JPS59173272A - 特に遠赤外線発生素子を調合した釉薬を用いた琺瑯の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は適宜処望温度を加えることにより、比較的低
温度雰囲気に於て、遠赤外線を発生せしめる一様にした
性質の特に遠赤外線発生素子を調合した釉薬を用いた琺
瑯の製造方法に係わる発明である。

従来一般に用いられている琺瑯を焼成するために用いら
れている釉薬ば５ｉｏ２が４３％、　Ｂ２Ｏ３が１４％
、　Ｔｉ０ｚが２０％と、そして凡２０が１７％（Ｎａ
ｚＯ及びに２０　）夫々略調合され、そして残部がＣａ
Ｆｚ＋ＡＬ２０３等からなり、またこの焼成温度は略７
８０　’Ｃである。而し乍ら之等従来一般に用いられて
いる前記琺瑯では本発明の目的を達成する事が出来ない
のである。

即ち、本願発明の目的とする処は、先づ波長１ｔが略８
〜１２で良く水分を透過し、例えば煮沸釜の内面に焼成
した場合に直接輻射的に内容物、例えば、玄米、豆類等
に輻射されることによりて該内容物を熱効果的に煮沸す
ること、焼成温度が前記従来例より左程高くないこと、
そして従来特殊の例として使用されているプラズマ溶射
などの様に高温（１２００℃〜１５００℃）と特殊の技
術を要することなく、従来例の様に「ディッピング」（
ドブヅケ）或いは「スプレィ式吹付け」した後比較的容
易に焼成が出来、従って実施化が容易である等と云う条
件、である。

前記した様な目的に対し、本願発明の一実施例を煮沸釜
に適用した場合について説明すれば、先づ第一図により
１は釜本体で、芯体１　ｒｉ　、外部着色防錆琺瑯帯１
１〕とそして内部琺瑯帯ＩＣとから構成されている。芯
体１　ａは鉄板或いは鋳鉄物を用いるものとし、外部琺
瑯帯１１〕は防錆と美観を呈するだめのものである。内
部琺瑯帯ＩＣは本願発明により焼成されたもので、先づ
既述した一般琺瑯に見受けられる場合に於ける釉薬とは
異なり、５ＩＯ２が４０％、　Ｂ２Ｏ３が１２％＋　’
１．”０２が１８％及び１：Ｌ２０が１５％（Ｎａ２Ｏ
が１１％、に２０が４％）と特に選定されたＺｒＯ２或
いはＺｒＯ２、８１０２の化合物が５〜９％調合されて
いる。

２は帯鉄、３は茫乎、４は缶蓋、５は水の部分。

６は内容物で、玄米或いは豆類、７は受台、８は熱源、
９はコンロ、　１０は前記熱源８０強弱を加減するため
の調節用コック、そして１１は導管である。

前記した本願内部琺瑯帯ＩＣについて実施例を述べると
、既述したプラズマ溶射方法などに見受けられる様な特
殊技術を要すること無く、先づ前以って前記釉薬（パウ
ダー）を常温雰囲気に於て略２０〜２４時間ボールミル
で充分攪拌し、スゲレイによりて下塗りを施こしてから
焼成し、然る後更にこの上面にスプレィによるか或いは
ディッピングによりて前記釉薬を塗着せしめて略８４０
℃で焼成するのである。そしてとの際用いられる温度は
一般琺瑯の場合に於いては略７８０℃であるのに対し、
本発明では前記した様に８４０℃で焼成することが最も
適正であることを確認した。尚。

前記工程に於ては予め下塗シ焼成後１回の場合について
述べたが、必要に応じ、即ち遠赤外線の発生をよシ効果
的にするため、２回或いは之以上複数回を重ね、琺瑯体
ＩＣをよシ厚目にすることによシて更に性能を向上し得
たのである。

次いで本願発明に於て既述した様な釉薬を用いた思想に
ついて実施化の上から詳記すれば、先づ５％以下のＺｒ
Ｏ２或いはＺｒＯ２，８１０２の化合物を調合したもの
では先に提出した第二図に示すような結果となり、第三
図による様々遠赤外線発生率ηの８曲線が充分発生し輻
射せしめることが出来ないのである。

捷だ、体膨張係数にかかわる釉薬を構成する物質のメイ
ヤーハーバース因数については衆知の如くである。即ち
、 メイヤーハーバース因数表 メイヤーハーバース因数 ８１（ｈ　　　　　　　　　　　　　　　０．８Ｂｚ０
１３０．　Ｉ Ｔｌ（ｈ　　　　　　　　　　　　　　　／１．１Ｚｒ
Ｏｚ　　　　　　　　　　　　　　　２．１次いで既述
した様に、従来例でば８＋０２．　Ｂ２Ｏ３。

