JPH02201732A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH02201732A JPH02201732A JP2117989A JP2117989A JPH02201732A JP H02201732 A JPH02201732 A JP H02201732A JP 2117989 A JP2117989 A JP 2117989A JP 2117989 A JP2117989 A JP 2117989A JP H02201732 A JPH02201732 A JP H02201732A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体、特に非磁性基板に形成された溝
内に磁性材が充填されて記録トラック部が構成されるよ
うにした磁気記録媒体の製造方法に係わる。
内に磁性材が充填されて記録トラック部が構成されるよ
うにした磁気記録媒体の製造方法に係わる。
本発明は、非磁性基板に形成された溝内に磁性材が充填
されて記録トラック部が構成される磁気記録媒体の製造
方法において、非磁性基板上に、上記溝の形成部に開口
を有するフォトレジスト層を被着し、このフォトレジス
ト層をマスクとしてこのレジスト層の開口を通じて上記
非磁性基板に溝を形成しその後上記フォトレジスト層上
と上記溝内を含んで全面的に磁性材を被着し、フォトレ
ジスト層を除去することによってこのフォトレジスト層
上の磁性材を選択的に除去して溝内にのみ磁性材を被着
するようにして、溝及び磁性材の形成部を高精度に形成
することができるようにする。
されて記録トラック部が構成される磁気記録媒体の製造
方法において、非磁性基板上に、上記溝の形成部に開口
を有するフォトレジスト層を被着し、このフォトレジス
ト層をマスクとしてこのレジスト層の開口を通じて上記
非磁性基板に溝を形成しその後上記フォトレジスト層上
と上記溝内を含んで全面的に磁性材を被着し、フォトレ
ジスト層を除去することによってこのフォトレジスト層
上の磁性材を選択的に除去して溝内にのみ磁性材を被着
するようにして、溝及び磁性材の形成部を高精度に形成
することができるようにする。
非磁性基板に形成された溝内に磁性材が充填されて記録
トラック部を構成するようにした磁気記録媒体（以下デ
ィスクリートメディアと言う）の提案がなされている（
例えば特開昭５６〜１１９９３４号公報参照）。
トラック部を構成するようにした磁気記録媒体（以下デ
ィスクリートメディアと言う）の提案がなされている（
例えば特開昭５６〜１１９９３４号公報参照）。
この種のディスクリートメディアは、記録トラック間を
充分小としても互いのトラック間の磁気的影響すなわち
クロストークを効果的に抑えられることから高密度記録
化が期待される。またこの種ディスクリートメディアに
おいては、磁気ヘッドの、目的とする磁気トラックへの
アクセスを正確に行い得るという利点がある。さらにま
たこの種メディアにおいては、その溝内に形成された磁
性材表面を媒体面から後退して設は得ることから、これ
をハードディスクとして用いる場合においてこのディス
クの回転開始及び停止時におけるこのハードディスクに
対する浮上型磁気ヘッドの磁性層に対する直接的接触を
回避し得ることによって耐久性の向上をはかることがで
きるとされ、実用上大きな利点を有すると考えられる。
充分小としても互いのトラック間の磁気的影響すなわち
クロストークを効果的に抑えられることから高密度記録
化が期待される。またこの種ディスクリートメディアに
おいては、磁気ヘッドの、目的とする磁気トラックへの
アクセスを正確に行い得るという利点がある。さらにま
たこの種メディアにおいては、その溝内に形成された磁
性材表面を媒体面から後退して設は得ることから、これ
をハードディスクとして用いる場合においてこのディス
クの回転開始及び停止時におけるこのハードディスクに
対する浮上型磁気ヘッドの磁性層に対する直接的接触を
回避し得ることによって耐久性の向上をはかることがで
きるとされ、実用上大きな利点を有すると考えられる。
ところが、この種磁気記録媒体は、非磁性基板に選択的
に磁性材を被着する必要があることがらその製造方法に
課題がある。
に磁性材を被着する必要があることがらその製造方法に
課題がある。
例えばＡ！非磁性基板に磁性材を被着する方法としては
、特開昭５８−１７９９３５号に開示されているアルカ
リ皮膜層の孔隙内に磁性材料を注入する方法があるが、
