JPS6118760A - 抗細菌性7‐オキソ‐4‐チア‐1‐アザ ビシクロ〔3,2,0〕ヘプタ‐2‐エン誘導体 - Google Patents

抗細菌性7‐オキソ‐4‐チア‐1‐アザ ビシクロ〔3,2,0〕ヘプタ‐2‐エン誘導体

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JPS6118760A
JPS6118760A JP60140707A JP14070785A JPS6118760A JP S6118760 A JPS6118760 A JP S6118760A JP 60140707 A JP60140707 A JP 60140707A JP 14070785 A JP14070785 A JP 14070785A JP S6118760 A JPS6118760 A JP S6118760A
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バリー・クライブ・ロス
マクル・デイビツド・クツク
ニコラス・イーアン・カルーサーズ
アンドルー・ジヨン・バーカー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明ははネム誘導体、それらの製造方法、それらを含
む薬学的製剤、および抗細菌活性および/またはβ−ラ
クタマー七阻害および/捷たは失活活性を有する物質製
造のだめの中間体に関する。
7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0
]へブタ−2−エンは次式Aを有し、また6位に脂肪族
側鎖を有するその誘導体は式Bに示されている。すなわ
ち、 別の命名システムにより、前記の核Aは「ベネム」と記
述してもよく、その場合の壌番号付けは式Cに示される
とおりであり、また6位に脂肪族側鎖を有する誘導体は
式りに示されるごとく番号付与される。すなわち、 本発明は式I 0OH (式中R1は水素原子または1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソ−フロビル、n−ブチル、イソ−ブチル、5ea−
ブチルまたはt−ブチル基を表わし、また−CONHR
”基はフェニル環の3−または4−位に存在する) で表わされる化合物を提供する。
R1は好ましくは水素を表わす。
本発明はまた式lの化合物の2−カルボキシル基のエス
テル、例えば加水分解、光分解、還元または特にニステ
ラー七酵素作用により転化して式Iの遊離酸を与えるエ
ステルをも提供する。本発明は更に8−ヒドロキシ基の
エステル、特に8−位の低級アルカノイルオキシ基をも
提供する。
本発明は更に式Iの化合物の塩類、特にその生理学的に
許容しうる塩をも提供する。
式■の化合物の5.6および8位の立体化学は独立的に
RまたはSでありうる(RおよびSはCahn−工ng
old−Prelog命名システムにより定義される)
。好ましい立体化学は5位ではR,6位ではS、そして
8位ではRである。
本発明はまた式■または式■ 0OR (式中Rは水素原子またはカルボキシ保護基を表わし、
R5は活性化されたカルボン酸基を表わしB4は1〜4
個の炭素原子を有するアルキル。
捷たは置換されていなくてもまたは塩素および弗素原子
、シアンお工びニトロ基−およびアルコキシ基から選択
される同一か捷たは異なる1または2個以上の置換分に
より置挾されていてもよいフェニル基を表わし、B15
はフェニル基または1〜4個の炭素原子を有するアルキ
ル基を表わし、そして又は酸素または硫黄原子を表わす
) で表わされる化合物を弐■ 1NH2 (式中R1は前記定義どおりである) で表わされるアミンと反応させて式Iの化合物、または
式1a 0OR (式中Rはカルボキシ保護基を表わす)で表わされるそ
のエステルとし、次の諸工程、すなわち、 a)式1aのエステルを加水分解して相轟する式Iの遊
離酸とする工程、 b)式■の遊離酸せたはその塩を、例えばアルコール、
フェノール化合物またはその反応性誘導体と共にエステ
ルを形成しうる剤と反応させて式1aのエステルとする
工程、 C)式1aのエステルに対し酸または塩基で触媒された
エステル交換を行って式1aの異なる工ステルとする工
程、 d)式lの遊離酸を環基と反応させて2位のカルボン酸
基を塊とする工程、 θ)式lの遊離酸または塩基性基を有する式1aのエス
テルを酸と反応させてその酸付加塩とする工程、 f)  式laのエステルからエステル基な塩形成剤。
例えばアルカリ金属塩、の存在下に加水分解して式Iの
化合物の堝とする工程、 g)式lの化合物の塩を酸と反応させて式■の遊離酸と
する工程、および h)式lの化合物またはその塙、または式1aのエステ
ルを有機酸と反応させて8位にエステル化されたヒドロ
キシ基を有する式lの化合物または式1aのエステルと
する工程 のうちの任意の1または2以上の工程を任意の所望の順
序でhうことよりなる一般式Iの化合物またはそのエス
テルもしくは塩の製造方法をも提供する。
特に好まし7いケースにおいては、化合物■の活性化さ
れたカルボン酸基R5は式−COXR4(式中Xおよび
R4は前記定義どおりである)で表わされる基であり、
式■ C○OR で衣わされる化合物を与える。
式■または式■の化合物において、R4は好ましくは1
または2個以上の塩素および/または弗素原子により置
換されたフェニル基を表わす。
Xが硫黄または酸素原子を表わす場合にはR4は特ニペ
ンタフルオロフェニル基を表わし、マタXが硫黄原子を
表わす場合には、4−クロロフェニルおよヒ2.4.5
− ト+)クロロフェニル基モまたR4として特に好ま
しい。
式■の化合物と式■のアミン化合物との反応は一40〜
+40℃、好捷しくは0〜20℃の範囲の温度で行うの
が好ましい。溶媒については。
溶媒がそれ自体反応剤または中間体のいずれとも反応し
なければ、その選択の幅は広い。そのために、実質的に
水分不含の溶媒または混合溶媒を用いるのがしばしば好
ましい。適当な溶媒例はジメチルホルムアミドおよびア
セトニトリルである。
弐■のアミンと弐■の化合物との反応は金属塩、特に元
素の周期的分類(the PeriodicC1ass
if]cation Of the Elements
)(E、Cartme’ll& G、W、A、 Fow
les、 Valency and Mo1ecula
rEltructure、 ButterworthI
l+、 1966参照)のIB。
IIBおよび■族から選択される金属の塩、例えば銅、
ロジウム、水銀、亜鉛、カドミウムまたは特に銀の塩の
存在下に行われうる。この塩は例えば有様・甘たは無機
酸、例えば過塩素酸、四弗(1[[、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、マたはトリフルオロ酢酸、あるいはイミ
ダゾールとの塩である。好捷しい塩の例は酢酸鋏、トリ
フ/l/ オロ酢酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸
銀、および鋏イミダゾライドである。
式■のアミンと弐■の化合物との反応の際に金属塩が存
在することがどれたけ有利がかは、式■の化合物中の一
〇〇XR4基の反応性に依存しまた経験的に定めうるも
のであり、例えばXが酸素原子を表わす場合には一般的
に実質的なオリ点はない。ペンタフルオロフェニルチオ
−(カルボニル)エステル基を有する式■の化合物の場
合には、所望ならば金属塩を用いてもよいが一得られる
利益は太きくはない。これに対しXが硫黄原子を表わす
式■の他の化合物については。
式■のアミンとの反応の際に金属塩が存在すると収率が
著しく向上する。
式■の化合物は、化合物■と■との反応について前述し
た条件と同様の条件下に式■のアミノと反応させること
ができ、それによって式Iの化合物捷たはそのエステル
が直接得られる。
この場合、少くとも2モル当量のアミンを用いることが
一般的に必要である。式■において。
R4は特にペンタフルオロフェニル基7表わす。
弐゛■の好捷しい化合物が式■の他の化合物よりも有利
な点は、化合物■の製造に至る反応シーケンスの初期の
段階で活性化されたカルボン酸基−〇〇XR4を導入で
きそして後述の反応スキームlに示されるような反応シ
ーケンスを通して維持される。式■の他の活性化された
酸の製造は後述の反応スキームHに示されるよりにもう
一つの活性化工程を伴う。どいつのは、この場合には、
これらの化合物を式V (式中Rは前記定義どおりである) で表わされる遊離カルボン酸を介して製造する必要があ
るからである。
全体として(化合物Vの)遊離カルボン酸基は(化合物
lの)ア・ミド基に転化される。式Uの活性化された中
間体化合物は別の反応工程で製造してもよくまた。所望
により単離してもよければそれを反応系内で式Iの化合
物に転化してもよい。
カルボン酸基のアミド基への転化は化学において周知で
あり、また広範囲の反応剤および方法が当業者に利用可
能である。一般に、反応剤はカルボン酸基をその活性化
された誘導体に転化する(その誘導体は次いでアミンと
反応させる)ことによって働く。カルボン酸の活性化例
は次に挙げるような転化によるものである。すなわち。
(1)活性化エステルへの転化1例えば、ビスフェニル
カーボネートなどを用いてのフェニルエステルへの転化
; (11)例えばホスフィニルハライドまたはホスホリル
ハライドなどを用いての亜燐酸もしくは燐酸エステルま
たは燐酸無水物への転化;(II+)  例えば酸クロ
ライドまたはブロマイド、例えばピバロイルブロマイド
、カルボジイミド、例、t ハシシクロへキシルカルボ
ジイミドまたは1−(3−ジメチルアミノプロピル)−
6−ニチルカルボジイミド、またはクロロホルメートな
どを用いてのカルボン酸無水物、特に混合無水物への転
化; (1v)例えばN、N’−カルボニルジイミダゾールを
用いてのイミダゾライドへの転化; (v)例えばチオニルクロライドを用いての酸クロライ
ドへの転化;または (vl)  例えば、カルボジイミド、例えば前述の如
きカルボジイミドを用いてのO−アシル尿素への転化。
所望によりその0−アシル尿素を活性エステル、例えば
1−ヒドロキシベンゾトリアゾールとのまたはN−ヒド
ロキシスクシンイミドとのエステルに転化する。
(前記定義どおりの基−COXR4以外の)弐■の化合
物の他の部分に影響しない反応条件下で式−CON)H
(”の基に転化されうる活性化された酸基R5の例は、
例えば式−000R5〔式中R5は次の基、すなわち (式中R6は一4個以下の炭素原子を有するアルキル基
、特にt−ブチル基を表わしiR7は4個以下の炭素原
子を有するアルキル基、特にイソ−ブチル基を表わし+
 R8およびR9は同一かまたは異なり各々4個以下の
炭素原子を有するアルキル基捷たはフェニル基を表わす
)のうちの1つを表わす〕で表わされる基である。
前述の方法は当該技術分野において利用可能な方法の例
示であり、全てを列挙したものではない。それ以上の情
報については−例えばM。
Bodanezky、 Y、El、 Klausner
およびM、 A、 0ndettl 。
rPeptlde  5ynt、heslsJ、  J
、  Wlley  ana  5ons。
New York、 1976.およびN、F、 No
rton 、 OrganicReactions、 
Vot、 12.’ 157 (1962)を径間。
カルボン酸基をアミドへ転化する一部の方法は極めて穏
やかであり、それ故にカルボン酸基含有ベネムな分子の
他の部分には全くダメージを与えることなくアミド基含
有ベネムに転化するの罠よく適している。すなわち1例
えば式Vのカルボン酸の不活性溶媒(例えばジクロロメ
タン、アセトニトリ1)またはテトラヒドロフランなど
)中の溶液を一40〜+40℃、好ましくは0〜20C
の範囲の温度でカルボジイミド、例えばジシクロへキシ
ルカルボジイミドおよび1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールで処理して(ンゾトリアゾールー1−イルエステル
を形成してもよい。
式■の遊離酸から形成された式■の活性化されたRネム
を式■のアミノ化合物と反応系内で反応させて式lの化
合物またはそのエステルを形成してもよく、あるいは式
Hの活性化されたぼネム!アミン化合物と反応させる前
にまず単離および精製してもよい。いずれの場合も活性
化されたはネムのアミノ化合物■との反応は一40〜+
40℃、好ましくは0〜20℃の範囲の温度で行うのが
好ましい。溶媒については溶媒がそれ自体反応剤または
中間体のいずれとも反応しなければその選択の幅は広い
。このため、実質的に水分不含の溶媒または混合溶媒を
用いるのがしばしば好ましい。
前述のとおり、化合物■または化合物■がら製造された
式Iの化合物は所望により式1aのエステルに転化して
もよく、また化合物■または■から製造された式1aの
エステルは相補する式lの遊離酸に転化してもよい。前
述の如く、その他の酸/エステル/塩の相互転化も捷た
行うことがモきる。
前述の如く、式1の化合物は2位のカルボキシ基におい
てエステルの形、fなゎち式1aの化合物であってもよ
い。このようなエステルは特に、加水分解、光分解−還
元またはエステラーゼ酵素作用により遊離酸に転化され
うるものである。このようなエステル例は合計炭素原子
数が20個以下の未置換または置換脂肪族アルコールま
たはフェノール類を用いて形成されたものである。式−
〇〇〇Hのエステル化されたカルボキン基において、基
Rは1例えば18個以下の炭素原子、好ましくは8個以
下の炭素原子および特に4個以下の炭素原子を有する直
鎖または分枝鎖状置換または未置換アルキル、アルケニ
ルiたはアルキニル基、例えば、メチル、エチル、n−
プロピル、イソ−プロービル、n−ブチル、θec−ブ
チル、イソ−ブチル、 tert−ブチル、n−はンチ
ル、n−ヘキシル、アリルマタはビニル基などであって
もよい。脂肪族基、特にメチルまたはエチル基は、例え
ばアシルオキシ基(かかる基のそれ以上の詳細は後述す
る)により〜アミノアルカノイルオキシ基により、所望
により置換された2−アミン基により、あるいは1また
は2以上の非置換または置換フェニル基により置換され
ていてもよい。フエ= /L/基は一フェノール性基と
しであるいは脂肪族基の置換分としてのいずれであろう
と、例えば、特に二1・口糸およびハロゲン原子から選
択された1または2以上の置換分により置換されていて
もよい。フェニル置換脂肪族基の例はベンジル、p−ニ
トロベンジル、ベンズヒドリルおよびトリチル基である
前述の如く、エステル基は特に、加水分解。
光分解、還元または酵素作用により除去されうるもので
ある。あるいはこれらの方法の2以上を用いても工く、
例えは還元後に加水分解を行ってもよい。分子の残りの
部分に実質的分解を伴うことなく容易に除去できる基R
がカルボキシ保護基として特に有用である。還元により
容易に分解されうるエステル例は未置換オたは置換のい
ずれでもよいフェニルN換メチルエステルー例fば−<
ンジル、p−ニトロベンシル、ベンズヒドリルおよびト
リチルエステルである。
エステル、例エバフェニル置換メチルエステル、例えば
p−ニトロベンジルエステルの還元は水素および金属触
媒、例えば貴金属触媒、例えば白金、パラジウムまたは
ロジウムなど(その触媒は例えば炭素または珪藻土に担
持されていてもよい)を用いて行ってもよい。
ア7.イハiた、p−ニトロベンジルエステルは、まず
ニトロ基を還元した後加水分解を行う2工程法により相
当する遊離酸に転化してもよい。そのニトロ基は例えば
白金、捷たは炭素担持パラジウムを用いた貴金属により
