JPS6117571A - 液晶混合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な液晶混合物及びこれらの混合物に用いる
新規な化合物、並びに新規な化合物及び混合物の製造、
及び電子−光学目的に対するその用途に関する。

最近、液晶は表示装置における誘電体としてかなり重要
性を増してきておシ、その理由は、かかる物質の光学的
特性が印加電圧によって影響され得るためである。液晶
に基づく電子−光学装置は当該分野に精通せる者にとっ
てはよく知られておシ、これらは種々な効果、例えば動
的散乱（ｄｙｎα−ｍｔｃ　ａｃａｔ’ｔｅｒｉｎｇ　
）　、整列した相の変形（ＤＡＰタイプ）、シャット−
へルフリツヒ効果（Ｓａｈ−ａｄｔ−ＨｇＬｆｒｉｃｈ
　ｅｆｆｅｃｔ　）　　（回転セル）、ｒスト／ホスト
効果（ｒｔｕｇａｔ／ｈｏｓｔ　ｅｆｆｅｃｔ　）、ま
たコレステリツクーネマテイク（ｃｈｏｌｇａｔｅｒｔ
ｃ−ｎｅｍａｔｉｃ　）相転移（相変化効果）に基づく
ことができる。

液晶は、電子−光学的表示装置に対する誘電体として適
するために、多くの必要性を満さなければならない。例
えば液晶は良好な化学的安定性、低粘度及び短い応答時
間を有するべきであシ、良好なコントラストを示すべき
でアシ、そして液晶を操作する全体の温度範囲内でネマ
テイクまたはコレステリック中間相（ｍｅｓｏｐｈαｇ
ｇ）を有するべきであ゛る。他の特性、例えば誘電異方
性、光学的異方性、導電率等が、使用するセルに応じて
、異なる条件を満たさなければならない。

一般に、単一化合物によって全ての所望の特性及び成る
程度の相反する特性を達成することが不可能であるため
に、数種の成分を混合することによって特定の用途に対
する特性を最適にする試みが主になされている。しかし
ながら、この場合に、各成分が相互に化学反応せず且つ
相互に良好な混和性を有することが重要である。更に、
生ずる混合物は少なくとも液晶セルを操作する温度でス
メクテイク（ｓｍｅｃｔｉｃ　）中間相を有するべきで
はない。

ピリミジン誘導体を含む液晶混合物はすでに公知である
。殊に、シアノ−置換されたピリミジン類を含む混合物
が公知であし、これらの化合物によってネマテイクまた
はコレステリック混合物を容易に製造することができる
。しかしながら、非極性末端基を有するピリミジン誘導
体はこれまでほとんど用いられておらず、これらの誘導
体によシ度々他の液晶との混合物においてスメクテイク
中間相が誘導される。

今回、少なくとも１種の一般式　。

式中、Ｙは窒素を表わし、セしてＺはＣＨを表わすか、
またはＺは窒素を表わし、そしてＹはＣＨを表わしｇｆ
Ｌは数θまたは２を表わし；環Ａ及びＢは１，４−フェ
ニレンまたはトランス−１，４−シクロヘキシレンを表
わし；Ｒ１はｐ−アルキルフェニル、トランス−４−ア
ルキルシクロヘキシル或いは、ｎが数２を表わすか、ま
たは環Ａ及びＢの双方が１．４−フェニレンを表わす限
シにおいては、またアルキルを表わし；そしてＲ２及び
Ｒ１におけるアルキル残基は直鎖状のＣ□〜Ｃ１゜−ア
ルキルを表わす、 の化合物及び少なくとも１種の一般式 式中、Ｒｓは直鎖状のＣ１〜Ｃ５０−アルキルを表わし
ｇＲ４はアルキル、アルコキシ、ｐ−アルキルフェニル
、ｐ−アルコキシフェニル、トランス−４−アルキルシ
クロヘキシル、４′−アルキル−４−ビフェニリル、ト
ランス−４−アルキルシクロヘキシル）フェニル、２−
（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）エチル、ｐ
−（２−（）ランス−４−アルキルシクロヘキシル）エ
チル〕フェニルｔた１ｄ２−［：ｐ−（トランス−４−
アルキルシクロヘキシル）フェニル〕エチルを表わし；
Ｒ４におけるアルキル残基は直鎖状のＣ１〜”１０−ア
ルキルを表わし、そしてＲ４におけるアルコキシ残基は
直鎖状のＣ１〜Ｃ１０−アルコキシを表わす、 の化合物或いは一般式 式中、環Ｃは１，４−フェニレンまたはトランス−１，
４−シクロヘキシレンを表わし；Ｒ５は直鎖状の０１〜
Ｃ１０−アルキルを表わし；そしてＲ６は直鎖状のＣ１
〜ＣＩ　Ｏ−アルキルまたは直鎖状のＣエルＣ１０〜ア
ルコキシを表わす、 の化合物を含有する液晶混合物は、比較的大きなネマテ
イク（または光学的活性化合物の添加によシコレステリ
ツク）中間相（ｍｅａｏｐｈα８ｇ８）、良好な溶融挙
動、比較的低粘度、良好な化学的及び光化学的安定性並
びに、殊に弾性定数Ｘ３８〔ペンド（ｂｅｎｄ　）　：
］及びに１１ｍスプレィ（５ｐｌｃｓｔ　）　：１の好
ましい比、急こう配の透過曲線及び良好な多様性（ｍｗ
ｌｔｉｐｌｇｚｔｂｔｌｉｔｙ　）を有することが見出
された。