上述したように記録トラック部に溝を形成し、これに磁
性材を選択的に収容するものにおいては、その溝の形成
とこの溝内への磁性材の選択的充填が問題となる。この
溝の形成は、レーザー光照射による溶融加工が考えられ
るがこの場合は、溝縁部に溶融による盛り上りが生ずる
など溝の鮮鋭性に欠ける。或いはラップもしくは砥粒に
よる溝の穿設を行う場合も高精度に、すぐれた鮮鋭性を
もって溝の形成を行い雛い。
、特開昭５８−１７９９３５号に開示されているアルカ
リ皮膜層の孔隙内に磁性材料を注入する方法があるが、
上述したように記録トラック部に溝を形成し、これに磁
性材を選択的に収容するものにおいては、その溝の形成
とこの溝内への磁性材の選択的充填が問題となる。この
溝の形成は、レーザー光照射による溶融加工が考えられ
るがこの場合は、溝縁部に溶融による盛り上りが生ずる
など溝の鮮鋭性に欠ける。或いはラップもしくは砥粒に
よる溝の穿設を行う場合も高精度に、すぐれた鮮鋭性を
もって溝の形成を行い雛い。
更にこの狭隘な溝内に選択的に磁性材を充填することか
らも製造工程数も大となり作業が繁雑となる。
らも製造工程数も大となり作業が繁雑となる。
本発明は、製造工程数を、さほど増大化することなく確
実、高精度に溝の形成と、この溝内に磁性材の充填を選
択的に所要の厚さに確実に行うことができるようにした
磁気記録媒体特にディスクリート型の磁気記録媒体を得
ることができるようにすることをその目的とするもので
ある。
実、高精度に溝の形成と、この溝内に磁性材の充填を選
択的に所要の厚さに確実に行うことができるようにした
磁気記録媒体特にディスクリート型の磁気記録媒体を得
ることができるようにすることをその目的とするもので
ある。
を除去してこのレジスト層（１１）上の磁性材（３）を
選択的に除去し、溝（２）内にのみ磁性材（３）を所要
の厚さに充填する工程とを採って磁気記録媒体（２２）
を製造する。
選択的に除去し、溝（２）内にのみ磁性材（３）を所要
の厚さに充填する工程とを採って磁気記録媒体（２２）
を製造する。
本発明は、例えば第１図にその要部の斜視図を示すよう
に、非磁性基板（１）に形成された溝（２）内に磁性材
（３）が充填されて記録トラック部が構成される磁気記
録媒体の製造方法において、例えば第２図にその製造工
程図を示すように、非磁性基板（１）上に、溝（２）の
形成部に開口（ｌｌｈ）を有するフォトレジスト層（工
１）を被着する工程と、第２図Ｂに示すようにこのフォ
トレジスト層（１１）をマスクとして開口（ｌｌｂ）を
通じて基板（１）に溝（２）を例えば逆スパツタ、エツ
チング例えば化学的エツチング、反応性イオンエツチン
グ等によって形成する工程と、フォトレジスト層（１１
）上と第２図Ｃに示すように、溝（２）内を含んで全面
的に磁性材（３）を被着する工程と、第２図りに示すよ
うにフォトレジスト層（１１）〔作用〕 上述の本発明製法によれば、溝（２）の加工を高精度に
微細パターンに形成し得るフォトレジスト層（１１）を
マスクとした逆スパッタ或いはエツチング等によって形
成するので高精度に、したがって高い鮮鋭度をもって溝
（２）を形成することができる。
に、非磁性基板（１）に形成された溝（２）内に磁性材
（３）が充填されて記録トラック部が構成される磁気記
録媒体の製造方法において、例えば第２図にその製造工
程図を示すように、非磁性基板（１）上に、溝（２）の
形成部に開口（ｌｌｈ）を有するフォトレジスト層（工
１）を被着する工程と、第２図Ｂに示すようにこのフォ
トレジスト層（１１）をマスクとして開口（ｌｌｂ）を
通じて基板（１）に溝（２）を例えば逆スパツタ、エツ
チング例えば化学的エツチング、反応性イオンエツチン
グ等によって形成する工程と、フォトレジスト層（１１
）上と第２図Ｃに示すように、溝（２）内を含んで全面
的に磁性材（３）を被着する工程と、第２図りに示すよ
うにフォトレジスト層（１１）〔作用〕 上述の本発明製法によれば、溝（２）の加工を高精度に
微細パターンに形成し得るフォトレジスト層（１１）を
マスクとした逆スパッタ或いはエツチング等によって形
成するので高精度に、したがって高い鮮鋭度をもって溝
（２）を形成することができる。
またこの溝（２）内への磁性材（３）の選択的充填は、
溝（２）を形成するに用いたマスクとしてのフォトレジ
スト層（１１）をそのままリフトオフのマスクとして用
いるので、その製造工程数を増大化することなく、しか
