JP2014514272A - 触媒移動水素化分解によるc−o結合の還元 - Google Patents

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Abstract

本発明は、ベンジル型のアルコール、アリル型のアルコール、エステル、若しくはエーテルであり得る、またはヒドロキシル基に対してベータ若しくはカルボニル基に対してアルファのエーテル結合であり得る基質において、C−O結合を対応するC−H結合に還元する方法に関する。
【選択図】図1

Description

本発明は、ベンジル型のアルコール、エステル、エーテル、及びオレフィンを対応する炭化水素に還元する方法論に関する。
アルコールの対応する炭化水素への還元は、通常連続的2段階で行われる。最初に、ヒドロキシルを反応させて、スルホネート、ハロゲン化物またはエポキシドを生成して、次いで、これらの誘導体を還元剤と反応させる(S.Hanessian,1996)。代替の方策には、硫黄操作されたヒドロキシル基のバートン−マクコンビー(Barton−MacCombie)ラジカル還元が含まれる(S.Z.Zard,1997)。アルコールをケトンに酸化することによって、ウォルフ−キシュナー(Wolf−Kischner)またはクレメンゼン(Clemmensen)の還元は、対応する炭化水素を生成する(D.Todd,1948,E.L.Martin,1942)。これらの方法論のすべては、2段階プロセスであること、及び化学量論的量の反応剤が用いられる事実という欠点をもつ。
アルコールのそれらの対応するアルカンへの正規の触媒還元は、有機化学において希な転換である。殆どの研究は、パラジウムに基づく遷移金属を用いてきたが(H.van Bekkum,1971,2007)、ルテニウム(M.Schlaf,2009)、及びロジウム(R.Prins,2000)も報告されている。伝統的に、アルカン及び副生物として水を生成させるために、水素ガスが触媒水素化分解で用いられてきた。
アルコールの対応する炭化水素への正規の還元も、高い反応温度及び圧力で脱離−還元方法論によって行われ得る(G.W.Huber,2004,J.A.Dumesic,2006,2007,2008,2009)。
最近になって、ギ酸が、水素の供給源として用いられてきており、その反応は、触媒移動水素化分解と称される(H.Chen,2009,G.Lu,2006)。水素供給源としてのギ酸の使用は、取扱い、輸送、及び貯蔵に関して多くの利点を有し、水素ガスと二酸化炭素とから容易に生成させ得る(P.G.Jessop,2004)。更に、ギ酸は、爆発性でなく、メタノールと比べて有害でない。生成した二酸化炭素は、水素ガスの付加によってギ酸に再生することができ、この反応は原子効率的であり、水だけが正味の反応中の副生物として形成される。ギ酸が、アルコールの移動水素化分解における還元剤として用いられた、報告された手順の問題は、プロセスの効率性を制限する競争不均化反応である。実際、本発明者らは、報告された報告された移動水素化分解が、タンデム不均化及び移動水素化分解のプロセスであり、ここでは、不均化から形成されたケトンは、移動水素化によって連続的に還元されて、アルコールを再生することを見出した。即ち、アルコールは、ギ酸を上回って水素ドナーとして好ましい。即ち、50%炭化水素を生成する反応は速く、ギ酸が移動水素化においてケトンをアルコールに還元するより遅いプロセスが続き、移動水素化分解が続く(図1)。
本発明の目的は、競争不均化が抑制される、第一級、第二級、及び第三級アルコールの移動水素化分解を行う方法を提供することである。これは、本発明者らの知識にとって、決して前に提示されなかったものである。
本発明は、限定されるものではないが、ベンジル型またはアリル型のアルコール、エステル、カルボニルまたはエーテルの還元、及び更に、ベンジル型またはアリル型のアルコール、エステル、カルボニルまたはエーテルからなる物質の還元及び解重合に関して任意の用途で使用され得る。本発明は、精密化学の供給原料または燃料添加剤として使用され得る炭化水素モノマーを生成するためのリグニンの解重合から、限定されるものではないが、活性医薬成分、芳香剤、若しくは可塑剤への前駆体、または活性医薬成分、芳香剤、若しくは可塑剤を含む任意の化合物の合成において前記官能基から脱酸素するプロセスに及ぶ多種多様な用途で使用され得る。
本発明の一態様は、1種は水である少なくとも2種の溶媒を含む溶媒混合物中水素ドナー、金属触媒及び塩基を用いて、基質においてC−O結合を対応するC−H結合に還元する方法に関する。
別の態様は、1種は水である少なくとも2種の溶媒を含む溶媒混合物中水素ドナー、金属触媒と、二酸化炭素を含む雰囲気とを用いて、基質においてC−O結合を対応するC−H結合に還元する方法に関する。
上述の態様の好ましい実施形態が、以下に記載されるが、以下の実施形態はすべて、上記態様の両方ともに言及することが理解されるべきである。
一実施形態において、水素ドナーは、ギ酸または水素ガスである。
別の実施形態において、溶媒の1種は、極性、非極性、プロトン性または非プロトン性溶媒である。
別の実施形態において、溶媒の1種は、メタノール、エタノール、ベンゼン、THFまたはトルエンから選択される。
別の実施形態において、溶媒混合物は、エタノール及び水を含む。
別の実施形態において、溶媒混合物は、メタノール及び水を含む。
別の実施形態において、溶媒混合物は、ベンゼン及び水を含む。
別の実施形態において、塩基は、無機塩基または有機塩基である。
別の実施形態において、水素ドナーは、ギ酸または水素ガスである。
別の実施形態において、水素ドナーは、水素ガスでない。