外が数０を表わし、環Ａ及びＢが１．４−フェニレンを
表わし、そしてＲ１及びＲ１がアルキルを表わす式Ｉの
化合物を含む混合物は特にに３３／Ｋｌ工の低い値を有
している。一方、ｎが数２を表わす式ｌの化合物は改善
された溶解度を有し、そしてＲ１がｐ−アルキルフェニ
ルまたはトランス−４−アルキルシクロヘキシルを表わ
す式Ｉの化合物は特に高い透明点及び同時にＫ　ａ　ｓ
　／　Ｋ　ｔ□の比較的低い値を有している。

「直鎖状の０１〜”１０−アルキル」なる用語には基メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル
、オクチル、ノニル及びデシルが包含され、そして「直
鎖状のＣ亡”１０−アルコキシ」する用語には基メトキ
シ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチル
オキシ、ノニルオキシ及びデシルオキシが包含される。

本発明による混合物は好ましくは式Ｉ及び■の化合物を
合計して約３〜７０重量％、殊に約２０〜５０重量％含
有する。この準金物は好ましくは少なくとも１種の式ｌ
の化合物及び少なくとも１種の式■の化合物を含有する
。本発明による混合物中の式Ｉの化合物の量は好ましく
は約１〜４０重量％、殊に約３〜２０重量％である。

式Ｉの好ましい化合物は、ｎが数０を表わし、環Ａ及び
Ｂが１，４−フェニレンを表わし、そしてＲ１がアルキ
ルまたはトランス−４−アルキルシクロヘキシルを表わ
すものである。更に、ｎが数２を表わし、そしてＲ１が
アルキルを表わす式Ｉの化合物が好ましい。ＲＲ及び／
またはＲ１におけるアルキル残基は好ましくは直鎖状の
Ｃ３〜Ｃ１−アルキルを表わす。

使用する弐雇の好ましい化合物はＲ４がアルキル、アル
コキシ、トランス−４−アルキルシクロヘキシル、トラ
ンス−４−アルキルシクロヘキシル）フェニルまタハ２
−（ｆｆ＋−（）ランス−４−アルキルシクロヘキシル
）フェニル〕エチルを表わす化合物、殊にＲ４がアルコ
キシを表わす化合物である。Ｒｓは好ましくは直鎖状の
Ｃ３〜Ｃ１−アルキルを表わす。更に、Ｒ４におけるア
ルキル残基は好ましくは直鎖状の０１〜Ｃフアルキルを
表わし、そしてＲ４におけるアルコキシ残基は好ましく
は直鎖状のＣＸ−Ｃ６−アルコキシを表わす。

成層において、環Ｃは好ましくはトランス−１゜４−シ
クロヘキシレンを表わす。Ｒ６は好ましくはＣ３〜Ｃ１
−アルキルを表わす。好ましい残基Ｒ＠け直鎖状のＣ８
〜Ｃアーアルキル及び特に直鎖状のＣ１〜Ｃ６−アルコ
キ７である。

