が向上する。
本発明の実施例の遠赤外線放射装置により、アクリル系
塗料を焼付乾燥したところ、従来の赤外線ランプが5分
30秒要したのに対し、約3分で焼付乾燥が完了したこ
とから強力な遠赤外線が放射されていることが実証され
た。
また本発明の遠赤外線放射装置は通電して約10分後に
一定な温度に飽和し強力な放射エネルギーを出すため、
速熱性に優れ500〜700°Cにおいて安定に使用で
きる他に、溶射ヒータと異なり放射層と熱放射体とはホ
ーローのメカニズムから知られている如く、ある種の化
学結合で結ばれているため密着性に優れ、実際に冷熱サ
イクル(20〜600℃の冷熱1000サイクル)を行
なっても剥離やクラツクは生じなかった。
さらに放射層を200μ以上の厚さに塗着しなければ、
外部からの機械的衝撃に対しても実用上全く問題なく、
製造法は一般のホーロー焼付と同様に行えるため量産性
があり、安価に優れた遠赤外線放射装置が提供できる特
徴を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すシーズヒータパイプ表
面に放射物質を形成させた遠赤外線放射装置の一部切断
面図を示す。 1・・・・・・熱放射体、6・・・・・・放射層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 金属からなる熱放射体表面にセラミック例えば金属
    酸化物、炭化物、硼化物、窒化物などの中から少なくと
    も1種類以上と450〜1,200’Cの融点を有する
    ガラス質とを主成分とする混合物を放射層として10〜
    200μの厚さで梨地状にホウロウ仕上げしたことを特
    徴とする遠赤外線放射装置。
JP15098377A 1977-12-15 1977-12-15 遠赤外線放射装置 Expired JPS5836821B2 (ja)

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JP15098377A JPS5836821B2 (ja) 1977-12-15 1977-12-15 遠赤外線放射装置

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Publication Number Publication Date
JPS5483138A JPS5483138A (en) 1979-07-03
JPS5836821B2 true JPS5836821B2 (ja) 1983-08-11

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5925192U (ja) * 1982-08-06 1984-02-16 株式会社ヨ−ネツ 遠赤外線パネルヒ−タ
JPS5925193U (ja) * 1982-08-06 1984-02-16 株式会社ヨ−ネツ 遠赤外線パネルヒ−タのヒ−タユニツト
JPS5933782A (ja) * 1982-08-19 1984-02-23 松下電器産業株式会社 シ−ズヒ−タおよびその製造方法
JPS60218786A (ja) * 1984-04-13 1985-11-01 松下電器産業株式会社 シ−ズヒ−タ
JPH01170440U (ja) * 1988-05-20 1989-12-01
JP6351117B2 (ja) * 2015-06-12 2018-07-04 株式会社ラジアント 農作物のハウス栽培方法及び栽培設備

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0416912U (ja) * 1990-06-01 1992-02-12

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