触媒される水素添加により、あるいは金属還元剤1例え
ば酢酸中の亜鉛により還元されうる。その他の金Ju1
元剤は例えばアルミニウムアマルガム、および鉄および
アンモニウムクロンイドなどである(例えば英国特許第
1,582.960号明細書参批)。
ニトロ基の還元に続く加水分解はニトロ基の還元中に反
応系内で行われてもよく、あるいはその後に酸または塩
基で処理することにより行われてもよい。
0−ニトロベンジルエステルは光分解により相当する遊
離酸に転化してもよい。
ある種のエステル基1例えばアセチルメチルおよびアセ
トキシメナルエステル基などは塩基加水分解により分解
してもよい。
生理学的条例下に除去しうるエステル化基(すなわち生
体内で分解して遊離酸またはカルボキンレートを与える
エステル化基)を用いてもよく1例えば、アシルオキシ
メチルまたはアシルオキシエチルエステル、例えば、ア
セトキシメチル、1/−(アセトキシ)エチルまたはピ
バロイルオキシメチルエステル、5−メチルジオキナレ
ン−2−オン−4−イル−メチルエステル。
アミノアルカノイルオキシメチルエステル、例えば、ダ
リシルオキシメチル、L−バリルオキンメチルまたはL
−ロインルオキシメチルエステル、またはフタリジルエ
ステル、または1′−(アルフキジカルボニルオキシ)
エチルエステ/L/、例エバ1’−Cメトキシカルボニ
ルオキシ)エチルまたハ1’−(エトキシカルボニルオ
キシ)エチルエステル、または所望により置換された2
−アミノエチルエステル、例えば2−ジエチルアミンエ
チルまたは2−(1−モルホリノ)−エチルエステル(
アシルおよびアルカノイル基は1〜12個の炭素原子を
有する)を用いてもよい。
好ましいエステルはp−ニトロベンジル、フタリジル、
ピバロイルオキシメチル、エトキシカルボニルオキシメ
チル、5−メチルジオキナレン−2−オン−4−イル−
メチル、アセチルメチル、アセトキシメチル、アセトキ
シエチル、アセチルエチルおよびエトキシ力ルポニルオ
キシエチルエステルテアル。
式Iの化合物の、あるいは本明細書に記載のすべての他
の遊離酸のエステルは、適宜の遊離酸をアルコール、フ
ェノール化合物またはその反応性誘導体と反応させるこ
とにより製造されうる。環系の分解を防ぐために反応を
穏やか方条件下、例えば中性かまたは穏やかな酸件また
は塩基性条件下に1だ一70〜+35℃の範囲の温度で
行うのが好ましい。
アルコールから誘導されるエステルは、アルコールの反
応性誘導体へ例えばノ1ライド、例えばクロライド、ブ
ロマイドまたはアイオダイド。
または炭化水素スルホニル誘導体、例えばメシルまたは
トシルエステルを式Iの酸のまたは本明細書に記載の別
の遊離酸の塩、例えばアルカリ寸たはアルカリ土類金属
塩、例えばリチウム。
ナトリウム、カリウム、カルシウムまたはバリウム塩、
ま′たはアミン塩、例えばトリエチルアンモニウム塩な
ど反応させることによっても製造されうる。この反応は
好ましくは、置換スルホキシドまたはアミド溶媒中、例
えばジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、捷
たはへキサメチルホスホルアミド中で行われるが、ある
いはまた、縮合剤、例えばシンクロヘキシルカルボジイ
ミドなどの存在下に酸とアルコールまたはフェノールを
反応させることによりエステルを製造してもよい。
本発明はまた塩形成基を有する式Iの化合物の塩−特に
弐!の遊離酸の塩および塩基性基を有する式1の化合物
の酸付加塩をも提供する。
それら塩類は特に生理学的に許容しうる塩、例えば、ア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例えばナトリウ
ム、カリウム、リチウム、カルシウムおよびマグネシウ
ム塩−アンモニウム塩、および有機アミンと塩類、およ
び生理学的に許容しうる酸付加塩である。これらは、適
当な無機または有機酸、例えば塩酸、硫酸、または有機
カルボン酸捷たは有機スルホン酸5例えばp−トルエン
−スルホン酸などを用いて形成されうる。
式Iの遊離酸の塩はその遊離酸を溶媒中で適宜の塩基と
、好ましくは塩が沈殿するような条件の下に反応させる
ことにより製造してもよい。
好ましい塩基は2−エチルヘキサン酸カリウムである。
適当な反応条件下にエステル基を分裂することによりそ
のエステルから直接に塩を製造してもよい。例えば、エ
ステル、例えばp−ニトロベンジルエステルを例えば水
と酢醗エチル、ジオキサンまたはテトラヒドロフランよ
りなる水性/有機溶媒中1例えば当量または小過剰の金
属塩、特に重炭酸金属塩、の存在下に接触還元すれば面
接場が得られる。
、前述のとおり、式■の化合物は8−ヒドロキシ基にお
いてエステルを形成してもよい。このようなエステル基
は特に、生体内で除去されえて遊離ヒドロキシ基を与え
るもの、すなわち、生理学的条件下に除去されうるエス
テル基でおる。適当なエステル化基は式R”ゆ−CO(
式中R′′8は水素原子、または1〜4個の炭素原子を
有する直鎖状または分枝鎖状アルキル基、特にメチル、
エチルまたはt−ブチル基乞表わすかまたは、フェニル
基または、アルキル部分が直鎖状または分枝状で4個以
下の炭素原子を有するフェノキシアルキル基を表わしへ
そして特にメチル基である)で表わされるものである。
8位のエステル基は存在する唯一のエステル基であって
も裏〈、おるいはまたそれは、2−カルボキシル基にお
けるエステル基に加えて存在してもよい。2−カルボキ
シ基のアルコ−A/によるエステル化に関連して前述し
た方法により有機酸またはその誘導体を用いてエステル
基を8−ヒドロキン基を導入してもよい。特に便宜のよ
い方法は1式Iの化合物または式1aのそのエステルを
活性化された酸誘導体、例えば酸無水物と反応させるこ
とである。この場合に、この反応を触媒、例えば4−ジ
メチルアミノピリジンの存在下に行うのが有オUである
式■の化合物は次の反応スキーム1.に示されるように
して製造されうる。
反応スキーム■ CI:ICkl 反応スキーム■において、X、 R−R4およびR4は
前記定義どおりであり、′iたR4についての好ましい
意味は前掲どおりであり、R15は水素原子せたはヒド
ロキシ保護基を表わし、そしてB14およびB15は各
々独立的にフェニル基または4個以下の炭素原子を有す
るアルキル基を表わす。
化合物■は塩基の存在下に、式X (式中XおよびR4は前記定義どおりである)で表わさ
れる化合物と反応させた後、前記定義どおりの基B15
を含む活性化されたカルボン酸誘導体、例えば式X +I          (XI) R15−cB16 (式中R15は前記定義どおりであり−またR16は塩
素または臭素原子を表わす) で表わされる了りルパライドと反応させる。
多くのフェニルクロロチオノホルメート類が知られてい
るがある種の式Xの化合物はこれまで記載されていない
がそれらは既知化合物の製造について記載された方法と
同様の方法により製造されうる。例えばRivier 
& 5chalcb、He1v。
Chem、 Acta、、 Vo16r 1923+ 
605頁およびRe1ch & Martln−Che
m、 Berlchte、Vol 98.1965.2
063頁参朋8 化間物Xと化合物■の反応は塩基、好ましくはpKa>
20を有する塩基、好甘しくは金属化アミンの存在下に
行われる。好ましい塩基の例はリチウムジイソプロピル
アミド、リチウムへキサメチルジシラジド、リチウム2
.2.6.6−チトラメチルピベリダイド、リチウムシ
クロヘキシルイソゾロビルアミド、およびンーダアミド
である。
反応は、一般に、非プロトン溶媒、例えば酸素含有炭化
水素、好ましくはエーテル、例えばジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、グライムまたはジグ
ライム中で行われる。反応温度は例えば−120〜+6
0℃、好ましくは−78〜−20℃である。
塩基の使用量は例えば化合物■1モルおたりの計算で1
例えば1〜3モル、好ましくは1,5〜2.5モルの塩
基である。式Xの化合物は好ましくは化合物■1モルあ
たり1〜1.5モル、好ましくは化合物■1モルあたり
1〜1.1モルの化合物Xという量で用いられる。
反応は次のようにして行われうる。すなわち、塩基は化
合物■およびXの攪拌溶液に添加してもよい。あるいは
また、化合物■の攪拌溶液に不活性雰囲気下に塩基を添
加し、そして次に同じかまたは異なる溶媒中の化合物X
の溶液を添加する。
(好ましくは式Xの)活性化された酸誘導体は、化合物
■およびXの反応により得られる混合物に対し、特に1
〜2モルの童(化合物■に対して計算)で添加されるの
が好ましい。反応は、−40〜+40℃の温度で行うの
が好ましく、式Xの化合物を化合物■とXの反応が起き
る温度で反応混合物に添加し次いで加温するかまたはこ
の温度で後処理する。
得られる式■の化合物中の−EICOR15は−COO
R基に対しEまたは2のいずれであってもよい。
(Eおよび2の用語は、AllAl11n et al
rorganic ChemistryJ 1971−
 Worth、 New Yorkの142頁に定義さ
れているとおりである。)それら異性体は次の反応のた
めに分離してもよいがこれは一般的に必要ではなく、ま
たいずれの異性体も式■の化合物を与えるので異性体混
合物が一般に用いられる。
化合物■中のR15はそのヒドロキシ基が式Xの化合物
と反応しないようにするためのヒドロキシ保護基を表わ
すのが好ましい。その保護基は次いで最終生成物におい
て所望の5n立体化学を得るために、化合物■から除去
される。保護基は任意の常法により除去してもよく、そ
れによって化合物■が得られる。好ましいヒドロキシ保
護基B15は式■の化合物の合成と両立でき、しかも生
成化合物■が安定な条件下に除去されうるちのである。
化合物■はプロトン源、例えば塩化水素、水性塩酸、ま
たは水性弗化水素酸などの存在下に実質的に安定である
ことがわかった。それゆえ、好ましいヒドロキシ保護基
R15の1つのタイプは酸性条件下に除去されうるちの
である。かかる基は桶該技術分野において周知であり、
例えばテトラヒドロピラニルおよびナト2ヒドロフラニ
ル基i例えば式(式中B17お工びH48は同一かまた
は異なってもよく各々水素原子または低級アルキル基、
好ましくはメチル基を表わし、あるいはH17とR18
とはそれらが結合している炭素原子と共に4〜7個の炭
素原子を有するシクロアルキル環を表わし、そしてH4
9は低級アルキル基、好ましくはメチルまたはエチル基
を表わし、らるいはH17とHj9とはそれら゛がそれ
ぞれ結合している炭素原子および酸素原子と共にテトラ
ヒドロピラニル環を表わす) で表りされるアセタールおよびケタール基;更にシリル
エーテル、例えば珪素原子に5つの置換分を有しそして
好ましくは全部で24個以下の炭素原子を有するもの(
それら3つの置換分は同一かまたは異なりそしてアルキ
ル、アルケニルおよびシクロアルキル基、および未置換
かまたは前記定義どおりに置換されていてもよいフェニ
ルおよびフェナルキル基から選択される)。
例えば−8iR8R9R10基(式中R8、R9および
Hloは前記定義どおりである。すなわちそれらは同一
かまたは異なってもよくそして各々低級アルキル基また
はフェニル基を表わし7、例えはトリメチルシリル、ト
リエチルシリル、ジフェニル−t、−ブチルシリル、ジ
メチル−t−ブチルシリル、およびメチルジフェニルシ
リル基を与える。);およびスタニル基、例えば24個
以下の炭素原子および6つの置換分(それらは同一かま
たは異々す、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アルコキシおよびフェノキシ基、および未置換かまたは
置換−されていてもよいフェニルおよびフェナルキル基
から選択される)を有するもの−例えば式B、H20H
2+R22(式中R20゜R21およびR22は同一か
または異なり各々低級アルキル基を表わす)で表わされ
る基、例えばトリーp−ブチルスタニル基などである。
(本明細書で用いる用語「低級」とは4個以下の炭素原
子を有する基乞示す。) 好ましいR15基はテトラヒドロビラニル、2−メトキ
シプロプ−2−イル、トリメチルシリルおよび特にトリ
エチルシIJ /しおよびt−ブチルジメチルシリル基
である。
かかる基は例えば0.1〜2M、好筐しくは0.5M塩
酸1例えば0.6 M HClを例えばテトラヒドロフ
ラン中で用いる(ベルギー特許第881012号明細書
参畷)かi n−Bu4NFを酸性媒質1例えば酢酸中
で用いる(ベルギー特許第882764号明細書参畷)
か;または水性弗化水素を例えばアセトニトリルの存在
下に用いた(J、 Chem。
Soo、 Perkin 1.1981.2055参服
)酸加水分解により除去されうる。
遊離ヒドロキシ基を有する生成化合物■は次いで炭素−
硫黄結合を分裂できかつ塩素原子を導入しうる剤を用い
て塩素化される。このような剤は肖該技術分野において
周知であり、そして例えば分子状塩素、スルフリルクロ
ライド、t−ブチルハイポクロライドおよび塩化シアン
を含む。
反応は一般に一60〜+20℃の範囲の温度で行われる
。反応は一般に非プロトン性でありまた反応条件下に不
活性な溶媒または希釈剤−例えばエーテル、炭化水素、
ハロゲン化炭化水素。
例エバジオキサン、ベンゼン、クロロホ/l/ A i
たはメチレンクロライド中で行われる。2種以上の溶媒
の混合物を用いてもよい。ハロゲ/化糸の例は、クロロ
ホルム中の塩素、ベンゼン中の塩素およびベンセン中の
t−ブチルハイポクロライドである。後二者の場合には
、温度は好捷しくは5〜20℃、そして通常は5〜10
℃である。一般に化合物11モルあたり1〜2モルの塩
素が用いられる[8. Kukolja−J、Ame、
r、Chem。
Boa、 (1971)−93,6267およびP、C
,Cherry。
C,’B:、、 NewallおよびN、S、 Wat
eon、+ J、C,B= Chem、Comm、 1
979.633負参照〕。
式■の生成化合物は塩基の存在下に弐■の化合物に転化
されうる。この反応に用いられる塩基は一〇〇XR4基
に影響を与えるべきではない。その塩基は無機筐たは有
機のいずれでもよく、そして例えば、アンモニア、アル
カリ金属(特にナトリウムまたはカリウム)の炭酸塩、
重炭酸塩。
または水酸化物;第1級アミン、例えばメチルアミン、
エチルアミン、アニリンまたはペンジルアミンエアルカ
リ金属アルコキシド、例えばナトリウムメトキシド;ま
たは例えば5〜9の範囲のpKaを有する複素環式塩基
、例えばイミダゾール、ピリジンまたは置換ピリジン、
例えばアA・キル、アミノまたはアルキルアミノ置換ピ
リジン、例えば4−メチルビリジンまたは4−ジメチル
アミノピリジンなどから選択してもよい。イミダゾール
は特に好ましい。
反応は一般に溶媒または希釈剤中で行れる。
溶媒捷たは希釈剤は反応条件下に不活性であれば、その
選択の幅は広い。溶媒および希釈剤の例は識素含有炭化
水素類、例えばアルコール類。
例えば4個以1の炭素原子を有するアルフール−例えば
エタノール、エーテル類、例えは4個以下の炭素原子を
有するエーテル、例えばジエチルエーテル、およびテト
ラヒドロフランおよびジオキサン:ケトン類1例えは4
個以下の炭素原子を有するケトン、例えばアセトンおよ
びメチルエチルケトン;エステル類、例えば酢酸メチル
および酢酸エチル;およびアミド類1例えばジメチルホ
ルムアミドおよびジメチルアセトアミド;お工び塩素化
炭化水素類、例えばクロロホルム、メチレンクロライド
および四塩化炭素;芳香族炭化水素類1例えばベンセン
