JPS61177693A - 浮上型磁気ヘツドスライダ - Google Patents
浮上型磁気ヘツドスライダInfo
- Publication number
- JPS61177693A JPS61177693A JP1803285A JP1803285A JPS61177693A JP S61177693 A JPS61177693 A JP S61177693A JP 1803285 A JP1803285 A JP 1803285A JP 1803285 A JP1803285 A JP 1803285A JP S61177693 A JPS61177693 A JP S61177693A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- magnetic head
- head slider
- magnetic
- floating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる浮上型磁気ヘン
トスライダに係り、特に磁気ディスク媒体面に対する摩
擦抵抗を低減して、浮上時の安定性の向上を図った浮上
型磁気へ７ドスライダの構造に関するものである。
トスライダに係り、特に磁気ディスク媒体面に対する摩
擦抵抗を低減して、浮上時の安定性の向上を図った浮上
型磁気へ７ドスライダの構造に関するものである。
電子計算機等の外部記憶装置として用いられている磁気
ディスク装置は近年ますます大容量・高密度化の傾向に
あり、このため、特に磁気ディスク媒体より微小間隔を
保って情報を記録・再生する浮上型磁気ヘッドでは、動
圧型浮上へラドスライダに取付けられた構成で用いられ
ている。
ディスク装置は近年ますます大容量・高密度化の傾向に
あり、このため、特に磁気ディスク媒体より微小間隔を
保って情報を記録・再生する浮上型磁気ヘッドでは、動
圧型浮上へラドスライダに取付けられた構成で用いられ
ている。
磁気ディスク媒体に対する磁気ヘッドの浮上量は、高密
度化されるに従って小さくすることが要求され、最近で
はサブミクロン領域の浮上量を有する磁気ディスク装置
が実用化されつつある。
度化されるに従って小さくすることが要求され、最近で
はサブミクロン領域の浮上量を有する磁気ディスク装置
が実用化されつつある。
このようなサブミクロン領域の浮上量を保って浮上させ
るヘッドスライダとしては、磁気ディスク媒体面に対す
る浮上初期過程での走行性が良く、また浮上の安定性が
要求される。
るヘッドスライダとしては、磁気ディスク媒体面に対す
る浮上初期過程での走行性が良く、また浮上の安定性が
要求される。
従来、磁気ディスク装置に一般的に用いられている浮上
型磁気へ７ドスライダは、第７図に示すようにスライダ
本体１の、磁気ディスク媒体と対向する浮上面の空気流
入方向に沿う両側に、一対の浮上力発生用のサイドレー
ル２が配置され、スライダ本体１の空気流出端部に磁気
ヘッド３が付設されている。
型磁気へ７ドスライダは、第７図に示すようにスライダ
本体１の、磁気ディスク媒体と対向する浮上面の空気流
入方向に沿う両側に、一対の浮上力発生用のサイドレー
ル２が配置され、スライダ本体１の空気流出端部に磁気
ヘッド３が付設されている。
又、上記一対のサイドレール２面は、これら磁気ヘッド
スライダを磁気ディスク媒体面上に一定の浮上量で安定
に浮上維持させるために、鏡面仕上げが施されている。
スライダを磁気ディスク媒体面上に一定の浮上量で安定
に浮上維持させるために、鏡面仕上げが施されている。
しかしながら、上記のように両サイドレール２面が鏡面
仕上げされた構成の磁気ヘントスライダを、同じ（鏡面
を有する磁気ディスク媒体面上に、例えば停止時は磁気
ヘッドスライダをディスク媒体面に接触させておき、磁
気ディスク媒体の回転速度の上昇と共に浮上させる、所
謂Ｃ８Ｓ方式によって浮上動作を行うと、該両サイドレ
ール２面には摩擦抵抗を低減する潤滑手段が施されてい
ないため、浮上初期過程における摺動走行時に媒体鏡面
とスライダ鏡面の接触面積が大きくなり、摩擦抵抗が増
加することから当該ヘッドスライダの走行性が悪くなり
、場合によってはへ７ドスライダが跳ねたり、また横揺