Ｔ　’＋　０２及びＲｚＯ（Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ）が略夫
々４３％、１４％、２０％及び１７％（１２％、５％）
調合されているが、前記の様に調合された釉薬と鉄との
相互の体膨張係数は、 鉄の場合　　　　　４０５ＸＩＯ” 前記一般琺瑯釉薬の場合 ３２０〜３６０　Ｘ　Ｉ　０−７ （但し、Ｏ”Ｃ−１００’Ｃの平均値）であり、特にＺ
ｒ０２（ＺｒＯ２、８１０２の化合物として析出される
場合が多い）は前記メイヤー・バーバース因数に見受け
られる様に’１．’ｉ０２．　Ｎａ２Ｏやに、２０に比
較して低位（２１）であるから９％以」−を混合した場
合には芯体１　＋ｉと該琺瑯体１ｃとの相互体膨張係数
の差が大きくなりで琺瑯帯１Ｇに剥離、とび及び亀裂を
生じて毀損し易くなり、また脆性をおびてくるのであり
、且つＺｒＯ２或いはＺｒＯ２’　ｌ８１０２の化合物
を前記９％以上調合しようとすれば、焼成温度も比較的
に高くなりで焼成工程に困菓１１性を生づるので実施化
の上から５〜９％の場合が最適の状態としての結果が得
られたのである。

そしてこの結果、略２００℃以下に加熱することにより
で、第三図（カーブＥ）に見受けられる様に、水分を良
く透過するに充分且つ適切な８〜１２７１の遠赤外線を
効果的に発生することを得たのである。

尚、ＺｒＯ２或いはＺｒＯ２、ＳｉＯ２の化合物が５％
以下の場合は有効且つ適切な８〜１２／ｌの遠赤外線を
効果的に発生することを得られない。

従来ＺｒＯ２，８１０□６０％以上、マンガン酸化物と
鉄。

コバルト、二、ケル及びクロークの酸化物の少なくとも
一種とからなる鉱化剤分が１５％迄、そして残部（６２
５％）を粘土にて鉄製芯体１ａを用いないで、単独的に
焼成した、所謂セラミックは従来衆知（特公昭、１７−
２５０１０号）であるが、既述した様な煮沸釜の内部に
据置して使用する場合には、本体１と別体的であること
から取扱い上の不便利性があるのみならず、比較的脆性
であるから毀損し易いと云う欠点を有していたが、本発
明では例えば煮沸釜の内面に焼成した場合芯体１ａと１
体的となるので取り扱いが便利のみならず、既述した様
な初期の目的、即ち目的のμを充分発生すること。焼成
温度が従来一般例に於いては略７８０℃であるのに対し
、本発明では略８４０℃であり、従いて芯体］　ａとの
互いの加熱による歪を実施上支障なき様になされて卦り
捷た特殊技術及設備を要しないなどと云う実施面にだで
従来他に見受けられない効果がある。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の実施例を示すもので、第一図は正面図で−
、部断面を示し、第二図及び第三図は夫々遠赤外線の発
生状態を示したもので、第二図は従来例を、また第三図
は本発明による場合を示したものである。 １＋１　　芯体　　　　ＩＣ帯 他２名 代理人　　トーメイ工業株式会社内 特許庁長官　　　　　　　　　殿 １、事件の表示　　昭和５８年５月１３日に提出した特
許法３、補正をする者 昭和５８年Ｊ、ｌ几２１ｉ［！差出 手続補正書 昭和５８年１２月２２日 特許庁長官　若杉和夫殿　ご、’、）　　、ｉノ２）ぐ
、、、：’７）、　−））ｔ １　事件の表示　　昭和５８年５月１３日に提出した特
許法第５３条第４項に規定する特許出願 ３　補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住所　　〒４８１愛知県西春日井郡西春町太字北野電話
　０５６８（２１）０００１代表 他２名 ７１代理人 ５　補正命令の日付 昭和５８年１１月１０日 昭和５８年１２月１３日発送日 ６　補正の対象 昭和５８年６月１１日付提出の手続補正−４７補正の内
容 「特許請求の範囲」を全文補正し才した。 ８　添付書類の目録 （１）「特許請求の範囲」を全文補正した書面　　１通
２、特許請求の範囲 本文と図面とによシて詳記した様に、鉄板或いは鉄鋳物
を芯体となし、該芯体の面に８１０２が４０％。 Ｂ２Ｏ３が１２％、　ＴｌＯ２が１８％、小２０が１１
％。 ］く、０が４％略夫々と若干％のＯ”Ｆ２及びＡＪ−２
０２等を調合すると共に、特にＺ　Ｆ０２或いはＺ　＋
’０２．　　Ｓ　＋　０２の化合物を５％以上調合した
釉薬を常温雰囲気に於て２０〜２４時間ボールミルで充
分攪拌し、前Ｓ己８４０℃で焼成し、２００℃以下に加
熱することにより遠赤外線を発生する様にしたことを特
徴とする特に遠赤外線発生素子を調合した釉薬を用いた
琺瑯の製造方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 本文と図面とによりて詳記した様に、鉄板或いは鉄鋳物
   を芯体となし、該芯体の面に８１０２が４０％。 Ｂ２Ｏ３が１２％、　Ｔｒ０２が１８％、　ＮａｚＯが
   １１％。 Ｋ２Ｏが４％略夫々と若干％のＣａ、Ｅ″２及びＡＬ２
   ０２等を調合すると共に、特にＺ　ｒ０２或いはＺｒＯ
   ２，８ｉ０２の化合物を５％以上調合した釉薬を常温雰
   囲気に於て２０〜２４時間ボールミルで充分攪拌し、前
   記釉薬を目的物に向う面にディッピング寸たはスプレィ
   によりて塗着せしめて、１回或いは複数回路８４０℃で
   焼成し、２００　’Ｃ以下に加熱することにより遠赤外
   線を発生する様にしたことを特徴とする特に遠赤外線発
   生素子を調合した釉薬を用いた琺瑯の製造方法。