本発明による混合物には追加の化合物、例えばシフ”；
［基、アゾベンゼン類、アゾキシベンゼン類、シクロヘ
キサンカルボ／酸シクロヘキシルエステル類、ビフェニ
ル類、ターフェニル類、フェニルシクロヘキサン類、フ
ェニルピリミジン類、シクロヘキシルフェニルピリミジ
ン類、フェニルジオキサン類等の群からの物質を含ませ
ることができる。かかる化合物は尚該分野に精通せる者
にとっては公知でアシ、更に、これらの多くのものは市
販品である。

本発明による混合物は好ましくは、式１〜■の化合物に
加えて、１種またはそれ以上の次の一般式の化合物を含
有する′： 式中、環Ｃは１，４−フェニレンまたはトランス−１，
４−シクロヘキシレンヲ表ワし；Ｒ７及びＲ魯は直鎖状
のＣ１〜Ｃ１−アルキルを表わし；そしてＲ・は直鎖状
のＣ１〜Ｃ１−アルキルまたは直鎖状のＣ１〜Ｃ６−ア
ルコキシを表わす。

殊に回転セル及びｒスト／ホストセルに使用し得る誘電
率の正の異方性（６ｇ　＝　ｔ　、、−εよ〉０、’　
Ｉ＋は分子の縦軸に沿う誘電率を表わし、ε、はこれに
垂直な誘電率を表わす）を有す−る本発明による混合物
は好ましくは式１〜厘の化合物に加えて少々くとも１種
の弐■゛〜■の化合物を含有する更に、本発明による混
合物には適当な光学的活性化合物（例えば光学的活性ビ
フエニｋｍ）及び／または二色性（ｄｔｃｈｒｏｉｃ　
）着色物質（例えばアゾ、アゾキシまたはアントラキノ
ン着色物質）を含ませることができる。かかる化合物の
量は溶解度及び所望の色調（ｐｉｔｃｈ　）　、色、吸
光等によって決定される。好ましくは光学的活性化合物
の量は最大約４重量係でｉシ、そして二色性着色物質の
量は最大約１０重量％、である。

本発明による混合物の製造はそれ自体公知の方法におい
て、例えば各成分の混合物をわずかに透明点以上の温度
に加熱し、次に該混合物を冷却することによって行うこ
とができる。

また電子−光学装置の製造はそれ自体公知の方法におい
て、例えば適当なセルを空にし、そしてこの空にしたセ
ル中に該混合物を導入することによって行うことができ
る。

答が数０を表わし、環Ａ及びＢが１．４−フェニレンを
表わし、そしてＲ１がア、ルキルを表わす化合物及び式
■〜ＸＩの化合物はゑ知のものであるか、或いは公知の
化合物の同族体でおる。

式１１但し、 Ｙが窒素を表わし、そしてＺがＣＭを表わすか、または
Ｚが窒素を表わし、そしてＹがＣＭを表わし；外が数０
または２を表わし；環Ａ及びＢかも４−フェニレンまた
は゛トランスー１，４−７クロヘキシレンを表わし；Ｒ
１がｐ−アルキルフェニル、トランス−４−アルキルシ
クロヘキシルまたは、外が数２を表わす限シにおいては
、またアルキルを表わし；そしてＲ２及びＲ１における
アルキル残基が直鎖状の０１〜ＣＩ。−アルキルを表わ
す、の化合物は新規なものであシ、そしてまた本発明の
一目的を構成するものである。

これらのものは本発明に従えば α）　Ｙが窒素を表わし、そしてＺがＣＭを表わす式■
の化合物を製造するために、゛ニ一般式の化合物を塩基
の存在下において一般式　−式中、Ｒ’、Ｒ”、ｆＬ並
びに環Ａ及びＢは前記の意味を有し、セしてＲｌＧはア
ルキルを表わす、 の化合物の酸付加塩と反応させるか、 ｂ）　Ｚが窒素を表わし、そしてＹがＣＨを表わす式Ｉ
の化合物を製造するために、一般式の化合物を塩基の存
在下において一般式式中、Ｒ’　　、Ｒ２、ｆＬ並びに
環Ａ及びＢは前記の意味を有し、そしてｌｏはアルキル
を表わす、 の化合物の酸付加塩と反応させるか、或いはｃ）　　ｎ
が数２を表わす式！の化合物を製造するために、一般式 式中、Ｒ”、Ｙ、？、並びに環Ａ及びＢは前記の意味を
有し、セしてＲ１はｐ−アルキルフェニル、トランス−
４−アルキルシクロヘキシルまたはアルキルを表わす、 の化合物を接触水素添加する ことによって製造することができる。