およびトルエン:およびその他の溶媒、アセトニトリル
およびニトロメタンなどである。2種以上の溶媒の混合
物を用いてもよく−また溶媒を水と混合して用いるのが
好ましく、水混和性溶媒を5〜20%(V/V)の水と
混合して用いるのが好ましい。
反応は一般に0〜40℃、好ましくはθ〜20Cの範囲
の温度で行われる。
式■の化合物は前述の如く式IまたはIaの化合物に転
化されうる。
前述の如く、化合物■と反応する墳墓が式■RINH2
1ll (式中R1は前記定義どおりである) で表わされるアミンである場合には、化合物■を直接化
合物lまたはIaに直接転化することができる。化合物
IまたはIaへの直接転化のためには、化合物■中のR
4はXが硫黄原子を表わすどきは4−クロロフェニルま
たは2,4.5−トリクロロフェニル基を表わすのが好
ましく、あるいは、Xが酸素−1たは個t*原子を表わ
すときは特にペンタフルオロフェニル基を表わす。特に
好まし、いのは式■においてXが酸素原子を表わしそし
てR4がペンタフルオロフェニル基を表ワす化合物であ
る。
化合物■は化合物■の反応系内形成を介して化合物1ま
たは1aに転化してもよく、あるいは化合物■中のXR
4基を環化の前にアミンで置換しておいてもよい。いず
れの経路も本発明の一部である。
式Iの化合物または式1aのエステルは次の反応スキー
ムHに示される如くに、製造されうる。
(+)              (Ia)(式中R
−R1,R5、R15、B10およびB’15は前記定
義どおりであり、またB25はカルボキシ保護基を表わ
す) 式■の化合物は塩基の存在下に成用 (式中R25は前記定義どおりである)で表わされる化
合物と反応させ次いで基H15を含む活性化されたカル
ボン酸誘導体1例えば前記定義どおりの式Xの酸ハライ
ドと反応させて成層の化合物と゛することにより式店の
化合物に転化されうる。これらの反応は、反応スキーム
■において相当する化合物■およびXを反応させた後化
合物Xと反応させて相当する式■の化合物とすることに
ついての記載と同様にして行われる。
化合物刈において、R25はカルボキシ保護基を表わし
、またヒドロキシ保護H15と同じ条件下にすなわち好
ま−しくは酸性条件下に、除去されうるカルボキシ保護
基を用いるのが好ましい。
このようなヒドロキシ保護基の例は前述において化合物
■に関連して示しである。好ましくはR25はシリル基
、例えばR13について前述したものであり、そして特
にジフェニル−t−ブチルシリル基である。このように
化合物店は、2つの保護基H45お工びR25を同時除
去することにより一工程で化合物X■に転化されうる。
化合物■の塩素化は反応スキーム■における化合物■の
塩素化についての記載と同様にして行ってもよく、捷た
式Wの生成化合物は、反応スキーム■において化合物■
を閉環して化合物■とすることについての記載と同様に
して、塩基の存在下に式■の化合物に転化されうる。
式■の化合物は前述の如く、弐■の化合物に。
そして次に式Iまたはlaの化合物に転化されうる。
前記反応スキームのいずれにおいても、場合によっては
式1aの目的化合物が形成された後までカルボキシ保護
基Rを維持しておく万が好ましいことがらる。そのカル
ボキシ保護基Rは前記定義どおりでおり、また好ましく
はp−ニトロベンジル基を表わす。他のケースでは5例
えば弐■の化合物を用いるときは、Rが水素原子を表わ
すのが望ましいことがある。カルボキシ保護基Rは反応
シーケンスの任意の適宜の時点で2−カルボキシ基から
除去してもよい。
所望により、エステル基−COORは反応スキームの任
意の段階で(そして特に式1aのエステルが形成された
後に)エステルの相互交換によりエステル交換して、式
1aの別のエステル、例えば生理学的条件下に式Iの遊
離酸またはカルボキシレートに転化されうるエステルと
することができる。あるいは捷た、式1aの生成エステ
ルを遊離酸または塩に転化でき;遊離酸はエステル化ま
たは塩に転化することができ;あるいは塩を遊離酸、エ
ステルまたは異なる塩に転化できる。各々の場合に、塙
は特に−生理学的に許容しつる墳であり、そしてエステ
ルは特に生理学的条件下に除去されうるちのである。こ
のような手順の例は既に述べたところである。
いずれの反応シーケンスにおいても各工程において、目
的化合物を反応混合物から単離してもよく、また所望に
より1機化合物の精製に用イラれる適宜の技術1例えば
クロマトグラフィおよび晶析などにより精製してもよい
前述の如く様々な中間体が各種異性体の混合物として生
成される可能性がある。このような混合物は−かなる段
階にても分離ないし分割してもよく、あるいはまた異性
体混合物をそれ自体以後の反応に用いてもよい。
式■またはxn+の化合物の4R−異性体の塩素化は主
としてそれぞれ化合物■またはXI’104B−異性体
を与える。化合物■または藉の4S : 4R−異性体
の割合は使用塩素化剤および反応条件に依存するが一般
的には3:1から高くは18:1の割合まで様々でおる
。その4R−および4s−異性体は例えばクロマトグラ
フィにより容易に分離できる。式IXfたは呪の化合物
もまた二重結合のところにm/Z異性を有し、そして場
合によっては式■または店の塩素化化合物が実質的に純
粋なEまたは2異性体の形で得られる。他の場合にあっ
てはVZ異性体混合物が得られ、そして4R−および4
s−異性体を所望により更に個々のEお工びZ異性体に
分離してもよい。一般的にはに:I=−よび2異性体を
分離する心壁はないが、4日−異性体は端糸との反応に
より弐■またはVの、そし7てその後に式Iまたはla
の望ましい方の5R−異性体に転化されるので、弐M−
tたはVの化合物への転化前に4R−および4s−異性
体を分離しておくのが好ましい。
前述の如く9式Iの化合物は5.6および8位において
独立的KRまたはS立体化学を有しうる。所望により、
2種以上の異性体の任意の混合物を分割してもよく−あ
るいは式■の化合物を異性体混合物として用いることも
できる。
化合物Iの5位の好ましい立体化学は一般にRであり、
これは天然ペニシリンおLびセファロスポリンに相当す
る。6位におけるそれはSでありそして8位におけるそ
れはRである。
式■の化合物、その2−カルボン酸基におけるエステル
およびその境はβ−ラクタマーゼ阻害剤であり、そして
それら化合物は一般にグラム111[物−flばスタフ
ィロコッカス・オーレウス(Staphylococc
us aureus)およびダラム陰性生物、例えばエ
ンテロバクタ−・クロアカニ(Knterobacte
r cloacae)により産生されるβ−2クタマー
ゼの作用に対し一般的に安定でろる。それらはまたそれ
ら自体で抗細菌性を有し、そして、例えばグラム陽“性
およびダラム陰性細菌、例えばスタフィロコッカス・オ
ーレウス、ストレプトコツカヌ・ノぞイオゲネス(St
reptococcus−pyogenes)、バチル
ス゛ズブチリス(Bacillus 5ubt11ie
)、エシェリヒア・コリ(Escheri chi a
’ coli )、シュードモナス・エルギノーザ(P
seuaomonas aeruglnosa)および
ゾロテラス・モルガ= (Proteus Morga
n41 )など(それらの一部の菌株はペニシリン耐性
である)が原因する細菌感染症の治療のために人間およ
びその他の動物に用いることができる。
8位にエステル化されたヒドロキシ基を有する式1の化
合物(およびその2−カルボン酸基におけるエステル)
もまた、特に8−エステル基は生体内でニステラー七に
より分解されうろことから抗細菌性および/またはβ−
ラクタマーゼ阻害性を有することを見出した。更に8−
ヒドロキシ基のエステル化は経口投与時の吸収度を為め
うる。
本発明の式夏の化合物は我々の同時係属中の英国特許出
願第2102798号明細書の一般式Iの中に一般的に
含まれているが本発明の式■の化合物はそこには特定的
に開示されてもいなければ製造もぎれていない。唄にま
た、本発明の式■の化合物は我々の先の出願の相当する
未置換フェノキシ化合物に比べて抗微生物活性に関して
一定の利点を有し1例えば5R−3−(4−カルバモイ
ルフェノキシ)−68−(IR−ヒドロキジエチル)−
7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0
〕へブタ−2−エン−2−カルボキンレートは相当する
未置換3−フェノキシ化合物よりも様々な微生物1%に
β−ラクタマーゼ産生生物に対して大きな抗細菌油性を
有している。これは後掲の表に示されるとおりである。
表について説明すれば次のとおりである。
抗微生物活性は最小阻止濃度(thθMinimumI
nhibitory C0ncentrat4on、略
してMIC)の測定により測定した。化合物のMICは
襟準的試験である〜次のようなLorian (Ant
、1biotics 1nLaboratory  M
edlcine、   Wllllams  and 
 Wjlkins。
Balt1more/London、 1980参照)
による「寒天希釈試験」によって測定された。
15ゴの1iluel18]” Hllton、 Q天
(Difco)を含むぺ) IJ皿中で、各化合物の2
倍漸減濃度列を詞製した。Muθ11θr Hlnt、
on 寒天のみを含有するにトリ皿1個を細菌増地の対
照として用いた。各ベトリ皿に多点(multi−po
lnt)接種器(Denley)を用いて接秒し、適宜
の試験細菌の18時間培香9勿の1;100希釈り勿0
6μtを移した。37℃で16〜18時間インキュベー
ションした後、ペトリ皿をpJj列増殖について検をし
1ζ。増殖を元金に阻害する最低の化合物濃度をMIC
とした。
抗微生物活性の表 OOK ストレプトコッカス・パイオゲネス77p、    0
.05   0.05ストレプトコツカス・パイオゲネ
ス308A   O,050,025ストレプトコンカ
ス・フェシウム (Str、faeclum)D           
I2.5   6.25スタフイロコツカス・オーレウ
スSG、511   0.19   0.05最lJ朝
止濃度、μf/mA スタフイ0.3ソカス・オーレウス 285    0
.39   0.1スタフイロコツカス・オーレウス 
503    0.39   0.1バチルス・ズブチ
リス ATCC66330,10,05エシエリヒア・
コリイ 055       ろ、125  0.19
エシエリヒア・コリイ DC21,560,78エシエ
リヒア・コリイ Twla       12.5  
0.39エシエリヒア・コリイ 1507 K    
1,56  0.39クレブシエラ・アエロゲネス (K1.  a、erog、)  1082 E   
   1,56  0.39クレブシエラ・アエロゲネ
ス1522 K     12.5   0.78エン
テロバクタ−・クロアカニ1321K    12.5
   0.78ザルモネラ・チフイムリウム (jEalm、 typhjmurlum) MZ I
I      6,25  0.78エシエリヒア・コ
リイ KN126    25   0.69本発明は
、従って活性成分としての式Iの化合物、その生理学的
に許容しうる塩捷たはエステル、または2種以上のかか
る物質の混合物を薬学的に追補な担体と混合しまたは組
合せてなる薬学的製剤を提供する。この製剤は1種また
は2種以上の他の薬学的に活性な物質、例えば別の抗細
菌性物質1%にβ−2クタム虫を有するものを含んでい
てもよい。これら製剤は経腸または非経腸投与、例えば
経口、静脈内または筋肉内投与に適した形、例えば錠剤
、カプセル剤、シロツプ剤、−!たは滅菌注射もしくは
注入溶液の形であってもよい。それら製剤は単位投薬量
の形としておくのが有利であり、そして単位投薬量あた
り10〜2oooiyの活性成分を含有する。活性成分
の1日あたりの投薬量は、分割投薬量、一般に4回以下
の投薬蓋として一般的に20〜8000真gである。
本発明はまた細菌感染症治療用医薬の、製造のための式
lの化合物またはその生理学的に許容しうるエステルま
たは塩の用途をも提供する。
本発明は更に、@乳動物に式■の化合物またはその生理
学的に許容しうるエステルもしくは塩を投与することよ
りなる、細菌感染防除のための師乳動物、特に人間の治
療方法をも提供する。
本発明は更に、単位投薬剤形の前記定義どおりの活性成
分エリなる薬学的製剤を提供する。
本発明はまた。単位投薬剤形の、前記定義どおりの活性
成分、またはその生理学的に許容しうる堪または2種以
上のかかる物質の混合物と1種または2種以上の別の薬
学的に活性な物質とよりなる薬学的製剤をも提供する。
単位投薬量は好ましくは前記のとおりである。
式1の化合物の中でも、6−(4−カルバモイルフェノ
キv)−6−(1−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−
4−チア−1−アザビシクロ[5,2,0’:lヘプタ
−2−エン−2−カルボン酸および5−(3−カルバモ
イルフェノキシ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0〕
へブタ−2−エン−2−カルボン酸が好ましく、これら
の化合物の各々の特に5R,68、8R−異性体および
そのエステルおよび塩である。
本発明はまた一般式刈、X■、XIV、■およびHの化
合物をも提供する。
本発明のすべての化合物は各種の異性体として存在しつ
る。本発明はすべての異性体を単離された異性体の形、
あるいは任意の2種以上の異性体の混合物の形のいずれ
かのすべての異性体を含むが、式Iお↓びそのエステル
および塩においてC0NHR1基はフェニル墳の6−ま
たは4−位に存在しなければならない。
次の実施例は本発明を例示するものであるが制限するも
のではない。当業者は1本発明の他の化合物も同様に製
造されうるものであることを理解するであろう。
実施例 1 ジフェニル−(2−メチル、” D ソー 2− イル
)シリル4−ヒドロキシベンゾエート 2Ofの4−ヒドロキシ安、り査酵お工び1゜Vのイミ
ダゾールの乾燥ジメチルホルムアミド ′100−中の
OCの溶液に402のt−ブチルクロロジフェニルシラ
ンを添加した。その混合物をOCで30分間攪拌した後
20Cで18時間1費拌に次いでジエチルエーテルと水
との間に分配した。有機層を水洗し、10%水注炭酸水
素力IJウムで洗い、水洗しそしてブラインで洗った後
に硫酸マグネシウムで乾燥しに0溶媒を真空蒸発して4
152の標題化合物を結晶性白色粉末として得た。
1HNMR(CDCt3) δ 1.18 (9H,s
)、6.16 (IH,幅広8)−6,68および7.
95 (4H,AA’BB’ Ja8Hz)、  7.
35〜7.50(6H,m)、 770〜7.90  
(4J(、m)。
実施例 2 ジフェニル−(2−メチルゾロブー2−イル)シリル4
−クロロチオホルミルオキシベンゾエート 40、7 mlのチオホスゲンの乾燥ジエチルエーテル
中の一78℃の溶液に202のジフェニル−(2−メチ
ルプロシー2−イル)シリル4−ヒドロキシベンゾエー
トおよび85−のトリエチルアミンの溶液に滴加した。
−78℃で更に30分間、そして室温で90分間攪拌後
、その混合物をジエチルエーテルと水の間に分配した。
有機層を水およびブラインで抗い、塩化カルシウムで乾
燥し次いで真空乾燥して25.9 tの橙色前を得た。
シリカゲルでのクロマドグ2フイにかけヘキサン−酢酸
エチル混合物で浴出して16.8fの標題化合物を得た
IHNMR(CDCl2)δ1.19 (9H,s)、
−’ 7.26および8.24(4H,AA’BB’ 
δ8.8H2)、7.4〜7.6 (6H,m)、7.