別の実施形態において、塩基の量は、基質の量に対して化学量論的でない。
別の実施形態において、塩基の量は、基質がカルボニルに対してアルファ位またはアルコールに対してベータ位の何れかに位置するエーテルでない限り、基質の量に対して化学量論的でない。
別の実施形態において、反応は、少なくとも40℃、好ましくは70〜100℃の温度で行われる。
別の実施形態において、触媒は、好ましくはパラジウムをベースとした、遷移金属触媒である。
別の実施形態において、基質は、ベンジル型のアルコール、エステル、またはエーテルである。
別の実施形態において、ベンジル型アルコールは、第一級、第二級または第三級のアルコールの何れかである。
別の実施形態において、ベンジル型アルコールのフェニル基は、オルト、メタまたはパラ位の何れかで置換されている。
別の実施形態において、基質は、オレフィンである。
別の実施形態において、基質は、ポリマーである。
別の実施形態において、基質は、バイオポリマーである。
別の実施形態において、基質は、リグニンである。
別の実施形態において、基質は、リグノスルホネートである。
別の実施形態において、反応は、二酸化炭素の超過圧力で行われる。
別の実施形態において、反応は、炭(charcoal)上のパラジウムを用いて行われる。
本発明は、大きい分子中ベンジル型のアルコール、エーテル、及びエステルの官能基(単数)/官能基(複数)に基づく物質を解重合するために使用され得る。
本発明は、リグニン中のベンジル型のアルコール、エーテル、オレフィン、及びエステル官能基(単数)/官能基(複数)に基づく物質を解重合するために使用され得る。
本発明は、酸化グラフィンをグラフェンに還元するために使用され得る。
本発明は、炭水化物の二量体または多量体を解重合及び還元するために使用され得る。
本発明は、ベンジル型アルコールを還元して、対応する炭化水素を良から優の収率でもたらすために使用され得る。
別の実施形態において、1:1から10:1の比の任意の溶媒(プロトン性、非プロトン性、極性または非極性)と水とからなる溶媒混合物が用いられる。
別の実施形態において、触媒は、0.1〜10mol%で用いられる。
別の実施形態において、ギ酸は、アルコールに対して1〜5当量で用いられる。
別の実施形態において、炭上のパラジウムは、基質との反応前に、塩基(有機、無機、強または弱)に曝される。
別の実施形態において、水素ガスは、ベンジル型アルコールの水素化分解において、単独でまたはギ酸と組み合わせて用いられる。
図1は、本発明による方法の図である。1−フェニルエタノールの移動水素化分解を、触媒がアルコールを対応するケトンに脱水素する、タンデム水素移動プロセスとして見ることができる。このプロセスによって、反応は、速い段階で50%転化まで進行する。この初期の不均化後、水素移動プロセスが行われて、ケトン及びギ酸からアルコールを再生する。 図2は、明らかな移動水素化分解が、実際に1当量のアルコールが、0.5当量の炭化水素及び0.5当量のケトンを生成する不均化である図である。化学量論的量の塩基によって、不均化または移動水素化分解のいずれも起こらない。触媒量の塩基の使用は、15%未満のケトンが反応中に認められる効率的な移動水素化分解を生じる。 図3は、塩基の負の電荷のために、ギ酸塩がパラジウムの空配位場所に対して競争し、従って、アルコールが配位する、不均化経路を抑制する図である。当モルの塩基によって、ハロゲン化物及びエステルと対照的にアルコールに対する反応性は認められないが、ヒドロキシル基の不十分な脱離能のためである。 図4は、シリーズ1は、エチルベンゼンに対応し、シリーズ2は、アセトフェノンに対応する図である。
本発明において、「水素ドナー」という用語は、水素原子を別の物質または化合物に与えるまたは移行させる物質または化合物と解釈されるべきである。
本発明は、基質を還元する方法であって、前記基質は、限定されるものではないが、対応する炭化水素に対する、第一級、第二級及び第三級のベンジル型若しくはアリル型アルコール、ベンジル型若しくはアリル型エーテル、ベンジル型若しくはアリル型カルボニル、及びベンジル型若しくはアリル型エステル、またはオレフィンであり得る方法である。好ましくは、基質は、第一級よりはアリル型アルコールがより好ましいことを別にすれば、第二級または第三級アルコールである。
概略の方法は、触媒を反応フラスコまたは容器に加えることを含む。溶媒の1種は水である少なくとも2種の溶媒の溶媒混合物、及び塩基を加える。次いで、この混合物を加熱し、続いて、水素ドナーを添加し、基質を還元する。次いで、反応を停止またはクエンチし、得られた生成物を単離し、好ましくは乾燥させる。
フェニル基は、オルト、メタまたはパラ位で置換されていてもよい。反応は、遷移金属触媒(Pd、Pt、Rh、例えば、Pd/CまたはRh/C)を用いて行って、炭化水素を良(45〜65%収率)から優(65〜100%収率)の収率で生成し、副生物としては水だけである。本発明による還元生成物の収率は、しばしば、90%を超え、しばしば100%である。触媒の量は、0.5から20mol%、例えば、0.5mol%以上、若しくは1mol%以上、若しくは2mol%以上、若しくは4mol%以上、若しくは5mol%以上、若しくは8mol%以上、または20mol%以下、若しくは15mol%以下、若しくは12mol%以下若しくは10mol%以下であり得る。