も高い精度をもってすなわち、いわば自己整合的に溝（
２）内への磁性材（３）の充填を、所要の厚さに充填で
きる。
溝（２）を形成するに用いたマスクとしてのフォトレジ
スト層（１１）をそのままリフトオフのマスクとして用
いるので、その製造工程数を増大化することなく、しか
も高い精度をもってすなわち、いわば自己整合的に溝（
２）内への磁性材（３）の充填を、所要の厚さに充填で
きる。
第２図を参照して本発明製造方法の一例を詳細に説明す
る。先ず第２図Ａに示すように非磁性基板（１）を設け
る。この非磁性基板（１）は、例えばガラス基板、ある
いは表面に２０μｍ程度の厚さをもってＮ１−Ｐメツキ
が施されたｉ基板、または表面がアルマイト処理された
ＡＮ基板よりなる。そして、この非磁性基板（１）上に
フォトレジスト層（１１）を、最終的に記録トラック部
を形成する溝のパターンと同Ｉパターンの開口（ｌｌｈ
）を形成して被着する。このフォトレジスト層（１１）
は、周知の技術、すなわちフォトレジストの塗布、パタ
ーン露光現像によって形成し得る。
る。先ず第２図Ａに示すように非磁性基板（１）を設け
る。この非磁性基板（１）は、例えばガラス基板、ある
いは表面に２０μｍ程度の厚さをもってＮ１−Ｐメツキ
が施されたｉ基板、または表面がアルマイト処理された
ＡＮ基板よりなる。そして、この非磁性基板（１）上に
フォトレジスト層（１１）を、最終的に記録トラック部
を形成する溝のパターンと同Ｉパターンの開口（ｌｌｈ
）を形成して被着する。このフォトレジスト層（１１）
は、周知の技術、すなわちフォトレジストの塗布、パタ
ーン露光現像によって形成し得る。
そして第２図Ｂに示すように、このフォトレジスト層（
１１）の開口（ｌｌｂ）を通じて外部に露呈した部分の
非磁性基板（１）を、その面（１ａ）側から例えば化学
的エツチング、反応性イオンエツチング、逆スパツタリ
ング等によって溝加工し、例えば１００人〜１００００
人、好ましくは５００人〜２０００人の深さｄを有し、
幅Ｗが１５〜１７μｍ５間隔りが５μｍ程度の溝（２）
を形成する。
１１）の開口（ｌｌｂ）を通じて外部に露呈した部分の
非磁性基板（１）を、その面（１ａ）側から例えば化学
的エツチング、反応性イオンエツチング、逆スパツタリ
ング等によって溝加工し、例えば１００人〜１００００
人、好ましくは５００人〜２０００人の深さｄを有し、
幅Ｗが１５〜１７μｍ５間隔りが５μｍ程度の溝（２）
を形成する。
第２図Ｃに示すように、基板（１）上に蒸着、スパッタ
リング等をもって磁性材（３）をフォトレジスト層（１
１）上と溝（２）内を含んで全面的に被着形成する。
リング等をもって磁性材（３）をフォトレジスト層（１
１）上と溝（２）内を含んで全面的に被着形成する。
この磁性材（３）は、例えば金属磁性材、あるいは酸化
物磁性材のバインダと混合した塗料の塗布によって形成
し得る。
物磁性材のバインダと混合した塗料の塗布によって形成
し得る。
例えば磁性材（３）を金属磁性材によって構成する場合
は、先ず例えばＢｉを下地層として１００人程次の厚さ
にスパッタリングし、その後Ｎｉが３５重量％、Ｇｏが
６５重量％の合金磁性材を５００人〜６００人の厚さに
スパッタリングすることによって形成し得る。
は、先ず例えばＢｉを下地層として１００人程次の厚さ
にスパッタリングし、その後Ｎｉが３５重量％、Ｇｏが
６５重量％の合金磁性材を５００人〜６００人の厚さに
スパッタリングすることによって形成し得る。
次に第２図りに示すように、フォトレジスト層（１１）
を除去し、これの上に形成された磁性材（３）を除去し
て溝（２）内のみに選択的に磁性材（３）が充填された
磁気記録媒体（２２）を得る。
を除去し、これの上に形成された磁性材（３）を除去し
て溝（２）内のみに選択的に磁性材（３）が充填された
磁気記録媒体（２２）を得る。
尚、この磁気記録媒体（２２）において、例えば浮上型
磁気ヘッドを対向させる場合においても、この媒体（２
２）より成る回転ディスクの回転開始或いは停止時にお
けるヘッドとの接触時の両者のぼりつきによる相対的移
行の不安定性を来す場合がある。これは、非磁性基板（
１）の表面が比較的鏡面であって磁気ヘッドとの静摩擦
係数μｓが大きいことに因る。このような不都合は、基
板（１）の表面を粗面として静摩擦係数μｓの低減化を
はかることによって回避できる。また、溝（２）内にお
いても、例えば溝（２）に沿う方向に延びる線状の微細
凹凸を形成し、これの上に磁性材（３）が充填されるよ