7−7.9(4H,m)。
実施例 3 4−ニトロベンジ/I/2−(3B−(1R−[ジメチ
ル(2−メチルプロプ−イル)シリルオキシエチル層−
4R−エチルチオ−アセチジン−2−オン−1−イル)
−3−(4−ジフェニル−〔2−メチルプロシー2−イ
ル〕シリルオキシカルボニルフェノキシ) −5−)リ
メチルアセチルチオプロベノエート 251の4−ニトロベンジル2−(38−[IR−ジメ
チル(2−メチルプロシー2−イル)シリルオキシエチ
ル)−4R−エチルチオアセチジン−2−オン−1−イ
ル)アセテートの一40℃の攪拌溶液に652のジフェ
ニル−(メチルプロプ−2−イル)シリル4−クロロチ
オホルミルオキシベンゾエートの乾燥テトラヒドロフラ
ン200 ml中の溶液を添加し次いで155ミリモル
のn−ブチルリチウムおよび155ミリモルのへキサメ
チルジシラザンの乾燥テトラヒドロンラン200−中の
一78Cに予冷された混合物を添加した。5分後16.
8−のトリメチルアセチルブロマイドな添加しそしてそ
の混合物をさらに一40℃で60分間攪拌し、次いで5
00m1のジエチルエーテルおよび500tntの0.
1 M塩酸の混合物に直接注いだ。水相をジエチルエー
テルで抽出しそして合一した有機抽出液をブラインで洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥しそして真空蒸発して
50りの橙色前を得た。生成物はそれ以上精製すること
なく用いた。
実施例 4 4−ニトロベンジル3−(4−カルボキシフェノキシ)
−2−(4R−エチルチオ−3日−[IR−とドロキシ
エチル]アゼチジンー2−オン−1−イル)−3−トリ
メチルアセチルチオプロペノエート 50fの4−ニトロベンジル2−(3S−[IR−〔ジ
メチル(2−メチルプロプ−2−イル)シリル〕オキシ
エチル]−4R−エチルチオ−アゼチジン−2−オン−
1−イル)−3−(4−(ジフェニル〔2−メチルプロ
プ−21ル〕シリルオキシカルボニル)フェノキ+!/
)−3−トリメチルアセチルチオプロペノエート、50
0−のテトラヒドロフランおよび100−の5.5M塩
酸の混合物を室温で24時間攪拌し、次いでジエチルエ
ーテルと水の間に分配した。有機層を水洗し、ブライン
で洗い無水硫酸マグネシウムで乾燥しそして真空蒸発し
た。残留物をシリカゲルでのクロマトグラフィにかけヘ
キサン−酢酸エチル−蟻酸混合物で溶出して10.2 
Fの標題化合物を得た。
νmax(CDC43) 1765ts−’1HNMR
(CDC13)  δ1.05および1.13 (9H
,2s)、 1.20〜1.30   (6H,m)、
   2.6〜2B   (2H,m)、  6.27
   (1H,dd  δ25および4.5Hz)、 
4.2〜4A  (IH,m)、 530  (1u、
dJ2,5Hz)、 5.31  (2H,AB、、T
1ろ、5Hz)、 7.10および8.06(4H、A
A’BB’、 J9H2)、Z60および824 (4
H、AA’BB’J9H2)。
実施例 5 4−ニトロベンジル3−(4−カルボキシフェノキシ)
−2°−(4日−クロロ−38−[IR−ヒドロキシエ
チル〕アセチジン−2−オン−1−イル)−3−1−リ
メチルアセチルチオプロペノエート 10fの4−ニトロベンジル5−(4−カルボキシフェ
ノキシ)−2−(4R−エチルチオ−3B−[IR−ヒ
ドロキシエチル〕−アゼチジン−2−オン−1−イル)
−3−1−リメチルアセチルチオプロベノエートのクロ
ロホルム60ゴ中の−600の攪拌溶液に、192 ミ
リモルの塩素の四環化炭素178献中の溶液に添加した
。30分後反応混合物を室温まで昇温させ次いで溶媒を
真空除去した。ヘキサン−酢酸エチル−蟻酸混合物を用
いてシリカ・ゲルでのクロマトグラフィにかけて7.3
 fの標題化合物を淡黄色泡沫として得た。
νmax(CDCts) 1787,173’bym−
’IHNMR(CDC43)δ106および1.10 
(9H,2s)−1,39(3H,d δ6.2H2)
、3.53 (IH,dd、74.3および9.5H2
)、4.33 (IH,dq δ6.2および9.5H
z)、  530 (2H,s)、6.14 (IH,
d δ4.3H2)、7.10および8.09 (4H
,AA’EIB’J8.8Hz)、7.56および8.
25 (4H,AA’BB’、T8.7H2)。
実施例 6 4−ニトロベンジル5R,3−(4−カルボキシフェノ
キシ)−68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキ
ソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタ
−2−エン−2−カルボキシレート 5.31の4−ニトロベンジル3−(4−カルボキシフ
ェノキシ)−2−(48−クロロ−3S−[IR−ヒド
ロキシエチル〕−アゼチジン−2−オン−1−イル)−
3−)リメチルアセチルチオプロベノエートのジオキサ
ン90−および水10ゴの混合物中の5℃の攪拌溶液に
1.78tのイミダゾールを添加した。5℃で30分後
、その混合物を室温まで加温し次いで酢酸エチルと水の
間に分配した。その有機層を水、1Mクエン酸、水およ
びブラインで順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、そ
して溶媒を真空除去した。酢酸エチル−ヘキサン−蟻酸
混合物を用いたシリカゲルでのクロマトグラフィにより
3.2tの標題化合物を淡黄色固体として得た。酢酸エ
チルからの晶析により更に精製して1.82の白色固体
を得た。
νmaX(CDC4) 178B、1794(ab)c
+++−1iHNMR(CDC23)δ1.39 (3
H,d δ6.3H2)、3.83 (IH。
dclJl、4および6.7Hz)、4.30 (IH
,m)、  521および5.40 (2H,A、B 
δ13.7Hz)、5.71 (1H,d Jl、4H
2)、7.20および8.11 (4H,AA’BB’
 δ8.9Hz)、751および8.18 (4H,A
A、’BB’ Ja8Hzル実施例 7 4−ニトロベンジル5R,3−(4−ベンゾトリアソー
ル−1−イルオキシカルボニル−フェノキシ)−68−
(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4−チア−
1−アザビシクロ[3,2,0]へブタ−2−エン−2
−カルボキシレート12の4−ニトロベンジル5R,3
−(4−カルボキシフェノキシ)−/、5−(IR−ヒ
ドロキシエチル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビ
シクロ[3,2,0)へブタ−2−エン−2−カルボキ
シレートの乾燥アセトニトリル8−中の浴液に、420
mgの1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物のテト
ラヒドロフラン1−中の溶液を添加し、5分後に102
fの再蒸留されたジシクロへキシルカルボジイミドのア
セトニトリル2−中の溶液を添加した。その混合物を6
0分間攪拌し、次いで濾過した。P液を真空蒸発しそし
て残留物をシリカゲルでのクロマトグラフィにかけた。
ヘキサン−酢酸エチル混合物で溶出しそして真空蒸発し
て得られた固体を5Hの酢酸エチルに溶解しそしてその
溶液を0℃に冷却した。晶出した物質を戸数しそして少
量のヘキサン−酢酸エチル混合物で洗って650!Ig
の標題化合物を得た。母液を濃縮することにより更に3
001gの標題化合物が得られた。
in NMR(CDC23)δ1.41 (3H,d 
J6.3Hz)、3.88 (IH。
cud Jl、5および6.6Hz )、4.32 (
IH,m)−5,22および54ろ (2H,AB J
l3.7H2)、 5.77  (IH,d 、Tt5
Hz)、733および820 (4H,AA’BB’、
 J8.8Hz)、7.4〜7.7 (5H,m)、8
.11 (IH,d J8.4Hz)、8.32 (2
H,cl J’9.0Hz)。
実施例 8 4−ニトロベンジルSR,68−(I R−ヒドロキシ
エチル)−7−オキンー3−(4−プ゛ロビル力ルバモ
イルフエノキシ)−4−千7−1−了ザビシクロ−[3
,2,01へブタ−2−エン−2−カルボキシレート 方法 A 100Mgの4−二トロベンジル5R,3−(4−カル
ボキシフェノキシ)−68−(IR−ヒトルキシエチル
)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2
,0:)へブタ−2−エン−2−カルボキシレートの乾
燥ジクロロメタン5−中の一20℃m拌ioに27μL
のN−メチルモルホリンを添加し次いでろ2,8μtの
ピバロイルブロマイドを添加する。30分後先04μt
のn−プロピルアミンを添加しそしてその混合物を室?
hAまで加湿した。その混合物は次のようにして後処理
した。すなわち、その混合物を水とジクロロメタンの間
に分配した。その有機層を1Mクエン酸、水、飽和水性
炭酸水素ナトリウム、ブラインで洗い、そして無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。真空蒸発しそして残留物をシ
リカゲルでのクロマトグラフィにかけヘキサン−酢酸エ
チル混合物で溶出して20′#1gの標題化合物を得た
νmax(CH2Cl2) 1784m−11■→NM
R(DMso−δ6 ) δ0.89 (3H,t J
7.4Hz)、1.16(6H,d J6.2H2)、
152 (2H,m)、3.2(1(2H,m)−5,
91(IH,da Jl、2および58Hz)、4.0
1 (IH,m)、5.23 (IH,a J4.6H
2)、5.27および5.40 (2H,ABJ14.
3H2)、5.77 (IH,d Jl、2H2)、7
35および7.89(4H,AA’BB’ J8.7H
z)、7.57および8.17 (4H、AA’BB’
J8.7Hz)−8,49(1H,t J5.3Hz)
方法 B 100■の4−ニトロベンジル5R,3−(4−カルボ
キンフェノキシ)−6s−(1H−ヒドロキシエチル)
−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ(s、2.
O〕へブタ−2−エン−2−カルボキシレートの乾燥ジ
クロロメタン51n!、中の一20℃の攪拌懸濁液に2
2.6μtのN−メチルモルホリンを添加し、5分後に
69.2μtのジフェニルホスフィニルクロライドヲM
g 7JOL、 fr、、。−2DCで30分子flK
22.6μtのN−メチルモルホリンおよび16.9μ
tのn−プロピルアミンを添加しそしてその混合物を−
200で更に30分間攪拌し、次いで方法Aにおける記
載と同様にして後処理して2ONflの標題混合物を淡
黄色粘稠油として得た。
方法 C 100即の4−二トロベンジル5R,3−(4〜カルボ
キシフエノキシ)−68−(IB−ヒドロキシエチル)
−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,
0)へブタ−2−エン−2−カルボキシレートの乾燥ジ
クロロメタン5ml中の一2QCの攪拌懸濁液に27μ
tのN−メチルモルホリンを添加し、5分後に32,8
μtのトリメチルアセチルブロマイドを添加した。−2
0℃で30分子fl、27μtのN−メチルモルホリン
および20.2μtのn−プロピルアミンをざΣ加しそ
してその混合物を一20℃で更に50分攪拌し、次いで
方法人における記載と同様にして後処理して60WIg
の標題化合物を淡黄色粘稠油として得た。
実施例 9 カリウム5R,6B −(I R−ヒドロキシエチル)
−7−オキソ−3−(4−プロピルカルバモイルフェノ
キシ)−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0:]
へ]ブター2−エンー2−カルボキシレー ト6■の4−ニトロベンジル5R,6S −(I R−
ヒドロキシエチル)−7−オキソ−3−(4−プロピル
カルバモイルフェノキシ)−4−チア−1−アザビシク
ロ〔3,2,D)へブタ−2−エン−2−カルホキシレ
ー1−,8.7+1Iii’の炭酸水素カリウム、13
2哀gの炭素担持5チパラジウム。
10rnlの酢酸エチルおよび10−の水の混合物を9
0分間345kPa (50psi)で水素添加し次い
で珪藻土(rHlfroJ 、商標名)を通して沖過し
た。その水層な分離しそして凍結乾燥して30mgの標
題化合物を得た。
IHNMR(pMso−dd)δ0.87 (3H,t
 、T7.3Hz)−1,15(3H,d δ6.3H
2)、  1.5 (2H,m)、3.15  (2H
,m)、358(IH,ddJlおよび7.5Hz)、
3.91 (IH,m)、5.58(iH。
d JIH2)、7.10および7.82 (4H,A
A’BB’ δ8.6H2)、8.39 (IH,幅広
m)。
実施例 10 4−ニトロベンジル5R,3−(4−カルバモイルフェ
ノキシ)−68−(1,R−ヒドロキシエチル)−7−
オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0〕へ
ブタ−2−エン−2−カルボキシレート 900μtgの4−二トロベンジル5R,!l −(4
−(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシカルボニル
フェノキシ)−6日−(1R−ヒドロキシエチル)−7
−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0:
]へ]ブター2−エンー2−カルボキシレーのテトラヒ
ドロフラン5−中の攪拌溶液に228μtのトリエチル
アミンを添加し、5分後に126119の酢酸アンモニ
ウムの水200μを中の溶液を添加した。その混合物を
更に30分間攪拌後、沈殿をP別しそして酢酸エチルお
よびアセトニトリルで洗ってsoomgの標題化合物を
得た。母液からは更に100myの生成物が得られた。
m、p、145℃(分解)。
’ HNMR(DMSO−66)δ1.15 (3H,
d δ6.2Hz)、3.90(IH,dd Jl、4
および5.9Hz)、 4.00  (IH,m)−5
,25(IH,幅広o)−5,28および5/40 (
2H,AB 、 Jl4.2Hz)、5.77 (IH
,d 、71.4Hz)、7.33および7.91 (
4H,AA’BB’J8.8Hz)、7.44 (IH
,幅広s)−7,56および8.1/) (4H。
AA’B B’ J 8BHZ )、8.02 (IH
,幅広θ)。
実施例 11 カリウム5F(,3−(4−カルバモイルフェノキシ)
−6B−(I R−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−
4−グーアー1−アザビシクロ[3,2,0]へブタ−
2−エン−2−カルボキンレート 340■の4−二トロベンジル5R,3−(4−カルパ
モイルフエノキシ)−68−(IR−ヒドロキシエチル
)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ(3,2
,o〕へブタ−2−エン−2−カルボキシレート、34
0■の炭素担持10%パラジウム、10m1のジオキサ