反応は、従来の加熱またはマイクロ波オーブン中の加熱によって温和な反応条件(40℃〜100℃)下で行うことができるが、より高い反応温度で行うこともできる。反応は、少なくとも2種の溶媒を含む溶媒混合物中で行われる。これらの溶媒のうちの1種は、任意の溶媒(例えば、エタノール、メタノール、プロパノール、ベンゼン、THF、トルエン、DMF、DMSO、酢酸エチル)であることができ、他の溶媒は、水であり、好ましくは1〜10:1、例えば、1:1、2:1、3:1、4:1、5:1、6:1、7:1、8:1、9:1または10:1の比である。範囲は、1:1以上、若しくは2:1以上、若しくは3:1以上、若しくは4:1以上、または10:1以下、若しくは9:1以下、若しくは8:1以下、若しくは7:1以下、若しくは6:1以下であり得る。好ましい範囲は、2:1から6:1、または3:1から5:1である。
不均化を抑制するために、ギ酸または水素ガスなどの水素ドナー及び基質の添加前に、塩基または二酸化炭素が溶媒混合物及び触媒に添加されるべきである(塩基に関する機構検討については下記参照)。ギ酸などの水素ドナーの量は、1から5当量、例えば、1、2、3、4及び5当量であり得る。一実施形態において、水素ドナーの量は、1.5から4.5当量であり、別の実施形態において、水素ドナーの量は、2から4当量であり、更に別の実施形態において、水素ドナーの量は、2.5から3.5当量である。一実施形態において、水素ドナーは、水素ガスでない。
任意の塩基を用いることができ、限定されるものではないが、ギ酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム及びトリエチルアミンから選択される。塩基または二酸化炭素圧の任意の量を用いることができる。好ましくは、5mol%以上、若しくは10mol%超、若しくは20mol%超であるが、せいぜい50mol%、若しくは40mol%未満、若しくは30mol%未満の量の塩基である。しかしながら、基質がカルボニルに対してアルファ位またはアルコールに対してベータ位の何れかに位置するエーテルであるときに、化学量論的量の塩基がエーテル結合の切断に必要とされない限り、化学量論的量の塩基(基質に対して)は、反応性のすべてを抑制する(図2)。後者の場合に、基質がエーテルである場合、基質は、ベンジル型基質またはアリル型基質、好ましくはアリル型基質であり得る。
炭化水素の50%転化をもたらすために、不均化は、ギ酸の不存在下(及びまた存在下)で実現可能であることが留意されるべきである。塩基の存在下で、この不均化は、抑制され、アルコールが基質として用いられ、かつギ酸が添加されない場合、出発物質のみが回収される。ギ酸が塩基を含む反応混合物に添加される場合、容易な移動水素化分解が得られ、対応する炭化水素は、65〜100%収率で得られる。溶媒混合物は、溶媒に依存して、好ましくは40〜100℃、より好ましくは70〜100℃、より好ましくは75〜90℃、例えば、75℃、80℃、85℃、または90℃に加熱される。
二酸化炭素雰囲気を用いる場合、雰囲気は、酸素及び窒素などの他の化合物を含んでもよい。雰囲気は、二酸化炭素を含む空気、または二酸化炭素を含む不活性雰囲気(アルゴンまたは窒素ガスなど)であることができる。
ギ酸イオン(または他の塩基)は、パラジウムに配位し得る。この配位は、ベンジル型アルコールによるリガンド交換を抑制し、それにより、不均化経路も抑制する(図3、K>K)。化学量論的量の塩基が用いられない限り、不均化は完全には抑制されないので、本発明者らは、律速ではないが(KHCOOH/KDCOOH=1.07であるので)、[Pd−OCHO]錯体が、Pd−H錯体に直接分解しないと考える。Pd−Hは、酸による活性化の不存在下で移動水素化分解を促進することができないが、これは、ヒドロキシル基が脱離基であることを必要とするからである。ギ酸からのプロトンは、律速段階で中性PdH種を生成する(k>k)。これは、ギ酸の重水素同位体効果(KHCOOH/KHCOOD=2.66)を説明する。あるいは、ギ酸は、ベンジル型アルコールのヒドロキシル基をプロトン化する。恐らくは、両方のプロトン化の組合せが作用している。Pd触媒不均化のみが、ギ酸によって容易にされるという事実がこれを支持する。注目すべきは、ベンジル型エステルとハロゲン化物の両方ともの移動水素化分解が、ギ酸塩を用いて促進されることである。これらの基質に対するより大きい脱離能は、ベンジル型アルコールの場合におけるように事前のプロトン化を必要としない。
以下の基質、1−フェニルエタノール、2−フェニル−2−プロパン−2−オール、ベンジルアルコール、1−メトキシ−1−フェニルエタン、1−(フェニルエチル)ホルメート、スチレン、4−フェニル−3−ブテン−2−オール、フェニルメタンスルホン酸、3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキシエトキシ)フェニル)アクリルアルデヒド、エチル3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリレート、2−フェノキシ−1−フェニルエタノン及び1,4−ビス(ベンゾ[d][1,3]−ジオキソール−5−イル)ヘキサヒドロフロ[3,4−c]フランは、本発明による方法によって還元され得る基質の非限定的な例である。