れして浮上状態が不安定となる欠点があり、両者間の摩
擦抵抗の低減が要望されている。
仕上げされた構成の磁気ヘントスライダを、同じ（鏡面
を有する磁気ディスク媒体面上に、例えば停止時は磁気
ヘッドスライダをディスク媒体面に接触させておき、磁
気ディスク媒体の回転速度の上昇と共に浮上させる、所
謂Ｃ８Ｓ方式によって浮上動作を行うと、該両サイドレ
ール２面には摩擦抵抗を低減する潤滑手段が施されてい
ないため、浮上初期過程における摺動走行時に媒体鏡面
とスライダ鏡面の接触面積が大きくなり、摩擦抵抗が増
加することから当該ヘッドスライダの走行性が悪くなり
、場合によってはへ７ドスライダが跳ねたり、また横揺
れして浮上状態が不安定となる欠点があり、両者間の摩
擦抵抗の低減が要望されている。
上記問題点は、スライダ本体の浮上面の両側に具備した
各サイドレール面に切り欠き部を設け、かつ該切り欠き
部にカーボン等からなる潤滑性材料を埋設した構成より
成る本発明による浮上型磁気ヘントスライダによって解
決される。
各サイドレール面に切り欠き部を設け、かつ該切り欠き
部にカーボン等からなる潤滑性材料を埋設した構成より
成る本発明による浮上型磁気ヘントスライダによって解
決される。
即ち、従来、摩擦抵抗を小さくするために潤滑性に対す
る配慮が成されていなかった両サイドレール面に、切り
欠き部を設け、この切り欠き部にカーボン等からなる潤
滑性材料を埋設した構成とすることにより、磁気ディス
ク媒体面に対する摩擦抵抗を大幅に減少することが可能
となり、浮上型磁気ヘッドスライダの磁気ディスク媒体
面に対する安定な走行性と、浮上の安定性が向上する。
る配慮が成されていなかった両サイドレール面に、切り
欠き部を設け、この切り欠き部にカーボン等からなる潤
滑性材料を埋設した構成とすることにより、磁気ディス
ク媒体面に対する摩擦抵抗を大幅に減少することが可能
となり、浮上型磁気ヘッドスライダの磁気ディスク媒体
面に対する安定な走行性と、浮上の安定性が向上する。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る浮上型磁気ヘントスライダの一実
施例を示す概略斜視図である。
施例を示す概略斜視図である。
図において、１はフェライトからなるスライダ本体、２
は該スライダ本体１の磁気ディスク媒体と対向する浮上
面の空気流入方向に沿う両側に配設された一対の浮上力
発生用のサイドレールであり、３は磁気ヘッドである。
は該スライダ本体１の磁気ディスク媒体と対向する浮上
面の空気流入方向に沿う両側に配設された一対の浮上力
発生用のサイドレールであり、３は磁気ヘッドである。
又、鏡面仕上げが成された該両サイドレール２面には、
図示のように複数個の切り欠き部２１が設けられ、この
複数個の切り欠き部２１にカーボン等からなる潤滑性材
料２２が埋設され、更に該サイドレール２面に露出する
面は、サイドレール２鏡面と同一面に鏡面仕上げされて
いる。
図示のように複数個の切り欠き部２１が設けられ、この
複数個の切り欠き部２１にカーボン等からなる潤滑性材
料２２が埋設され、更に該サイドレール２面に露出する
面は、サイドレール２鏡面と同一面に鏡面仕上げされて
いる。
このように両サイドレール２面に潤滑性材料２２を埋設
し、かつその潤滑性材料２２面を同一平面状に露出させ
たヘッドスライダ構造とすることにより、磁気ディスク
媒体面に対する摺動走行時の摩擦抵抗が大幅に減少され
、磁気ディスク媒体面に対する安定な走行性を得ること
が可能となり、浮上量の安定化を図ることができる。
し、かつその潤滑性材料２２面を同一平面状に露出させ
たヘッドスライダ構造とすることにより、磁気ディスク
媒体面に対する摺動走行時の摩擦抵抗が大幅に減少され
、磁気ディスク媒体面に対する安定な走行性を得ること
が可能となり、浮上量の安定化を図ることができる。
尚、本発明のへ７ドスライダの構造としては上記した実
施例の構造に限定されることなく、例えば第２図に示す
ように一対の浮上力発生用のサイドレール３２を有する
スライダ本体３１の材質が、セラミックス等からなり、
該両サイドレール３２の空気流出端部に薄膜磁気ヘッド
３３が付設された薄膜磁気へ７ドスライダ等にも同様に