ン、72.9■の炭酸水素カリウムおよび10ゴの水の
混合物を345kPa (50psl)で60分間水素
添加分解シー次いで珪藻土を通して濾過した。炉液を凍
結乾燥して得られた280m1gの黄色固体を水に溶解
しそして酢酸エチルで抽出した。水層を凍結乾燥して2
55〜の標題生成物を灰色がかった白色(オフホワイト
)の固体として得た。m、p。
159℃(分解) IHNMR’(δ20)δ1.32 (3H,d δ6
.4Hz)、3.98 (1H。
dd Jl、3および6.QH2)、4.28 (1H
,m)、5.74 (1H,dJ t3Hz )、73
3お工び7.87 (4H,AA’BB’ J88H2
)。
実施例 12 4−ニトロベンジル5B、6S−(I R−ヒドロキシ
エチル)−3−(4−メチルカルバモイルフェノキv)
−7−オキソ−4−チア−1−アザピノクロ[3,2,
0)へブタ−2−エン−2−カルボキシレート 200即の4−二トロベンジル5R,3−(4−(ベン
ゾトリアゾール−1−イル)オキシカルボニルフェノキ
シ)−68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキソ
−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0)へブタ−
2−エン−2−カルボキシレートの乾燥テトラヒドロフ
ラン2d中の0℃の攪拌浴Hに47.7μLのトリエチ
ルアミンヲ添加し次いで26.5μLのメチルアミンの
40重量%水注溶液を際加した。0℃で60分、そして
室温で60分後にその混合物を酢酸エチルと水の間に分
配し、有機層を1Mクエン酸、ブラインで洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥しそして真空蒸発した。残留物を
シリカゲルでのクロマトグラフィにかけそしてヘキサン
−酢酸エチル混合物で溶出することにより95■の標題
化合物が得られた。
νmax(CDCl5) 1780 ff1−’IHN
MR(CDCl2)δ1.38 (3H,d δ6.3
H2)、3.02 (3H。
d δ4.9H2)、3.79 (IH,adyl、5
および6.7Hz)、4.3(IH,m)、5.22お
よび5.41 (2H,AB Jl4.4Hz)、5,
67(IH,a Jl、5Hz)、&15 (IL幅広
S)、7.18および7.77 (4H,AA’BB’
 δ8.8H2)−7,53および8.17 (4H。
実施例 13 カリウム5R,68−(IR−ヒドロキシエチル)−3
−(4−メチルカルバモイルフェノキシ)−7−オキソ
−4−チア−1−アザビシクロC5,2,01へブタ−
2−エン−2−カルボキシレート196Whgの4−二
トロばシリル5R,6S −(IR−ヒドロキシエチル
)−3−(4−メチルカルバモイルフェノキシ)−7−
オキソ−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,0、:
lヘプタ−2−エン−2−カルボキシレート、40.4
myの炭酸水素カリウム。
10−の酢酸エチル、10m1の水および392■の炭
素担持10%パラジウムの混合物を約345KPa(5
0psi )で100分間水素添加し1次いで珪藻土を
通して濾過した。水層を分離しそして凍結乾燥して13
1mgの粗製生成物を得た。この生成物の水性溶液を0
℃でpa2の酸性とじ1そして微量の不溶物を沖去した
。その沖液を凍結乾燥して得られた116IIgの生成
物を水に溶解した。
31.9■の炭酸水素カリウムを添加し、そしてその溶
液を珪藻土を通して再濾過しそして凍結乾燥して112
〜の標記化合物を得た。
11(NMR(D20)δおよび1.29(3H,a 
δ6.4Hz) 、 2.91(3H。
s)、  as+4(1u、aa 、rlおよび5Hz
)、  4.25(IH,m)。
5.7’1(IH,d JIHz)、  7.29およ
び7.77C4H,kk’ BB’Ja8Hz) 実施例 14 ジンエニルー(2−メチルプロプ−2−イル)シリル3
−ヒドロキシド/シェード 5G、4/の3−ヒドロキシ安息香酸の乾燥ジメチルホ
ルムアミド20〇−中の0℃の攪拌溶液に24.8!M
’のイミダゾールを添加し1次いで100gのジフェニ
ル−(2−メチルプロプ−2−イル)シリルクロライド
を添加した。その混合物を室温で16時間攪拌し、そし
て酢酸エチルと冷水の間に分配した。有機層を水、水性
炭酸水素カリウム溶液、およびブラインで洗い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥しそして蒸発乾個した。生成白色
固体を乾燥クロロホルム中でスラリー化しそして濾過し
て72.9の標題化合物を得た。
IHNMR(アセトン−δ6)δ1.18(9H,s)
、  6.8−7.9(14H。
m)、 δ7(IH,幅広S) 実施例 15 ジフェニル−(2−メチルプロプ−2−イル)シリル6
−クロロチオホルミルオキシ〈ンゾエート130+n4
のチオホスゲンの乾燥ジエチルエーテル2501111
中の一78℃の攪拌溶液に、72gのジフェニル−(2
−メチルプロプ−2−イル)シリル6−ヒドロキシベン
ゾエートおよび29m1のトリエチルアミンの乾燥ジエ
チルエーテル200セ中の混合物を滴加した。その混合
物を一78℃で30分間、室温で120分間攪拌し1次
いでジエチルエーテルと水の間に分配した。有機層を冷
水。
およびブラインで洗い、そして無水塩化カルシウムで乾
燥した。真空蒸発を行い、そして乾燥ジエチルエーテル
の添加と真空再蒸発を繰り返して86.5Iの標題化合
物を粘稠橙色油として得た。
IHNMR(CDCa4)δi、20(9H,s)、 
 7.35−7.55(7H,m)。
7.54(IH,t J7.8Hz)、  7.74(
4H,dm J6Hz)、 7.90(IH。
dd J2.2および1.6Hz)、  8.11(I
H,dm J7.8Hz)実施例 16 4−ニトロベンジル2− (3S−(IR−Cジメチル
(2−メチルプロプ−2−イル)−シリルオキシ〕エチ
ル)−4R−エチルチオアゼチジン−2−オン−1−イ
ル)−3−(3−ジフェニル−〔2−メチルプロプ−2
−イル〕シリルオキシカルボニルフェノキシ)−3−ト
リメチルアセチルチオゾo<ノ二一ト 実施例3に記載のものと同様の手順によシ。
isgの4−ニトロベンジル2− (38−(IR〔ジ
メチル(2−メチルプロプ−2−イル)シリルオキシタ
エチルl−4R−エチルチオアゼチジン−2−オン−1
−イル)アセテート、17Iのジフェニル(2−メチル
プロプ−2−イル)シリル3−クロロチオホルミルオキ
シベンゾエート、70ミリモルのn−ブチルリチウム、
14.7−のへキサメチルジシラザン、750*tの乾
燥テトラヒドロフランおよび11.4−のトリメチルア
セチルブロマイドを用いて40.9の標題化合物を橙色
油として得た。これはそれ以上精製することなく用いた
j’max(フィルム) 1710および1765ct
n−’IHNMR(CDC63)δ0.05(6H,s
)、  δ83(9H,s)、  0.91(9H,s
)、  1.04および1.11(9H,2s)、 1
.2−1.4(6H,m)。
2.5−2.9(2H,m)、  3.3(IH,m)
、  4.35(IH,m)、 5.3/+(2H。
m)、 5.48(IH,cl J2Hz)、  7.
3−δ4(18H,m)実施例 17 4−ニトロベンジル3−(3−カルボキシフェノキシ)
 −2−(4R−エチルチオ−38−[IR−ヒドロキ
シエチル〕アゼチジン−2−オン−1−イル’)−3−
)リメチルアセチルチオプロにフェート 40.9ノ4−ニトロベンジル2− (38−IR〔ジ
メチル(2−メチルプロプ−2−イル)シリルオキシ〕
エチルー4R−エチルチオアゼチジン−2−オン−1−
イル)−3−(3−ジフェニル〔2−メチルプロプ−2
−イル〕シリルオキ7カルボニルフエノキシ)−3−)
リメチルアセチルチオプロペノエー)、150−のテト
ラヒドロフランおよび44−の5.5M塩酸の混合物を
室温で16時間攪拌し1次いで酢酸エチルと水の間に分
配した。有機層を水およびブラインで洗い、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥しそして真空蒸発した。残留物をシリ
カゲルでのクロマトグラフィにかけ、そしてヘキサン−
酢酸エチル−蟻酸混合物で溶出して6.0gの標題生成
物をE/Z混合物として得た。
シmax1735. 1715(sh)、  1770
(sh)、  3450m−’IHNMR(CDCl2
)δ1,00および1.07 (9H、2s )、  
1.2−1.4(6H,m)、  2.6−2.9(2
H,m)、  3.28(IH,dd δ2.7および
4.4Hz)、  43(IH,m)、  5.32(
2H,AB J1i5Hz)、  5.37(IH,d
 δ2.7Hz)、 7.29(IH,m)、 7.3
7(IH,aa δ2および7.8Hz)、  7.5
9および7.40(2H,AA’BB’ δ7.8Hz
)。
7.71(IH,m)、  7.86(IH,dm δ
7.8Hz)、  δ08およびδ212(2H,AA
’ BB’ δ7.8Hz)実施例 18 4−ニトロベンジル3−(3−カルボキシフェノキシ)
−2−(48−クロロ−38−(IR−ヒドロキシエチ
ル)アゼチジン−2−オン−1−イル)−1−)リメチ
ルアセチルチオプロベノエート 5.5Iの4−二トロベンジル6−(3−カルボキシフ
ェノキシ)−2−(4R−エチルチオ−38−[IR−
ヒドロキシエチル〕アゼチジン−2−オン−1−イル)
−6−ドリメチルアセチルチオプロはフェートの乾燥デ
ユーテロクロロホルム5〇−中の一40℃の攪拌溶液に
IG、6ミリモルの塩素の四塩化炭素中の溶液に添加し
た。その混合物を一40℃でさらに30分間、そして室
温で60分間攪拌しそして真空蒸発し′に、残留物をシ
リカゲルでのクロマトグラフィにかけそしてヘキサン−
酢酸エチル−蟻酸混合物で溶出して4.61の標題化合
物を得た。
νmaX(CDCl2)1700.1730. 178
3cm−’IHNMR(CDCl2)δ1.06および
1.07(9H,2s)、  1.40(3H,d 、
L6.4Hz)、  3.55(IH,m)、  4.
4(IH,m)、 5.32(IH,s)、  6.1
5および6.20(IH,2a δ4.2Hz)、’ 
7.29(IH,m)、  74−7.7(3H,m)
、  7.74(IH,m)、  7.9−δ05(I
H,m)、  8.12および8.24(2E(、Zd
 Ja8Hz)実施例 19 4−ニトロベンジル5R,3−(3−カルボキシフェノ
キシ) −68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オ
キノー4−チア−1−アザビシクロ〔3゜2.0〕へブ
タ−2−エン−2−カルボキシレート2.02.9の4
−ニトロベンジル6−(3−カルボキシフェノキシ) 
−2−(48−クロロ−38−(IR−ヒドロキシエチ
ル)アゼチジン−2−オン−1−イル)−3−)リメチ
ルアセチルチオプrI2ノエートのジオキサンと水の混
合物(9:I V/V’) 8 D−中の5℃の攪拌溶
液に682 m&のイミタゾールを添加した。その混合
物を5℃で更に60分間攪拌し1次いで酢酸エチルと水
の間に分配した。水層をI Mクエン酸の添加によりp
H2の酸性としそして酢妙エチルで抽出した。合一有機
層を1Mクエン酸、水、およびブラインで洗い無水硫酸
マグネシウムで乾燥しそして真空蒸発した。残留物をシ
リカゲルでのクロマトグラフィにかけ、ヘキサン−酢酸
エチル−蟻酸混合物で溶出して992■の標記化合物を
淡黄色泡沫として得た。
νmaX(CDCl2) 17101. 1788cm
、−”jHNMR(CDC45)δ1.38(3H,d
 δ6.4Hz)、  3.81(IH,ddJl、4
および6.7Hz)、  4.3(IH,m)、  5
.24および5.43(2H,AB δ13.8H7,
)、  5.69(IH,d’J1.4Hz)、  7
3B−7,5(2H,m)、  7.55および8.1
8(4H,AA’ BB′J8.8Hz)、7.85(
IH,m)、  7.99(IH,m)実施例 20 4−ニトロベンジル5R,,3−(3−(ベンゾトリア
ゾール−1−イル)オキシカルボニルフェノキシ) −
68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキノー4−
チア−1−アザビシクロ(,3’、 2.0 )へブタ
−2−エン−2−カルボキシレート200■の4−ニト
ロベンジル5R,3−(3−カルボキシフェノキシ) 
−68−(1R−ヒドロキシエチル)−7−オキノー4
−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタ−2−
エン−2−カルボキシレートのアセトニトリル8ml中
の室温の攪拌溶液に111■の1−ヒドロキシベンゾト
リアゾール水和物のテトラヒドロ7ラン4−中の溶液を
添加し、5分後に158■の1−(5−ジメチルアミノ
プロピル)−6−エチルカルボジイミド塩酸塩、2rn
!、のアセトニトリルおよび2−のテトラヒドロフラン
の混合物に添加した。その混合物を室温で6時間攪拌し
、濾過して17mgの標題化合物を得た。P液を酢酸エ
チルと水の間に分配し1有機層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥しそして真空蒸発して更に172〜の標
題化合物を淡黄色固体として得た。
1H)Jl悲(DMSO−d6)δ 1.16(3H,
d δ6,2Hz)、  3.91(IH。
ddJl、oおよび5.7Hz)、  4.02(1王
(、m)、  5.22(IH,a δ4.4Hz)、
 5.28および5.41(2H,AB Jl4.2H
z)、 5.77(IH,dJl−OHz )174−
8.0 (9H2m )、l 98 (I H、d J
 a6HZ )、a 18 (2H1d δ8.7Hz
) 実施例 21 3− (5R,68−(IR−ヒドロキシエチル)−2
−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オキ
ノー4−チア−1−アザビシクロ(3,2,0)へブタ
−2−エン−6−イル〕オキシ安息香酸無水物 100mgの4−二トロベンジル5R,3−(3−カル
ボキシフェノキシ)−68−(IR−ヒドロキシエチル
)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロC3,2
,0)へブタ−2−エン−2−カルボキシレートのアセ
rニトリル41n!、中の攪拌溶液に79Tngの1−
(6−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジ
イミド塩酸塩を添加した。
20分間攪拌後、その混合物を酢酸エチルと水の間に分
配した。有機層を水洗し次にブラインで洗った後無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。
真空蒸発により78rn9の標題化合物を得たっ1HN
MR(DMSO−d6)δ1.15(3H,d δ6.