うにするときは、形状異方性による保磁力Ｈｃが例えば
３０％程度向上することができる。このような場合に本
発明を適用できる。この場合は、第２図Ａに示すように
基板（１）の表面に予め所要の粗面（１ａ）を例えば砥
粒を用いたポリッシュによって行い、その後溝（２）の
形成を行う。この場合溝（２）の形成においても、基板
（１）の表面の粗面（１ａ）が溝（２）の底面にも踏襲
して生ずるようにするか、或いは溝（２）の形成後に再
び溝（２）の底面に粗面の形成を行うこともできる。
磁気ヘッドを対向させる場合においても、この媒体（２
２）より成る回転ディスクの回転開始或いは停止時にお
けるヘッドとの接触時の両者のぼりつきによる相対的移
行の不安定性を来す場合がある。これは、非磁性基板（
１）の表面が比較的鏡面であって磁気ヘッドとの静摩擦
係数μｓが大きいことに因る。このような不都合は、基
板（１）の表面を粗面として静摩擦係数μｓの低減化を
はかることによって回避できる。また、溝（２）内にお
いても、例えば溝（２）に沿う方向に延びる線状の微細
凹凸を形成し、これの上に磁性材（３）が充填されるよ
うにするときは、形状異方性による保磁力Ｈｃが例えば
３０％程度向上することができる。このような場合に本
発明を適用できる。この場合は、第２図Ａに示すように
基板（１）の表面に予め所要の粗面（１ａ）を例えば砥
粒を用いたポリッシュによって行い、その後溝（２）の
形成を行う。この場合溝（２）の形成においても、基板
（１）の表面の粗面（１ａ）が溝（２）の底面にも踏襲
して生ずるようにするか、或いは溝（２）の形成後に再
び溝（２）の底面に粗面の形成を行うこともできる。
また、必要に応じて第３図に示すように、この媒体（２
２）上にカーボン層（４）を５０人〜５００人の厚さに
スパッタリング、塗布等によって被着被覆し、更にこれ
の上に必要に応じて滑剤層（５）例えばフッ素系潤滑剤
の例えばパーフルオロアルキルカルボン酸等をスピンコ
ード、ディッピング等によって５人〜５０人の厚さに被
着し得る。
２）上にカーボン層（４）を５０人〜５００人の厚さに
スパッタリング、塗布等によって被着被覆し、更にこれ
の上に必要に応じて滑剤層（５）例えばフッ素系潤滑剤
の例えばパーフルオロアルキルカルボン酸等をスピンコ
ード、ディッピング等によって５人〜５０人の厚さに被
着し得る。
このようにカーボン層（４）による被覆によって磁気ヘ
ッドとの摩擦係数の低減化と、その橋水性によって耐蝕
性、耐久性の向上がはかられるが、更にこれの上に滑剤
層（５）を例えば全面的に被着するときは、摩擦係数の
、より低減化ないしは安定化をはかるようにすることも
できる。
ッドとの摩擦係数の低減化と、その橋水性によって耐蝕
性、耐久性の向上がはかられるが、更にこれの上に滑剤
層（５）を例えば全面的に被着するときは、摩擦係数の
、より低減化ないしは安定化をはかるようにすることも
できる。
上述の本発明製法によれば、溝（２）の加工を高精度に
微細パターンに形成し得るフォトレジスト層（１１）を
マスクとした逆スパッタ或いはエツチング等によって形
成するので高精度に、したがって高い鮮鋭度をもって溝
（２）を形成することができる。
微細パターンに形成し得るフォトレジスト層（１１）を
マスクとした逆スパッタ或いはエツチング等によって形
成するので高精度に、したがって高い鮮鋭度をもって溝
（２）を形成することができる。
またこの溝（２）内への磁性材（３）の選択的充填は、
溝（２）を形成するに用いたマスクとしてのフォトレジ
スト層（１１）をそのままリフトオフのマスクとして用
いるので、その製造工程数を増大化することなく、しか
も高い精度をもって、すなわち、いわば自己整合的に溝
（２）内への磁性材（３）を充填することができ、その
厚さも、所要の厚さに充填できる。
溝（２）を形成するに用いたマスクとしてのフォトレジ
スト層（１１）をそのままリフトオフのマスクとして用
いるので、その製造工程数を増大化することなく、しか
も高い精度をもって、すなわち、いわば自己整合的に溝
（２）内への磁性材（３）を充填することができ、その
厚さも、所要の厚さに充填できる。
第１図は磁気記録媒体の一例の路線的斜視図、第２図Ａ
−Ｄは本発明による製造方法の一例の各工程における断
面図、第３図は磁気記録媒体の他の断面図である。 （１）は非磁性基板、（２）は溝、（３）は磁性材、（
１１）はフォトレジスト層である。 代 理 人 松 隈 秀 盛
−Ｄは本発明による製造方法の一例の各工程における断