、両サイドレール３２面に潤滑性材料２２を埋設し、そ
の潤滑性材料２２面を同一平面状に露出させた構造とす
ることにより、第１図による実施例と同様の効果が得ら
れる。
施例の構造に限定されることなく、例えば第２図に示す
ように一対の浮上力発生用のサイドレール３２を有する
スライダ本体３１の材質が、セラミックス等からなり、
該両サイドレール３２の空気流出端部に薄膜磁気ヘッド
３３が付設された薄膜磁気へ７ドスライダ等にも同様に
、両サイドレール３２面に潤滑性材料２２を埋設し、そ
の潤滑性材料２２面を同一平面状に露出させた構造とす
ることにより、第１図による実施例と同様の効果が得ら
れる。
更に、第１図に示す構造の磁気へ７ドスライダを得るに
は、１例として第３図に示すように両サイドレール２が
形成され、かつ磁極部材３ａが付設されたスライダ本体
１の全媒体対向面に、スパッタリング法、或いはスピン
コード法等によりチタン（Ｔｉ）、或いはレジスト膜等
からなるマスク材層４１を被着形成する。
は、１例として第３図に示すように両サイドレール２が
形成され、かつ磁極部材３ａが付設されたスライダ本体
１の全媒体対向面に、スパッタリング法、或いはスピン
コード法等によりチタン（Ｔｉ）、或いはレジスト膜等
からなるマスク材層４１を被着形成する。
次に、第４図に示すように前記両サイドレール２面上の
マスク材層４１を、フォトリソグラフィエ程により図示
のように選択的にパターニングし、このパターニングマ
スク材層４１ａをマスクにして、イオンミーリング法な
どを用いて、複数個の切り欠き部２１を形成する。
マスク材層４１を、フォトリソグラフィエ程により図示
のように選択的にパターニングし、このパターニングマ
スク材層４１ａをマスクにして、イオンミーリング法な
どを用いて、複数個の切り欠き部２１を形成する。
しかる後、第５図に示すようにこれら切り欠き部２１を
含む前記全マスク材層４１上に、例えばカーボン材等か
らなる潤滑性材料２２をスパッタリング法、或いは化学
気相堆積法（ＣＶＤ法）などによって被着させる。
含む前記全マスク材層４１上に、例えばカーボン材等か
らなる潤滑性材料２２をスパッタリング法、或いは化学
気相堆積法（ＣＶＤ法）などによって被着させる。
次に、第６図に示すように前記バターニングマスク材層
４１ａをフォトリソグラフィ工程により選択的に除去し
た後、潤滑性材料２２が埋設された前記両サイドレール
２面を所定のギャップ深さｄとなるまでラッピングして
鏡面仕上げを行い、その後、前記磁極部３ａにコイル３
ｂを取付けることにより、本発明の目的とする磁気ヘッ
ドスライダを完成することができる。
４１ａをフォトリソグラフィ工程により選択的に除去し
た後、潤滑性材料２２が埋設された前記両サイドレール
２面を所定のギャップ深さｄとなるまでラッピングして
鏡面仕上げを行い、その後、前記磁極部３ａにコイル３
ｂを取付けることにより、本発明の目的とする磁気ヘッ
ドスライダを完成することができる。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る浮上型磁
気ヘッドスライダによれば、磁気ディスク媒体面に対す
る摺動走行時の摩擦抵抗が著しく減少され、優れた走行
性と、浮上量の安定化を図ることができ、実用上の効果
は頗る大きい。
気ヘッドスライダによれば、磁気ディスク媒体面に対す
る摺動走行時の摩擦抵抗が著しく減少され、優れた走行
性と、浮上量の安定化を図ることができ、実用上の効果
は頗る大きい。
従って、サイドレールを有する各種磁気へラドスライダ
に通用して極めて有利である。
に通用して極めて有利である。
第１図は本発明に係る浮上型磁気ヘッドスライダの一実
施例を示す概略斜視図、 第２図は本発明に係る浮上型磁気へ７ドスライダの他の
実施例を示す概略斜視図、 第３図乃至第６図は本発明に係る浮上型磁気へ７ドスラ
イの製造方法の一実施例を順 に説明するための要部断面図、 第７図は従来の浮上型磁気ヘッドスライダを説明するた
めの概略斜視図である。 図中、１．３１はスライダ本体、２．３２は一対の浮上
力発生用サイドレール、３は磁気ヘッド、２１は切り欠