25Hz)、  3.91(IH。
ddJl、5および5.9Hz)、  4.01(IH
,no)、  5.22(IH。
6 δ4.6Hz)、  5.29および5.42 (
2H、八Bq Jl4.4Hz)。
5.76(IH,d Jl、3Hz)、  7.55−
8.32(8H,m)実施例 22 4−ニトロベンジル5R,68−(IR−ヒドロキシ−
r−チ#)−3−(3−メチルカルバモイルフェノキシ
)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ〔6゜2
.0〕へブタ−2−エン−2−カルボキシレート 方法 A 235mgの4−二トロベンジ/lz 5R,3−’(
3−ベンゾトリアゾール−1−イルオキシカルボニルフ
ェノキシ)−,68−(IR−ヒドロキシエチル)−7
−オキノー4−チア−1−アザビシクロ〔382,0〕
へブタ−2−エン−2−カルボキシレート、8−の再蒸
留されたジメチルホルムアミドおよび53μtのトリエ
チルアミンの0℃の攪拌混合物に64μtのメチルアミ
ンの40(重量)チ水溶液を添加した。、30分後その
反応混合物を室温まで昇温させ、そして更に45分間攪
拌した。
その混合物を酢酸エチルと水の間に分配したつその有機
層を1Mクエン酸、水、飽和水性炭酸水素ナトリウム、
およびブラインで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、次いで真空蒸発した。
残留物をシリカゲルでのクロマトグラフィにかけ1ヘキ
サン−酢酸エチル混合物で溶出して94〜の標題化合物
を得た。
IHNMR(CDCts)δ 1.35(3H,d δ
6.3Hz入 3.00(3B、dδ4.8Hz)、 
 3.75(IH,dd Jl、4および6.7Hz 
)+  4.25(IH,m)、  5.21および5
.41(2H,AB Jl3.8Hz入5.64(1H
,d Jl、4Hz)、  6.19(1B、m)、 
 7.26−7.65(6H,+n)。
δ16(2H,6δ8.8Hz) 方法 B 78 m9ノ5− (5R,68−(IR−ヒ)”0 
キ’i工f#)−2−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ〔
362,01へブタ−2−エン−5−イル〕オキシ安息
香酸無水物の再蒸留されたジメチルホルムアミド2 m
l 中の攪拌溶液に15μtのモノメチルアミンの40
重量%水溶液を添加した。18時間後にその混合物を酢
酸エチルと水の間に分配した。
その有機層をI Mクエン酸、水、飽和炭酸水素ナトリ
ウム、溶液、ブラインで洗い、無水硫酸マグネシウムで
乾燥しそして真空蒸発して63m2の標題化合物を得た
実施例 23 4−ニド0ベンジル5R,3−(3−カルバモイルフェ
ノキシ)−6S−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ〔6・2゜0〕へブ
タ−2−エン−2−カルボキシレート169■の4−二
トロベ/ジル5R,5−(5−ペンシトリアゾ′−ルー
1−イルオキシカルボニルフェノキシ) −6s −(
IR−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4−テア−1
−アザビシクロ〔6゜2.0〕へブタ−2−エン−2−
カルボキシレート。
4−の再蒸留されたジメチルホルムアミドおよび52μ
tのトリエチルアミンの攪拌溶液に27.1■の酢酸ア
レモニウムを添加した。更に90分攪拌後、その混合物
を酢酸エチルと水の間に分配した。その有機層を1Mク
エン酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、ブラインで
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥しそして真空蒸発し
て64■の標題化合物を得た。
v、ax(CHCL5 )  1725および1785
m−’IHNMR(DMSO−δ6)δ1.17(3H
,d δ7.2Hz)、 3.89(IH。
m)、 4.02(1H,m)、  5.21(IH,
d δ4.5Hz)、  5.29および5.40 (
2HIAB J 14−2Hz)la74 (I HI
d J 1−3Hz )* Z4−aO(7H,m)、
  aO9(IH,幅広s)、 δ18(2H,d δ
8.8Hz)実施例 24 カリウム5R,3−(3−カルバモイルフェノキシ)−
6S−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキノー4−
チア−1−アザビシクロ(3,2,0)へブタ−2−エ
ン−2−カルボキシレート 106〜の4−ニトロベンジル5R,3−(3−カルバ
モイルフェノキシ) −6B−(IR−ヒドロキシエチ
ル)−7−オキノー4−チア−1−アザビシクロ[3,
2,0:lヘプタ−2−エン−2−カルボキシレート、
218〜の炭酸水素カリウム、150〜の炭素担持10
チパラジウム、  5wtXのジオキサンおよび5−の
水の混合物を42 Q KPeL(60ps i)で6
0分間水素添加し、珪藻土を通して渥過しそして凍結乾
燥した。黄色固体を水に溶解し。
酢酸エチルで洗い、そして凍結乾燥して40〜の標題化
合物を得た。
IHM(δ20)δ1.28(3H,d 、76.6H
z)、 3.92(IH,ad 、T1.5および6.
2Hz)、  4.23(IH,m)、  5.68(
Ill(、d 、T1.5Hz)、  7.39−7.
20(4H,m)実施例 25 カリウム5R,68−(IR−ヒドロキシエチル)−6
−(3−メチルカルバモイルフェノキシ)−7−オキノ
ー4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へ]ブタ
ー2−エンー2−カルボキシレート142の4−ニトロ
ベンジル5R,68−(IR−ヒドロキシエチル)−3
−(3−メチルカルバモイルフェノキシ)−7−オキソ
−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,0:lへブタ
−2−エン−2−カルボキシレート、28■の炭酸水素
カリウム。
150■の炭素担持10%パラジウム、5−のジオキサ
ンおよび5−の水の混合物を345 KPa(50ps
i)で60分間水素添加し、そして珪藻土を通して炉遇
しそして凍結乾燥して76m9の標題化合物を得た。
I HNMR(D 20 )δ 1.30(3H,d、
 J6.4Hz)、  2.92(3H,s)。
3.94(IH,dcl J 1および6.IH7,)
、  4.25(1B、m)、  5.69(IH,d
 JIH7,)、7.0−7.7(4H,m)実施例 
26 ペンタフルオロフエニル4−アセトキシベンゾエート 10.8Fの4−アセトキシベンゾイルクロライドの乾
燥ア七ト二トリル中の溶液を10.Pのペンタフルオロ
フェノールで処理し、そして0℃で攪拌する一方4.4
−のピリジンを滴加した。
その溶液を室温まで昇温させ1次いで反応が完了するま
で還流温度に加熱した。溶媒を真空蒸発しそして得られ
た残留物を酢酸エチルと水の間に分配した。有機溶液を
更に水およびブラインで洗いそして硫酸マグネシウムで
乾燥した。
蒸発により18.9のa顯化合物を得た。
νmaよ(フィルム)1760α−1 1HNMR(CDCA、)δ2.25(3H,s)、 
 7.21.a21(4H,AA’BB’。
J=9Hz) 実施例 27 はンタンルオロフェニル4−ヒドロキシ(ンゾエート テトラヒドロフラン中のにフタフルオロフェニル4−ア
セトキシベンゾニー)(10,?)を50m1の5M塩
酸および150−のテトラヒドロフランで処理しそして
室温で一夜攪拌した。溶媒を真空蒸発して得られた生成
物をカラムクロマトグラフィ(シリカ;溶出剤は酢酸エ
チル/ヘキサ/混合物)により精製して標題化合物(8
g)を得た。
νmax(フィルム)1760cm−’IHNMR(C
DC45) δ 6.86. 7.01 (4H、AA
′ BB) 、  Jw9  Hz)。
7.30(IH,幅広S) 実施例 28 はフタフルオロフェニル4−クロロチオカルボニルオキ
シベンゾエート i、34Fの水酸化ナトリウムの水溶液を、15分間に
わたり激しく攪拌しながら、1lL45.Pのはフタフ
ルオロフェニル4−ヒドロキシベンゾエートおよび3.
2−のチオホスゲンのクロロホルム10〇−中の一20
℃の溶液罠滴加した。その混合物を反応が完了するまで
5℃で攪拌しそして有機層を分離し、塩化カルシウムで
乾燥し、そして溶媒を蒸発した。残留物をシリカゲルで
のクロマトグラフィにかけヘキサン/酢酸エチル混合物
で溶出して5,9gの標題化合物を得た。
’maX(フィルム) 1760 crrt−11HN
MR(CDC65)δ7.32.8.30(4H,AA
’ BB’ 、 J−8Hz)実施例 29 4−ニトロベンジル2− C3(S)−1(R)−ジメ
チル−(2−メチルプロプ−2−イル)−シリルオキシ
エチル) −4(R)−エチルチオアゼチジン−2−オ
ン−1−イル)−3−[4−(ペンタフルオロフェノキ
シカルボニル)フェノキシ]−5=)リメチルアセチル
チオプロはフェート 4−ニトロベンジル2− C3(S) −1(R)−ジ
メチル−(2−メチルプロプ−2−イル)−シリルオキ
シエチル)−4(R)−エチルチオアゼチジン−2−オ
ン−1−イル〕アセテート(6,76I〕およびはンタ
フルオロフェニル4−クロロチオカルボニルオキシベン
ゾエート(5,89g)の乾燥テトラヒドロフラン中の
一40℃でアルゴン下の攪拌溶液に、 6.65−のへ
キサメチルジシラザント197−のn−ブチルリチウム
の1.6Mヘキザン溶液との混合物の乾燥テトラヒドロ
7ラン中の溶液を添加した。その混合物を一40℃で2
0分間攪拌しそして!L72−のピバロイルブロマイド
を添加した。−40℃で更に1時間攪拌後、その混合物
を冷0.1M水性塩酸に注ぎ、そしてエーテルで抽出し
た。合一した有機層を飽和重炭酸ナトリウム、ブライン
で洗い5次いで硫酸マグネシウムで乾燥しそして蒸発軟
部した。シリカゲルでのクロマトグラフィにかけ、ヘキ
サン/酢酸エチル混合物で溶出することにより標題化合
物(10,9,9)を得た。
νmax(フィルム) 1760crrt−1+HNM
R(CDC15)δ0.02(6H,s)、  0.8
1.0.89(9H,2s)。
1.09,1.16(9H12s)i  1.16−1
32(6H,m)、 2.512−79(2H,m)、
  3.24−3.32(IH,m)、  4.22−
4.29(IH,m)。
5.25−5.47(3H,m)、  6.95−δ2
4(8H,m)実施例 60 4−ニトロベンジル2−[: 4(R)−エチルチオ−
6(s) −(1(R)−ヒドロキシエチル〕アゼチジ
ン−2−オン−1−イル〕−3−44−(ペンタフルオ
ロフェノキシカルボニル)−フェノキシフ−3−トリメ
チルアセチルチオプロはフェート10.9.@の4−二
トロベンジル2− [3(S) −(1(R)−ジメチ
ル−(2−メチルプロプ−2−イル)−シリルオキシエ
チル) −4,(R)−エチルチオアゼチジン−2−オ
ン−1−イル、:l−3−(4−(ペンタフルオロフェ
ニルカルボニル)−フェノキシヨー6−ドリメチルアセ
チルチオプロペノエートのテトラヒドロフラン218d
の室温の攪拌溶液に45−の5M塩酸を添加した。その
混合物をt、 L C,が反応が完了したことを示すま
で攪拌した。その混合物を酢酸エチルと水の間に分配し
1分離した有機層を重炭酸ナトリウム溶液およびブライ
ンで洗いそして硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過した
溶液を蒸発した後1残留物をクロマトグラフィにかけて
(シリカゲル。
溶出剤は酢酸エチル/ヘキサン混合物)標題化合物(3
,7II)を得たう 生成物は核磁気共鳴スはクトルで二重ピークとして観察
されるEおよび2異性体の混合物として単離される。そ
れらEおよび2異性体は必要に応じてクロマトグラフィ
によシ分離できる。
νma’X(フィルム)1760m” IHNMR(CDC15)δ1.09(9H,s)、 
 1.16−1.34(6H,m)。
1.75(IH,、幅広s)、  2.69−2.76
(2H,m)、  5.26(IH,dd。
J=2.5Hzおよび4.8Hz)、  4.2−4.
3(IH,m)、  5.26(IH。
d、 J=2.5Hz)、  5.26.5.34(2
H,ABq、 J−9Hz)、 7.18゜al 7 
(4H、AA’ B B ’ 、J =aaHz )1
160.δ24 (4H、AA BB ’ 。
J =a8Hz ) マイナーなプロはフェート異性体による信号も検出でき
た。
実施例 61 4−二トロベンジル2− C4(S)−クロロ−3(S
)−[1(R)−ヒドロキシエチルツーアゼチジン−2
−オン−1−イル) −3−(4−(はンタフルオロフ
エノキシカルボニル)−フェノキシ〕−6−ドリメチル
アセチルチオプロはフェート3.73Jの4−二トロベ
ンジル2− (a (R)−エチルチオ−3(S) −
(1(R)−ヒドロキシエチル)−アゼチジン−2−オ
ン−1−イル)−3−(4−(ペンタフルオロフェノキ
シカルボニル)フェノキシ)−3−)リメチルアセチル
チオプロにフェートの乾燥クロロホルム25−中の一4
0℃の攪拌溶液に5.6 ミ!Jモルの塩素の四塩化炭
素Z2−中の溶液を添加し、そしてその溶液を30分間
攪拌した。反応混合物を室温までの昇温を許し、そして
蒸発軟部した。残留物をクロマトグラフィ(シリカゲル
、溶出剤はヘキサン/酢酸エチル混合物)にかけて標題
化合物(2,5Ii)を得たつ IHliMa(cDcz3)δ 1.10(9H,S)
、   1.39(ろH,d 、J−6,3Hz)。
1.61(11(、幅広s)、  3.54(IH,a
d、 J =4.3Hzおよび9.4Hz)、  4.
29−4.35(IH,m)、  5.33(2H,s
)、  6.13(IH。
d 2J =4,382 )+  717.819 (
4HIAA’ B B ’ 、J =a8Hz )。
7.56.8.25(4H,AA BB’、 J=8.
8Hz)実施例 32 4−ニトロベンジル5 (R) 、 6 (S) −[
1(R)−ヒドロキシエチル〕−7−オキソ−3−(4
−(インタフルオロフェノキシカルボ′ニル)ンエノキ
シ〕−4−チアー1−アゼビシクロ(3,2,0)へブ
タ−2−エン−2−カルボキシレート 3.71の4−ニトロベンジル2− [: 4 (S)
−クロロ−3(S)−(1(R)−ヒドロキシエチル)
−アゼチジン−2−オン−1−イル)−1−(4−(は
ンタフルオロフェノキシカルボニル)−フェノキシ]−
34リメチルアセチルチオプロはフェートのジオキサン
−水(9: 1 v/v ) 22−中の5℃の攪拌溶
液に246ηのイミダゾールを添加したう攪拌を60分
間続けそして次にその混合物を室温まで昇温させそして
酢酸エチルと水の間に分配した。有機層を冷希塩酸、飽
和重炭酸ナトリウムおよびブラインで洗い、硫酸マグネ
シウムで乾燥しそして真空蒸発軟部した。残留物をシリ
カゲルでのクロマトグラフィにかけヘキサン/酢酸エチ
ル混合物で溶出して標題化合物(2,56g)を得た。
νmaX(K、Br) 1770 cyt−’’HNM
R(CDCl2) 1.39(3H,d、J=6.3H
z)、  1.75(1f(。
幅広)、  3.85(IH,d4.J=j、4Hzお
よび6.5Hz)、4.28−4.33(1f(、m)
、  5.21.5.40(2H,ABq、J=14.
7Hz)、 5.74(I H、d 、J ” 1−4
Hz )+ l 27+ a 18 (4H、AA’ 
B B ’ 、J =a9Hz )。
7.62.  a22(4H,AA’  BB)、  
、r=a7Hz)実施例 33 4−ニトロベンジル5R,3−(4−カルバモイルフェ
ノキシ)−68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ〔6゜2.0〕へブ
タ−2−エン−2−カルボキシレート1.009の4−
ニトロベンジル5R,6S−(IR−ヒドロキシエチル
)−7−オキソ−6−C4−(ズンタフルオロフエノキ
シカルポニル)−フェノキシ〕−4−チアー1−アザビ
シクロ[3,2,0]へ−]1ター2−エンー2−カル
ボキシレーのアセトニトリル15−中の0℃の溶液に7
5■のアンモニアを乾燥エタノール5−に溶解した溶液
を添加した。その混合物を0℃で15分間1そして室温
で1時間攪拌した。沈澱を混合物から炉別し、酢酸エチ
ルで洗い、そして真空乾燥して、実施例10に与えられ
たものと同じ物性を有する416〜の標題化合物を得た
実施例 6/ アセトキシエチル5R,!1−(4−カルバモイルフェ
ノキシ)−/、S−、、(IR−ヒドロキシエチル)−
7−オキノー4−チア−1−アザビシクロ〔6゜2、0
.1へブタ−2−エン−2−カルボキシレート100雫
のカリウム5R,3−(4−カルバモイルフェノキシ)
 −68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキノー
4−チア−1−アザビシクロ〔3゜2.0〕へブタ−2
−エン−2−カルボキシレートの乾燥ジメチルアセトア
ミド1WLt中の0℃の溶液に85μtの1−クロロエ
チルアセテートおよび77〜の沃化す) IJウムの乾
燥ジメチルアセトアミド1WLt中の溶液を添加した。
その混合物を18時間攪拌し次いで酢酸エチルおよび水
の間に分配した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、そして蒸発乾個した。残留物をシリカケ゛
ルでのクロマトグラフィにかけそしてヘキサン/酢酸エ
チル/アセトニトリル混合物で溶出して17〜の標題化
合物を得た。
IHNMR(CDC43)δ1.35および1.37(
3H,2d、 J−6Hz)。
1.45および1.46(3H,2d、 J=6.5H
z)、  3.76(IH,dd、T = 1.2およ
び5.8Hz)、  4.1!1(IH,l1l)、 
 5,66(IH,d、J=1.2Hz)、  5.7
(IH,幅広s )、  6.1(IH,幅広s)、 
6.92(IH,m)、  7.19および7.20(
2H,2d、 、T−a8Hz)、 7.84(2H,
a、 J=8.8Hz) 実施例 35 (5−メチル−2−オキソ−1,6−シオキンレンー4
−イル)メチル5R,3、−(4−カルバモイルフェノ
キシ) −68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ〔6゜2.0〕へブ
タ−2−工/−2−カルボキシレート100rn9ノカ
リウA 5R,3−(4−カルバモイルフェノキシ) 
−68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4
−チア−1−アザビシクロ〔3゜2.0〕へブタ−2−
エン−2−カルボキシレートのジメチルアセトアミド1
−中の0℃の溶液に。
55Ivの4−ブロモメチル−5−メチル−1,3−ジ
オキソレン−2−オンのジメチルアセトアミド0.5m
l中の溶液を添加した。その混合物を18時間攪拌し次
いで酢酸エチルおよび水の間に分配した。有機層を水洗
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、そして蒸発乾個し
た。残留物をシリカゲルでのクロマトグラフィにかけそ
してヘキサン/酢酸エチル/アセトニトリル混合物で溶
出して39〜の標題化合物を得た。
IHNM只(CD5CN)δ 1.23(3H,d、J
−6,3Hz)、  2.07(3Ls)。
3.84(IH,dd J−1,5および5.5FIz
)、  4.14(IH,m)、 4.8および4−9
5 (2H、AB 、J−14−I Hz )、5−7
1 (I H、d 、J−1,5H2)+6.1(1)
(、幅広s)、  6.8(IH,@広s)、  7.