式ＸＩまたはＸＶの化合物と弐ＸＷまたはＸＷの化合物
の酸付加塩との反応線水または有機溶媒、例えばアルコ
ール、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコ
ール等中で、塩基の存在下において有利に行われる。メ
タノール及びエタノールが好ましい溶媒である。式ｘｙ
及びＸＶの化合物の酸付加塩は塩化水素酸、・臭化水素
酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等によって生ずる塩
であることができる。好ましくは式ＸＷ及びＸＷの化合
物の塩酸塩を用いる。アルカリ金属アルコレート、特に
ナトリウムメチレート及びナトリウムメチレートが好ま
しい塩基である。Ｒｌｏには有利には、炭素原子１〜５
個を有するアルキル残基、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル等、好ましくはメチル及びエチルが
包含される。この反応を行う温度及び圧力は臨界的では
ない。この反応は大気圧及び室温乃至反応混合物の還流
温度間の温度、好ましくは室温で有利に行われる。

式Ｘ■の化合物の接触水素添加はそれ自体公知の方法に
おいて、普通の水素添加触媒、例えばパラジウム、白金
、ラネーニッケル等を（随時不活性担体物質、例えば炭
素に担持させて）用いて行うことができる。パラジウム
及び白金が好ましい触媒である。溶媒として不活性有機
溶媒、例えば飽和アルコール類、エーテル類、エステル
類、カルボン酸類、芳香族炭化水素等、例えばエタノー
ル、ジオキサン、酢酸エチル、氷酢酸及びトルエンを用
いることができる。接触水素添加を行う温度及び圧力は
臨界的ではない。この接触水素添加は室温乃至反応混合
物の佛点間の温度及び約１〜５気圧の圧力で有利に行わ
れる。

ｎが数０を表わす式ｘｉ及びＸＭの化合物並びに式ＸＷ
及びＸＶの化合物は公、知のものであるか、或いは公知
の化合物の同族体である。

記が数２を表わす式ＸＩ及びＸＷの化合物並びに式Ｘ■
の化合物は新規なものである。これらのものはそれ自体
公知の方法に従って、例えば次の反応式１及び２に従っ
て製造することができる５反応式中、ＲＩ　　、　７？
”　　、　Ｒｌｏ並びに環Ａ及びＢは上記の意味を有す
る。

■　Ｘ 鳴 ｍ； ≦　　　　　　■ 鳴 また式ｘｉの化合物は新規なものである。これらのもの
は式ｌの化合物と同様の方法において製造することがで
きる。

また式ＸＸ■の化合物は新規なものである。これらのも
のはそれ自体公知の方法において、対応するアニリン類
から、例えばトリエチルアミン及び二硫化炭素との反応
、続いてアンモニウム塩とトリエチルアミン及びクロロ
ギ酸エチルとの反応によって得ることができる。

本発明による混合物を次の混合物実施例によって更に詳
細に説明する。Ｖｌ。及びＶＩｌｏは１０チまたは５０
チ透過（傾斜角０°を有する回転セルにおいて）に対す
る電圧を表わし、７’ｏ＝　（Ｆｓｏ　−Ｖ　１ｏ　）
　／〆１ｏは透過曲線の急こう配に対する尺度で’！’
７、Ｋｌｘ（スプレィ）及びＫｓｓ（ベンド）は弾性定
数であシ、ηは粘度（かさ粘度）を表わし、そしてΔｍ
は光学的異方性を表わす。特記せぬ限シ、測定は２２℃
で行った。