実施例1:1−フェニルエタノールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%、42mg、0.021mmol)を反応フラスコ中に計量する。エタノール(2.4mL)及び水(0.6mL)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(6mg、0.095mmol、30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(50μL、1.05mmol、3当量)、次いで1−フェニルエタノール(50μL、0.42mmol)を注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例2:1−フェニルエタノールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。ベンゼン及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例3:1−フェニルエタノールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びに炭酸水素ナトリウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例4:1−フェニルエタノールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、二酸化炭素の雰囲気を適用する。反応フラスコを2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例5:2−フェニル−2−プロパン−2−オールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%、42mg、0.021mmol)を反応フラスコ中に計量する。エタノール(2.4mL)及び水(0.6mL)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(6mg、0.095mmol、30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(50μL、1.05mmol、3当量)、次いで2−フェニル−2−プロパン−2−オール(58μL、0.42mmol)を注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物イソプロピルベンゼンを、H NMRで分析し、98%収率で得た。
実施例6:ベンジルアルコールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%、42mg、0.021mmol)を反応フラスコ中に計量する。エタノール(2.4mL)及び水(0.6mL)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(6mg、0.095mmol、30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(50μL、1.05mmol、3当量)、次いでベンジルアルコール(43μL、0.42mmol)を注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物トルエンを、H NMRで分析し、70%収率で得た。
実施例7:1−フェニルエタン−1,2−ジオールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いでベンジルアルコールを注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物1−フェニル−2−プロパノールを、H NMRで分析し、60%収率で得た。
実施例8:1−メトキシ−1−フェニルエタンの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いでベンジルアルコールを注射器により添加する。反応を20分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、60%収率で得た。
実施例9:1−(フェニルエチル)ホルメートの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いでベンジルアルコールを注射器により添加する。反応を20分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、20%収率で得た。
実施例10:スチレンの移動水素化
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いでスチレンを注射器により添加する。反応を20分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例11:フェニルエタノールの水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。この溶液を水素ガスで5分間通気し、1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例12:水素化分解反応媒体中のフェニルエタノールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)を添加し、この溶液を水素ガスで5分間通気し、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例13:フェニルエタノールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにNaHCO(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)を添加し、この溶液を水素ガスで5分間通気し、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例14:フェニルエタノールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにトリエチルアミン(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)を添加し、この溶液を水素ガスで5分間通気し、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例15:フェニルエタノールの移動水素化分解における塩基の効果