24および7.85(4H、A、A’ BB’ 、 J
=a8Hz )実施例 66 エトキシカルボニルオキシメチル5R,3−(4−カル
バモイルフェノキシ)−68−(IR−ヒドロキシエチ
ル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,
2,0)へブタ−2−・エン−2−カルボキシレート 100■のカリウム5R,3−(4−カルノ(モイルフ
ェノキシ) −68−(IR−ヒドロキシエf)し)−
7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ〔6,2,0
〕へブタ−2−エン−2−カルボキシレートの乾燥ジメ
チルホルムアミド1−中の0℃の溶液に85μtのエチ
ル−ヨードメチル−カーボネートの乾燥ジメチルホルム
アミド0.5−中の溶液を添加した。その混合物を5時
間攪拌し。
次いで酢酸エチルと水の間に分配した。その有機層を水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し。
そして蒸発乾個した。残留物をシリカゲルでのクロマト
グラフィにかけ、そしてヘキサン/酢酸エチル/アセト
ニトリル混合物で溶出して65■の標題化合物を得た。
1HNMR(CD5CN)δ1.22(3H,d J−
7Hz)、  1.24(3H,tJ =7Hz)、 
5.83(IH,dd、 J−1,5および5.5Hz
)、  4.13(IH,m)、  5.70(IH,
d J=1.5Hz)、 5.72および5.79(2
H,AB J−6Hz)、  6.1(IH,幅広s)
、  6.9(IH,幅広s)、  7.28および7
.88(4H,AA’ BB’J=8.8Hz)実施例
 67 アセトキシメチル5R,3−(4−カルバモイルフェノ
キシ) −6B−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2゜0〕へブ
タ−2−エン−2−カルボキシレート180ηのカリウ
ム5R,3−(4−カルバモイルフェノキシ) −68
−(IR−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4−チア
−1−フザピシクロ〔3゜2.0)へブタ−2−エン−
2−カルボキシレートの乾燥ジメチルホルムアミド1−
中の0℃の溶液に、 190〜のヨードメチルアセテー
トの乾燥ジメチルホルムアミド1 ml中の溶液を添加
した。
その混合物を3時間攪拌し次いで酢酸エチルおよび水の
間に分配した。その有機層を水洗し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥しそして蒸発乾個した。残留物をシリカゲル
でのクロマトグラフィにかけそしでヘキサン/酢酸エチ
ル/アセトニトリル混合物で溶出して56m9の標題化
合物を得た。
IHNMR(CD5CN)δ1.22(3H,d J−
6,3Hz)、 2.01(3H,s)、3.83(1
H,adJ=1.5および5.5Hz)、  4.13
(IH,m入5.70(IH,cl J=1.51(z
)、  5.71および5.77(2H,AB J=6
Hz)、  6.1(IH,幅広s )、  6.9(
In 、幅広s)、  7.27および7.88(4H
,AA BB’ J=8.8Hz)実施例 38 4−二トロベンジル5R,6S −(IR−アセトキシ
エチル)−3−(4−カルバモイルフェノキシ)−7−
オキソ−4−チア−1−アザビシクロ〔6,2゜0〕へ
ブタ−2−エン−2−カルボキシレート200m9の4
−二トロベンジル5R,,5−(4−カルバモイルフェ
ノキシ) −68−(IR−ヒドロキシエチル)−7−
オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へ
]ブター2−エンー2−カルボキシレーの乾燥テトラヒ
ドロ7ラン5−中の20℃の懸濁液に5m9の4−ジメ
チルアミノピリジンおよび389μtの無水酢酸を添加
した。
その混合物を15分間攪拌し次いで酢酸エチルと水の間
に分配した。その有機層を水性重炭酸ナトリウム溶液、
水、ブラインで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥しそ
して蒸発乾個した。
残留物をシリカゲルでのクロマトグラフィにがけそして
ヘキサン/酢酸エチル/アセトニトリル混合物で溶出し
て157mgの標題化合物を得た。
νmax(CDCtx)  1793cIIL−’IH
NMR(CDC43)δ1.42(3H2d J=6.
4Hz)、  2−05(3H1s)+3.91(IH
,ddJ−1,5およびZ6Hz)、 5.2(IH,
m)、5.23および5.59(2H,AB J=15
.7Hz)、  5.64(IH,d J=1.5Hz
)、 5.9 (2H、幅広S)、  7.19および
7.83(4H,AA BB/J−8,8Hz)、  
7.52およびδ18(4H,AA’ BB’ J=8
.8Hz)実施例 69 カリウム5R,68−(IR−アセトキシエチル)−3
−(4−カルノドモイルフェノキシ)−7−オキソ−4
−チア−1−アザビシクロ[:3.2.0)へブタ−2
−エン−2−カルボキシレート 150mgの4−二)l:IベンジルSR+68− (
IR−アセトキシエチル)−3−(4−カルバモイルフ
ェノキシ)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ
[3,2,0)へブタ−2−エン−2−カルボキシレー
ト、5−のジオキサン、5−の水。
150TnIiの炭素担持10%パラジウム、および2
a5■の重炭酸カリウムの混合物を室温で60分間3気
圧の水素下に水素添加分解し次いで珪藻土を通して濾過
した。炉液の凍結乾燥により得られた黄色固体を水に溶
解しそして酢酸エチルで抽出した。水層の凍結乾燥によ
り99■の標題化合物を得た。
IHNMR(D20)δ1.5B(3H,d J−6,
4Hz)、  2.14(3H,S)。
4.21(IH,ad、y−1,4および5.4Hz)
、  5.3(IH,m)、 5.82(IH,d J
 =1.4Hz)、  754および7.88(4H,
AA’ BB’ Jm9Hz ) 実施例 40 S−フェニル4−(アセトキシ)チオベンゾエート 銅(1)チオフェノキサイド(4,06,?)を4−ア
セトキシベンゾイルクロライド(4,67F)の乾燥ア
セトニトリル(40m/)中の溶液に添加した。その混
合物を2時間還流加熱し、そして溶媒を真空蒸発した。
残留物を酢酸エチルにとりそして濾過された溶液を冷冷
アンモニア溶液、水およびブラインで洗った。硫酸マグ
ネシウムで乾燥した溶液を蒸発して目的とするチオエス
テル(5,51)を得た。
IHNMR(CDC4,)δ2.30(3H,s)、 
7.00−7.60(5H,m)。
7.14.7.98(4H,AA’ BB’ 、J=9
Hz)実施例 41 S−フェニル4−(ヒドロキシ)チオベンゾエート テトラヒドロフラン中のS−フェニル4−(アセトキシ
)チオベンゾエート(5,51)を25WLtの5.6
M塩酸で処理し1そして室温で一夜攪拌した。溶媒を真
空蒸発して得られた生成物をカラムクロマトグラフィ(
シリカ;溶出剤としては酢酸エチル/ヘキサン混合物を
用いる)により精製して標題化合物(4,08g)を得
た。
iHNMR(d6−DMSO)δ7.58(5H,幅広
S)、7.06. a03(4H,AA′BB’、 J
−9Hz)実施例 42 S−フェニル4−(クロロチオカルボニルオキシ)チオ
ベンゾエート 水酸化ナトリウム(1,551i’)の水1501nt
中の溶液を激しく攪拌しなからa8gのS−フェニル4
−(ヒドロキシ)チオベンゾエートおよび5.70m1
のチオホスゲンのクロロホルム25〇−中の溶液に滴加
し、温度は10℃以下に保った。その混合物を室温で2
時間攪拌しそして有機層を分離した。その有機層を水お
よびブラインで順次洗浄し、塩化カルシウムで乾燥し、
そして真空蒸発軟部して11.57Fの標題化合物を得
た。
νmaX(フィルム)1665儂−1 ’HNMR(CDC43)δ 7.28.a14(4H
,AA’ BB’ 、J=9Hz入7.40−7.58
(5H,m) 実施例 46 4−ニトロベンジル2− (3(S) −(’1 (R
)−ジメチル−(2−メチルプロプ−2−イル)−シリ
ルオキシエチル)−4(R)−エチルチオアゼチジン−
2−オン−1−イル)−3−(4−(フェニルチオ−(
カルボニル))−フェノキシ)−3−1リメチルアセチ
ルチオプロベノエート 4−ニトロベンジル2− (3(S) −(1(R)−
ジメチル−(2−メチルプロプ−2−イル)−シリルオ
キシエチル) −4(R)−エチルチオアゼチジン−2
−オン−1−イル〕アセテート(591g)およびS−
フェニル4−(クロロチオカルボニルオキシ)チオベン
ゾエート(5g)の乾燥テトラヒドロフラン中の一40
℃のアルゴン下の攪拌溶液K 5.11rLtのへキサ
メチルジシラザンと15.2iのD−ブチルリチウムの
1.6Mヘキサン溶液との混合物の乾燥テトラヒドロフ
ラン中の溶液を添加した。その混合物を一40℃で20
分間攪拌しそして6.06−のトリメチルアセチルブロ
マイドを添加した。−40℃で更に1時間攪拌後、その
混合物を冷0,1M水性塩酸に注ぎそしてエーテルで抽
出した。合一有機層を飽和重炭酸ナトリウム、ブライン
で洗い1次いで硫酸マグネシウムで乾燥しそして蒸発軟
部した。シリカゲルでのクロマトグラフィにかけヘキサ
ン/酢酸エチル混合物で溶出して標題化合物(5,01
)を得た。
1HNMR(CDCL 5 )δ0.01.0.02(
6H,2s)、  0.77、0.83(9H。
2s)、  1.03.111(9H,2s)、1.1
5−1.50(6H,m)、  2.50−2.85(
2H,m)、  3.15−3.25(1H,m)、 
 4.15−4.25(IH,m)。
5.20−5.45(3H,m)、  6.85−7.
60(9H,m)、7.9O−a25(4H,m) 実施例 44 4−ニトロベンジル2− (4(R)−エチルチオー6
(S) −(1(R)−ヒドロキシエチル)−アゼチジ
ン−2−オン−1−イル)−3−[4−(フェニルチオ
−(カルボニリ)−フェノキシ:]−1−トリメチルア
セチルチオゾロベノエート 5.04#の4−ニトロベンジル2−[3(S)−(1
(R)−ジメチル−(2−メチルプロプ−2−イル)−
シリルオキシエチル)−4(R)−エチルチオアゼチジ
ン−2−オン−1−イル)−3−(4−(フェニルチオ
(カルボニル))−フェノキシクー3−トリメチルアセ
チルチオプロペノエートのテトラヒドロフラン8〇−中
の室温の攪拌溶液に5mlの水と5 w+lの濃塩酸を
添加した。その混合物をt、 1. C,が反応が完了
したことを示すまで攪拌した。その混合物を酢酸エチル
および水の間に分配し1分離した有機層を重炭酸ナトリ
ウム溶液およびブラインで洗いそして硫酸マグネシウム
で乾燥した。濾過された溶液を蒸発した後。
残留物をクロマトグラフィ(シリカゲル、溶出剤として
酢酸エチル/ヘキサン混合物を用いる)にかけて標題化
合物(2,71)を得た。
生成物は核磁気共鳴スはクトルにおいて二重ピークとし
て観察されるEおよび2異性体の混合物として単離され
る。必要に応じて、それらEおよび2異性体はクロマト
グラフィにより分離できる。
IHNMR(cDcz、)δ1.12.1.19(9H
,s)、  1.25−1.45(6H。
m)、  ts8,1.5o(1n、2a、幅広s)、
 2.67−2.90(2H,m)。
3.27−3.33(IH,m)、 4.22−4.5
0(IH,m)、 5.25−5.47(3H。
m入 7.08−7.68(9H,m)、 7.99−
8.35(4H,m)マイナーなプロズノエート異性体
による小さな信号も検出できた。
実施例 45 4−ニトロベンジル2−(4(S)−クロロ−3(S)
−(1(R)−ヒドロキシエチル)−アゼチジン−2−
オン−1−イル]−3−(4−(フェニルチオ−(カル
ボニル))−フェノキシシー6−ドリメチルアセチルチ
オプロにフェート 2.75.rの4−二トロベンジル2− [4(R)−
エチルチオ−3(S)−(1(R)−ヒドロキシエチル
)−アゼチジンー2−オンー1−イル) −3−114
−(フェニルチオ−(カルボニル))−フェノキシシー
3−トリメチルアセチルチオプロはフェートの乾燥クロ
ロホルム25−中の一40℃の攪拌溶液に5.6ミリモ
ルの塩素の四塩化炭酸7−中の溶液を添加しそしてその
溶液を60分間攪拌した。反応混合物を室温に到らしめ
、そして蒸発軟部した。残留物のクロマトグラフィ(7
リカゲル、溶出剤としてヘキサン/酢酸エチル混合物を
用いる)によシ標題化合物(1,98&)を得た。
’H]!JMR(CDC65)δ1.09(9H,s)
、  1.41(3H,d、 J=6.3Hz)。
2.30(IH,幅広S)、  3.54(IH,dd
、J=4.3Hzおよび9.6Hz)、4.27−4.