基本混合物Ａ トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリ
ル１６．９重量％、 １−エトキシ−４−（）ランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）ベンゼンａ、ｏ重量＊、ｐ−（ｓ−７’チル−
２−ピリミジニル）ベンゾニトリル８．６重量％、 ｐ、−（ｓ−へブチル−２−ピリミジニル）ベンゾニト
リル５．０重量％、 トランス−４−ブチルシクロヘキサンカルボン酸ｐ−エ
トキシフェニルエステル１０．１　ｚ量４、トランス−
４−ペンチルシクロヘキサンカルボ／酸ｐ−メトキシフ
ェニルエステル９．２重ｔ％、トランス−４−ペンチル
シクロヘキサンカルボン酸ｐ−ゾロポキシフェニルエス
テ／Ｉ／１５．０重Ｊｌチ、 １−エチル−４−（２−（）ランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）エチル〕ベンゼン７．０重量％、 ４’−（）？ンスー４−ぺエチルシクロヘキシル）−４
−シアノビフェニル６、０重量％、ｐ−［ｓ−（トラン
ス−４−エチルシクロヘキシル）−２−ピリミジニル〕
ベンゾニトリル６．１重量％、 ｘ−（２−（）ランス−４−ブチルシクロヘキシル）王
チル：］−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）ベンゼン１３”　ｉｆｆ　ｆ”　；融点−２０℃以
下、透明点７２℃、ネマテイク；Ｖ、。＝ＬＴＬＶＸｐ
。＝０．１２８　；η＝２７０’ｌ）ｚ△ｎ＝０．１１
９、ｋ、、／に、、＝　１．１９゜混合物実施例１ 基本混合物Ａ９０重量％、 ５−（）ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２−
Ｃ２−（）ランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチ
ル〕ピリミジン１０重量％；融点−２０℃以下、透明点
７８℃、ネマテイク；Ｆ１゜＝１．７６Ｖ、　ｐｏ＝０
．１２７ｉη＝３０Ｃｐミ△ｎ＝０−１１４．１ｃｓＢ
／　Ｊｌ”’　１．１５゜混合物実施例２ 基本混合物Ａ９０重量％、 ５−（ｐ−ブチルフェニル）−２−（２−（トランス−
４−プロピルシクロヘキシル）エチル〕ピリミジン１０
重量％； 融点−２０℃、透明点７６℃、ネマテイク；Ｖ１０＝Ｌ
Ｔ　２　Ｖｚ　Ｆｏ　＝Ｏ−１２３、η＝＝３３　ｃ　
ｐｓ　Δゝ。

ｎ＝０．１１９、”ｓｓ／　ｋｌｌ　＝　１．１７゜混
合物実施例３ 基本混合物Ａ９０重量％、 ５−（ｐ−ブチルフェニル）−２−（Ｐ−プロピルフェ
ネチル）ピリミジン１０重量％；融点−２０℃、透明点
７６℃、ネマテイク；７０＝１．７８Ｖ、　ｐｏ　＝Ｑ
、ｌ　２４　；η”　３１　”！’　＋Δｎ”０．１２
３、ｋｌｌ　ｋ１１＝Ｌ１５゜混合物実施例４ 基本混合物Ａ９０重量％、 ５−（ｐ−ブチルフェニル）−２−（ｐ−ペンチルフェ
ニル）ピリミジン１０重量％；融点約θ℃、透明点８２
℃、ネマテイク：Ｖ□。＝Ｌ　８１　Ｆ　％　ｐ　６　
＝０．１１８　Ｈ’７　＝３４　（ｊ　ｐ　−、Δｔｔ
＝０．１３０、ｋａｓ／ｋｓ□＝０．９７゜式ｌ及びＸ
Ｉの化合物の製造を以下の実施例によって更に詳細に説
明する。Ｃは結晶相を表わし、Ｓはスメクテイク相を表
わし、ＳＡはスメクテイクＡ相を表わし、ＳＢはスメク
テイクＢ相を表わし、Ｎはネマテイク相を表わし、そし
てＩはイントロビック（１ｓｏｔｒｏｐｉｃ　）相を表
わす。

実施例１ ５−（ｐ−ブチルフェニル）−２−［：ｚＥ−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）ビニル〕ピリミジン
４．３１をトルエン１２５−に溶解し、この溶液をパラ
ジウム／炭素（１０％）０．６Ｉで処理し、水素の吸収
が止まるまで、室温及び常圧で水素添加した。結晶を炉
別し、ろ液を濃縮した後に得られた５−（ｐ−ブチルフ
ェニル）−２−（２−（）ランス−４−プロピルシクロ
ヘキシル）エチル〕ぎリミツタをヘキサンから再結晶さ
せた。収量３．５１１；融点（Ｃ−５Ａ）　１０１．０
’Ｃ１Ｓ、４−Ｎ１０４．８℃、透明点（７Ｖ−Ｉ）１
１７．８℃。