面図、第３図は磁気記録媒体の他の断面図である。 （１）は非磁性基板、（２）は溝、（３）は磁性材、（
１１）はフォトレジスト層である。 代 理 人 松 隈 秀 盛
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非磁性基板に形成された溝内に磁性材が充填されて記録
トラック部が構成される磁気記録媒体の製造方法におい
て、 上記非磁性基板上に、上記溝の形成部に開口を有するフ
ォトレジスト層を被着する工程と、該フォトレジスト層
をマスクとして上記開口を通じて上記非磁性基板に溝を
形成する工程と、上記フォトレジスト層上と上記溝内を
含んで全面的に磁性材を被着する工程と、 上記フォトレジスト層を除去して該フォトレジスト層上
の磁性材を選択的に除去し、上記溝内に磁性材を所要の
厚さに充填する工程とを有することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117989A JPH02201732A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117989A JPH02201732A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02201732A true JPH02201732A (ja) | 1990-08-09 |
Family
ID=12047713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2117989A Pending JPH02201732A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02201732A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001026101A1 (fr) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Japan Science And Technology Corporation | Support d'enregistrement magnetique haute densite a motifs et procede de production correspondant |
| US6583957B1 (en) * | 1998-12-28 | 2003-06-24 | Fujitsu Limited | Magnetic hard disk having concentric magnetic tracks with flat surface and fabrication method thereof |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP2117989A patent/JPH02201732A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6583957B1 (en) * | 1998-12-28 | 2003-06-24 | Fujitsu Limited | Magnetic hard disk having concentric magnetic tracks with flat surface and fabrication method thereof |
| US6586044B1 (en) | 1998-12-28 | 2003-07-01 | Fujitsu Limited | Method for manufacturing a magnetic hard disk having concentric magnetic tracks with flat surface |
| WO2001026101A1 (fr) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Japan Science And Technology Corporation | Support d'enregistrement magnetique haute densite a motifs et procede de production correspondant |
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