40(IH,m)、  5.34(2H,明らかなS)
6.16(IH,d、 、T−4,3Hz)、 7.0
8−7.63(9H,m)、  7.98−a2B(4
H,m) 実施例 46 4−ニトロベンジル5 (R) 、 6 (S)’−(
1(R)−ヒドロキクエチル〕−7−オキンー5−C4
−Cフェニルチオ−(カルボニル))フェノキシクー4
−チア−1−アザビシクロC5,2,O:]へ]ブター
2−エンー2−カルボキシレー ト、5421/のイミダゾールを5.06.9の4−ニ
トロベンジル2− [: 4 (S)−クロロ−3(S
)−(1(R)−ヒドロキシエチル)−アゼチジン−2
−オン−1−イル)−3−[4−(フェニルチオ−(カ
ルボニル))フェノキシ)−3−)リメチルアセチルチ
オフロベノエートのジオキサン−水(9: 1 v/v
)中の5℃の攪拌溶液に添加した。攪拌を50分間続け
そしてその混合物を次いで室温に到らしめそして酢酸エ
チルおよび水の間に分配した。
有機層を冷冷塩酸、飽和重炭酸ナトリウムおよびブライ
ンで洗い、硫酸マグネシウムで乾燥しそ[7て真空蒸発
軟部した。残留物をシリカゲルでのクロマトグラフィに
かけそしてヘキサン/酢酸エチル混合物で溶出して標題
化合物(i24g)を得た。
ν、ax(CDC43) 1786 cm−’’ HN
1viR(CDC43)δ1.39(3H,d、J=6
.3Hz)、  180(IH4゜幅広s)、  3.
83(IH,dd、J=1.1’Hzおよび6.7Hz
)、 4.23−4.44(1B、m)、  5.22
,5.41(2H,ABq、J−13,7Hz)、5.
71(IH,d、 J=1.1Hz)、  7.22.
 δ05(4H,AA、’ BB’、 J=8.8Hz
)。
7.52.8.19(4H,AA’ BB’、J=8.
7Hz)、  7.40−7.54(5H,m)実施例
 47 4−ニトロベンジル5 (R)、 6(S)−(1(R
)−ヒドロキシエチル〕−7−オキソ−3−(4−(N
−プロピルカルバモイル)フェノキシシー4−チア−1
−アザビシクロ(3,2,0)へブタ−2−エン−2−
カルボキシレート 乾燥アセトニトリル中の14.5μtのn−プロピルア
ミンを51■の4−ニトロベンジル5(R)。
6(S)−CI (R)−ヒドロキシエチル〕−7−オ
キンー3−(4−(フェニルチオ−カルボニル)フェノ
キシシー4−チア−1−アザビシクロ(3,2,0)へ
ブタ−2−エン−2−カルボキシレートおよび34■の
銀トリフルオロメタンスルホネートの乾燥アセトニドI
jル中の冷(0℃)攪拌溶液に10分間にわたって滴加
した。その混合物を反応が完了するまで遮光して室温で
攪拌した。その溶液を濾過し、そしてそのろ液を真空蒸
発しそして残留物を溶出剤としてヘキサン/酢酸エチル
混合物を用いたシリカゲルでのクロマトグラフィにかけ
て23〜の標題化合物を得た。
、ma、、(cpct5 ) 1784 tx−’jH
NMR(CDCl2)δ 1.00(3H,t、J−7
,3Hz)、  1.38(3H。
rl、 J−6,3Hz)、  1.57−1.76(
2H,n+)、  3.37−3.49(2H。
m入 3.79(IH,dd、 J=1.4Hzおよび
6.8Hz)、  4.25−4.37(1H,m)、
  5.23,5.43(2H,ABq、J−13,8
Hz)、5.67(IH,d、 J−1,4Hz)、 
6.15(IH,t、 J =EL8Hz)、  7.
18゜778(4H,AA’aB’、J=a8Hz)、
  7.54.δ81(4H,AにBB’。
J−a8Hz) 実施例 48 4−ニトロベンジル5(R)、6(S)−[1(R,)
−ヒドロキシエチル)−3−(4−(N−メチルカルバ
モイル)フェノキシ〕−7−オキソー4−チア−1−ア
ザビシクロ[:3.2.0 ]へ]ブター2−エンー2
−カルボキシレー ト8rvの銀トリフルオロメタンスルホネートおよび0
.45ミリモルのメチルアミンを(エーテル溶液として
)用いて実施例47に記載のものと同様の手順をふむこ
とによδ87.5In9の4−二トロベンジル5(R)
、6(S) −C1(R)−ヒドロキシエチル) −3
−[4−(フェニルチオ−カルボニル〕−フェノキシ〕
−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロC6,2,
0〕〕ヘプター2−エンー2−カルボキシンーから44
ηの上記化合物が得られた。
νmax(cHczs) 1780 cm−’1a h
lR(δ4−アセトン)δ1.19(3+H,d、 J
=6.4Hz)、 2.86(3H,s)、  3.8
0(IH,dd、 J=1.5Hzおよび6.3Hz)
、4.06−4.17 (I H2m )1s、17.
5.34 (2H、A−B q 、J−14,2Hz 
i、5.74(I H# d 、J−1−5Hz )+
  72 Z 185 (4H、晶’ BB ’ 、J
 −8,8Hz )。
7.55.8.08(4H,AA! BB’、 J−a
8Hz)、  7.71(IH,幅広S)特許出願人 
 ヘキスト・ニー・ケイ・リミテッド外2名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1は水素原子または1〜4個の炭素原子を有
    するアルキル基を表わし、CONHR^1基はフエニル
    環の3−または4位に存在する) で表わされる化合物およびその2−カルボン酸基および
    /または8−ヒドロキシ基におけるエステル、およびそ
    の塩。 2)3−(4−カルバモイルフエノキシ)−6−(1−
    ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4−チア−1−アザ
    ビシクロ〔3,2,0〕ヘプタ−2−エン−2−カルボ
    ン酸。 3)3−(3−カルバモイルフエノキシ)−6−(1−
    ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4−チア−1−アザ
    ビシクロ〔3,2,0〕ヘプタ−2−エン−2−カルボ
    ン酸。 4)5R,3−(4−カルバモイルフエノキシ)−6S
    −(1R−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4−チア
    −1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘプタ−2−エン−
    2−カルボン酸。 5)5R,3−(3−カルバモイルフエノキシ)−6S
    −(1R−ヒドロキシエチル)−7−オキソ−4−チア
    −1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘプタ−2−エン−
    2−カルボン酸。 6)特許請求の範囲第1ないし5項のいずれかの1つの
    項に記載の式 I の化合物の2−カルボキシ基における
    エステル。 7)加水分解、光分解、還元またはエステラーゼ酵素作
    用により転化されて特許請求の範囲第1項記載の式 I
    の遊離酸を与える特許請求の範囲第6項記載のエステル
    。 8)特許請求の範囲第1項記載の遊離酸と合計20個以
    下の炭素原子を有する未置換または置換脂肪族アルコー
    ルまたはフエノールとの間で形成された特許請求の範囲
    第6項または第7項に記載のエステル。 9)2位のエステル化されたカルボキシ基が−COOR
    ^2基(式中R^2はアシルオキシ基により、アミノア
    ルカノイルオキシ基により、または所望により置換され
    た2−アミノ基により (R^2がエチルの場合)、または1または2個以上の
    未置換または置換フエニル基により置換されたメチルま
    たはエチル基を表わす)である特許請求の範囲第6ない
    し8項のいずれかの1つの項に記載のエステル。 10)フエニル基がニトロ基およびハロゲン原子から選
    択された1または2個以上の置換分により置換される特
    許請求の範囲第9項記載のエステル。 11)R^2がベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズ
    ヒドリルまたはトリチル基である特許請求の範囲第10
    項記載のエステル。 12)エステル基を生理学的条件下にエステラーゼ酵素
    作用により除去できそれによつて遊離酸またはカルボキ
    シレート塩が得られる特許請求の範囲第7項記載のエス
    テル。 13)アシルオキシメチルまたは1′−(アシルオキシ
    )エチルエステル、5−メチルジオキサレン−2−オン
    −4−イル−メチルエステル、アミノアルカノイルオキ
    シメチルエステル、フタリジルエステル、1′−(アル
    コキシカルボニルオキシ)エチルエステル、または所望
    により置換された2−アミノエチルエステル、またはア
    ルコキシカルボニルオキシメチルエステルである特許請
    求の範囲第12項記載のエステル。 14)グリシルオキシメチル、L−バリルオキシメチル
    、L−ロイシルオキシメチル、1′−(メトキシカルボ
    ニルオキシ)エチル、2−ジエチルアミノエチルまたは
    2−(1−モルホリノ)−エチルエステルである特許請
    求の範囲第13項記載のエステル。 15)特許請求の範囲第1項記載の化合物のp−ニトロ
    ベンジル、フタリジル、ピバロイルオキシメチル、エト
    キシカルボニルオキシメチル、5−メチルジオキサレン
    −2−オン−4−イル−メチル、アセチルメチル、アセ
    トキシメチル、1′−(アセトキシ)エチル、1′−(
    アセチル)エチルまたは1′−(エトキシカルボニルオ
    キシ)−エチルもしくは−メチルエステル。 16)特許請求の範囲第1項記載の化合物の塩。 17)特許請求の範囲第1項記載の化合物の生理学的に
    許容しうる塩。 18)アルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、アンモ
    ニウム塩、有機アミンとの塩、または生理学的に許容し
    うる酸付加塩である特許請求の範囲第17項記載の塩。 19)8−ヒドロキシ基がエステル化されている特許請
    求の範囲第1ないし18項のいずれかの1つの項に記載
    の化合物、エステルまたは塩。 20)8−エステル基が生理学的条件下に除去でき、例
    えば基R_xCO−(式中R_xは水素原子または1〜
    4個の炭素原子を有する直鎖状または分枝鎖状アルキル
    基を表わすか、またはフエニル基または、アルキル部分
    が直鎖状または分枝鎖状であり4個以下の炭素原子を有
    するフエノキシアルキル基を表わす)である特許請求の
    範囲第19項記載の化合物。 21)特許請求の範囲第2、3および5項のいずれか1
    つの項に記載の化合物の特許請求の範囲第6ないし20
    項のいずれかの1つの項に記載のエステルまたは塩。 22)特許請求の範囲第4項記載の化合物の特許請求の
    範囲第6ないし20項のいずれかの1つの項に記載のエ
    ステルまたは塩。 23)5位の立体化学がR、6位の立体化学がS、そし
    て8位の立体化学がRである特許請求の範囲第1ないし
    20項のいずれかの1つの項に記載の化合物、エステル
    または塩。 24)式IIまたは式IX ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (式中Rは水素原子またはカルボキシ保護基を表わし、
    R^3は活性化されたカルボン酸基を表わし、R^4は
    1〜4個の炭素原子を有するアルキル、または置換され
    ていなくてもまたは塩素および弗素原子、シアノおよび
    ニトロ基、およびアルコキシ基から選択される同一かま
    たは異なる1または2個以上の置換分により置換されて
    いてもよいフエニル基を表わし、R^1^5はフエニル
    基または1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
    し、そしてXは酸素または硫黄原子を表わす) で表わされる化合物を式III R^1NH_2(III) (式中R^1は特許請求の範囲第1項に定義されたとお
    りである) で表わされるアミンと反応させて特許請求の範囲第1項
    記載の化合物または式 I a ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) (式中R^2はカルボキシ保護基を表わす)で表わされ
    るそのエステルとし、次の諸工程、すなわち、 a)式 I aのエステルを加水分解して相当する式 I の
    遊離酸とする工程、 b)式 I の遊離酸またはその塩を例えばアルコール、
    フエノール化合物またはその反応 性誘導体と共にエステルを形成しうる剤と 反応させて式 I aのエステルとする工程、 c)式 I aのエステルに対し酸または塩基で触媒され
    たエステル交換を行つて式 I aの異なるエステルとす
    る工程、 d)式 I の遊離酸を塩基と反応させて2位のカルボン
    酸基を塩とする工程、 e)式 I の遊離酸または塩基性基を有する式 I aのエ
    ステルを酸と反応させてその酸付加塩とする工程、 f)式 I aのエステルからエステル基を塩形成剤、例
    えばアルカリ金属塩、の存在下に加 水分解して式 I の化合物の塩とする工程、 g)式 I の化合物の塩を酸と反応させて式 I の遊離酸
    とする工程、および h)式 I の化合物またはその塩、または式 I aのエス
    テルを有機酸と反応させて8位にエ ステル化されたヒドロキシ基を有する式 I の化合物または式 I aのエステルとする工程のうちの
    任意の1または2以上の工程を任意の所望の順序で行う
    ことよりなる特許請求の範囲第1項記載の式 I の化合
    物、2−カルボキシ基および/または8−ヒドロキシ基
    におけるエステル、またはその塩の製造方法。 25)化合物IIの活性化されたカルボン酸基R^3が式
    −COXR^4(式中Xは酸素または硫黄原子を表わし
    そしてR^4は4個以下の炭素原子を有するアルキル基
    、または置換されていなくても、あるいは塩素および弗
    素原子、シアノおよびニトロ基およびアルコキシ基から
    選択される同一かまたは異なる1または2個以上の置換
    分により置換されていてもよいフエニル基を表わす)で
    表わされる基であり、式IV ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中Rは特許請求の範囲第24項に定義されたとおり
    である) で表わされる化合物を与える特許請求の範囲第24項記
    載の方法。 26)式IVの化合物を式IX ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (式中R、XおよびR^4は前記定義のとおりであり、
    そしてR^1^5はフエニル基または4個以下の炭素原
    子を有するアルキル基を表わす)で表わされる化合物を
    pKa≧5を有する塩基で処理することにより製造する
    特許請求の範囲第25項に記載の方法。 27)式IXの化合物を式VIII ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中R、X、R^4およびR^1^5は前記定義のと
    おりであり、そしてR^1^4はフエニル基または4個
    以下の炭素原子を有するアルキル基を表わす) で表わされる化合物を塩素化することにより製造する特
    許請求の範囲第24項または第26項記載の方法。 28)式VIIIの化合物を、ヒドロキシ保護基R^1^3
    を式VII ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中R、X、R^4、R^1^4およびR^1^5は
    前記定義どおりであり、そしてR^1^3はヒドロキシ
    保護基を表わす) で表わされる化合物から除去することにより製造する特
    許請求の範囲第27項記載の方法。 29)式VIIの化合物を、式VI ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R、R^1^3およびR^1^4は前記定義どお
    りである) で表わされる化合物をpKa>20を有する塩基の存在
    下に式X ▲数式、化学式、表等があります▼(X) (式中XおよびR^4は前記定義どおりである)で表わ
    される化合物と反応させ、次いで前記定義どおりの基R
    ^1^5を含む活性化されたカルボン酸誘導体、例えば
    式X I ▲数式、化学式、表等があります▼(X I ) (式中R^1^5は前記定義どおりでありそしてR^1
    ^6は塩素または臭素原子を表わす) で表わされるアシルハライドと反応させることにより製
    造する特許請求の範囲第28項記載の方法。 30)特許請求の範囲第1項記載の式 I の化合物、そ
    の2−カルボン酸基および/または8−ヒドロキシ基に
    おけるエステル、またはその生理学的に許容しうる塩を
    薬学的に適当な担体と混合または結合してなる薬学的製
    剤。 31)特許請求の範囲第4項記載の化合物または特許請
    求の範囲第22項記載のエステルまたは塩を薬学的に適
    当な担体と混合または結合してなる特許請求の範囲第3
    0項記載の薬学的製剤。 32)特許請求の範囲第1項記載の化合物、エステルま
    たは塩の細菌感染症治療用医薬の製造のための用塗。 33)式XII ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) (R、R^1^3、R^1^4およびR^1^5は前記
    定義どおりであり、そしてR^2^3はカルボキシ保護
    基を表わす) で表わされる化合物。 34)式XIII ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) (式中R、R^1^4およびR^1^5は前記定義どお
    りである) で表わされる化合物。 35)式XIV ▲数式、化学式、表等があります▼(XIV) (式中RおよびR^1^5は前記定義どおりである)で
    表わされる化合物。 36)式V ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中Rは前記定義どおりである) で表わされる化合物。
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