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(パラジウムに対して0〜12当量)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)を添加し、この溶液を水素ガスで5分間通気し、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を12分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼン及びアセトフェノンを、内部標準を比較してH NMRで分析した(図1参照)。
実施例16:4−フェニル−3−ブテン−2−オールの移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにNaHCO(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)を添加し、この溶液を水素ガスで5分間通気し、次いで4−フェニル−3−ブテン−2−オールを注射器により添加する。反応を40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、100%収率で得た。
実施例17:フェニルメタンスルホン酸の移動水素化分解
Pd/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いでフェニルメタンスルホン酸(1当量)を注射器により添加する。反応を10〜40分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物トルエンを、H NMRで分析し、95%収率で得た。
実施例18:1−フェニルエタノールからエチルベンゼンの生成
Rh/C(5mol%)を反応フラスコ中に計量する。エタノール及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(30mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。ギ酸(3当量)、次いで1−フェニルエタノールを注射器により添加する。反応を4時間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物エチルベンゼンを、H NMRで分析し、50%収率で得た。
実施例19:3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリルアルデヒドから1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)エタノン及び3−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアルデヒドの生成
Pd/C(10mol%)を反応フラスコ中に計量する。酢酸エチル及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(2当量)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。基質3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリルアルデヒドを添加する。反応を120分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物をシリカカラムで精製して、90%超の収率で生成物を得た。
実施例20:3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリルアルデヒドから4−エチル−2−メトキシフェノール及び4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノールの生成
Pd/C(10mol%)を反応フラスコ中に計量する。酢酸エチル及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(2当量)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。基質3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリルアルデヒドを添加する。反応を120分間行い、次いで、3当量のギ酸を添加し、反応を80℃で1時間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物をシリカカラムで精製して、90%超の収率で生成物を得た。
実施例21:エチル3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリレートからエチル3−(4−ヒドロキシフェニル)プロパノエート及び1−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)エタノンの生成
Pd/C(10mol%)を反応フラスコ中に計量する。酢酸エチル及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(2当量)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。基質エチル3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリレートを添加する。反応を120分間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物をシリカカラムで精製して、90%超の収率で生成物を得た。