き部、２２は潤滑性材料、３３第１図 第２図 第 ４ 図 第５図 第６図 第７図
施例を示す概略斜視図、 第２図は本発明に係る浮上型磁気へ７ドスライダの他の
実施例を示す概略斜視図、 第３図乃至第６図は本発明に係る浮上型磁気へ７ドスラ
イの製造方法の一実施例を順 に説明するための要部断面図、 第７図は従来の浮上型磁気ヘッドスライダを説明するた
めの概略斜視図である。 図中、１．３１はスライダ本体、２．３２は一対の浮上
力発生用サイドレール、３は磁気ヘッド、２１は切り欠
き部、２２は潤滑性材料、３３第１図 第２図 第 ４ 図 第５図 第６図 第７図
Claims (2)
- （１）浮上面の空気流入方向に、一対の浮上力発生用の
サイドレールを両側に備えるヘッドスライダの構成にお
いて、上記両サイドレール面に切り欠き部を設け、かつ
該切り欠き部に潤滑性材料を埋設したことを特徴とする
浮上型磁気ヘッドスライダ。 - （２）上記潤滑性材料がカーボンからなることを特徴と
する特許請求の範囲第（１）項に記載した浮上型磁気ヘ
ッドスライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1803285A JPS61177693A (ja) | 1985-01-31 | 1985-01-31 | 浮上型磁気ヘツドスライダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1803285A JPS61177693A (ja) | 1985-01-31 | 1985-01-31 | 浮上型磁気ヘツドスライダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61177693A true JPS61177693A (ja) | 1986-08-09 |
Family
ID=11960324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1803285A Pending JPS61177693A (ja) | 1985-01-31 | 1985-01-31 | 浮上型磁気ヘツドスライダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61177693A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63276769A (ja) * | 1987-05-08 | 1988-11-15 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッドスライダ |
| US5985163A (en) * | 1994-12-19 | 1999-11-16 | Seagate Technology, Inc. | Partially etched protective overcoat for a disk drive slider |
-
1985
- 1985-01-31 JP JP1803285A patent/JPS61177693A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63276769A (ja) * | 1987-05-08 | 1988-11-15 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッドスライダ |
| US5985163A (en) * | 1994-12-19 | 1999-11-16 | Seagate Technology, Inc. | Partially etched protective overcoat for a disk drive slider |
| US6014288A (en) * | 1994-12-19 | 2000-01-11 | Seagate Technology, Inc. | Partially etched protective overcoat for a disk drive slider |
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