実施例22:エチル3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリレートからエチル3−(4−ヒドロキシフェニル)プロパノエート及び4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノールの生成
Pd/C(10mol%)を反応フラスコ中に計量する。酢酸エチル及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(2当量)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。基質エチル3−(4−(2−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−オキソエトキシ)フェニル)アクリレートを添加する。反応を120分間行い、次いで、3当量のギ酸を添加し、反応を80℃で1時間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物をシリカカラムで精製して、90%超の収率で生成物を得た。
実施例23:2−フェノキシ−1−フェニルエタノンからフェノール及びエチルベンゼンの生成
Pd/C(10mol%)を反応フラスコ中に計量する。酢酸エチル及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(2当量)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。基質2−フェノキシ−1−フェニルエタノンを添加する。反応を120分間行い、次いで、3当量のギ酸を添加し、反応を80℃で1時間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物をシリカカラムで精製して、90%超の収率で生成物を得た。
実施例23:1,4−ビス(ベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5−イル)ヘキサヒドロフロ[3,4−c]フランから2,3−ビス(ベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5−イルメチル)ブタン−1,4−ジオールの生成
Pd/C(10mol%)を反応フラスコ中に計量する。酢酸エチル及び水(4:1)からなる溶媒混合物、並びにギ酸アンモニウム(25mol%)を添加し、反応フラスコをゴム隔膜でふたをし、混合物を2分間加熱する(80℃)。基質1,4−ビス(ベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5−イル)ヘキサヒドロフロ[3,4−c]フランを添加する。反応を3当量のギ酸と4時間行い、反応をブラインでクエンチする。生成物をDCMで抽出し、有機相をNaSOで乾燥させる。生成物をシリカカラムで精製して、90%超の収率で生成物を得た。

Claims (13)

  1. 1種は水である少なくとも2種の溶媒を含む溶媒混合物中水素ドナー、金属触媒及び塩基を用いて、基質においてC−O結合を対応するC−H結合に還元する方法。
  2. 請求項1に記載の方法において、前記塩基が、無機塩基または有機塩基であることを特徴とする方法。
  3. 1種は水である少なくとも2種の溶媒を含む溶媒混合物中水素ドナー、金属触媒と、二酸化炭素を含む雰囲気とを用いて、基質においてC−O結合を対応するC−H結合に還元する方法。
  4. 請求項1乃至3の何れか1項に記載の方法において、前記水素ドナーが、ギ酸または水素ガスであることを特徴とする方法。
  5. 請求項1乃至4の何れか1項に記載の方法において、溶媒の1種が、極性、非極性、プロトン性または非プロトン性溶媒であることを特徴とする方法。
  6. 請求項1乃至5の何れか1項に記載の方法において、前記反応が、少なくとも40℃、好ましくは70〜100℃の温度で行われることを特徴とする方法。
  7. 請求項1乃至6の何れか1項に記載の方法において、前記触媒が、好ましくはパラジウムに基づく、遷移金属触媒であることを特徴とする方法。
  8. 請求項1乃至7の何れか1項に記載の方法において、前記基質が、オレフィンであることを特徴とする方法。
  9. 請求項1乃至7の何れか1項に記載の方法において、前記基質が、ベンジル型のアルコール、アリル型のアルコール、エステル、またはエーテルであることを特徴とする方法。
  10. 請求項1乃至7の何れか1項に記載の方法において、前記基質が、ポリマー、またはリグニンなどのバイオポリマーであることを特徴とする方法。
  11. 請求項1乃至10の何れか1項に記載の方法において、前記水素ドナーが、水素ガスでないことを特徴とする方法。
  12. 請求項1または2に記載の方法において、前記塩基の量が、前記基質の量に対して化学量論的量でないことを特徴とする方法。
  13. 請求項1または2に記載の方法において、前記基質が、カルボニルに対してアルファ位またはアルコールに対してベータ位の何れかで位置するエーテルでない限り、前記塩基の量が、前記基質の量に対して化学量論的量でないことを特徴とする方法。
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