出発物質として用いた５−（ｐ−ブチルフェニル）−２
−（２Ｅ−（）ランス−４−ｆロビルシクロヘキシル）
ビニル〕ピリミジンは次の如くシて製造した： α）　ナトリウム６．２ｙ及びメタノール１５０ｍ１か
ら製造したナトリウムメチレート溶液を窒素雰囲気下で
、２−Ｃｐ−ブチルフェニル）−ａ−エトキシアクロレ
イン〔ツァイトシュリフト・フユール・ナツールフオル
シュング（Ｚ、Ｎａｔｗｆｏｒ−ｓｃｈ、）３１６，４
３３（１９７８）に従って製造したもの〕３４．９１！
、２−ヒドロキシアセトアミジン塩酸塩１Ｂ、２Ｊ７及
びメタノール２００ｍ１！の混合物に滴下した。得られ
た懸濁液を１日間放置し、次に濃塩酸７ゴで処理し、そ
して吸引濾過した。

ｐ液を濃縮し、残渣をジエチルエーテルに溶解した。こ
の溶液を水で洗浄して中性にし、硫酸す上リウム上で乾
燥し、濾過し、そして濃縮した。残渣をシリカゲル４０
０．ｐ上で、トルエン／アセトン（４：１容量比）を用
いてクロマトグラフィーにかけ、５−（ｐ−ブチルフェ
ニル）−２−ピリジンカルビノール２４．０１１を得た
；融点６７．２〜６９．３℃、純度９＆９％。

ｂ）　乾燥ジクロロメタン中の５−（ｐ−ブチルフェニ
ル）−２−ピリミジンカルビノール２４、０　Ｆ及びト
リフェニルホスフィン２８．８１１の溶液を窒素雰囲気
下にて一３０℃で、テトラブ四モメタン４１．５．９で
一部づつ処理した。反応混合物を一３０℃で更に３０分
間攪拌し、次に一夜、加温しながら室温にした。混合物
を濃縮し、残渣をシリカダル３００ｉ上で、ヘキサン／
酢酸エチル（４：１容量ル）を用いてクロマトグラフィ
ーにかけた。融点８５．０〜８５．２℃の帯黄色の２−
（ブロモエチル）−５−（ｐ−ブチルフェニル）ピリミ
ジン２５．０．９が得られ、このものを直ちに次の工程
に用いた。

ｃ）　　）ルエン３５０ｆｆ１７！中の２−（ブロモメ
チル）−ｓ−（ｐ−ブチルフェニル）ヒリミジン２５．
０ｇの溶液をトルエン２５０−中のトリフェニルホスフ
ィン２５．８１１の溶液に滴下し、この反応混合物を室
温で３日間攪拌した。沈殿した淡い帯黄色の［５−（ｐ
−ブチルフェニル）−２−ピリミジニルコメチル−トリ
フェニルホスホニウムブロマイドを吸引炉別し、トルエ
ンで洗浄し、そして乾燥した。収量４１ＯＪ９、融点１
７６〜１７８℃。

ｄ）　ジクロロメタン１２５−中の（ｓ−（ｐ−ブチル
フェニル）、−２−ピリミジニルコメチル−トリフェニ
ルホスホニウムブロマイド１＆６ＩＩの溶液を窒素雰囲
気下にて０℃で、ナトリウム０、５５　、ＳＦ及びメタ
ノール１０Ｍｔから製溝したナトリウムメチレート溶液
で滴下処理し、この混合物を更に１５分間攪拌した。次
に混合物をジクロロメタン２５−中のトランス−４−プ
ロピルシクロヘキサンカルボキシアルデヒド３．ＩＩの
溶液テθ℃にて滴下処理し、生じた混合物を０℃で更に
１時間、そして室温で一夜攪拌した。その後、反応混合
物をν遇し、ｐ液を炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮した。残
渣をシリカグル１５０Ｉ！上で、ヘキサン／酢酸エチル
（９：１容量比）を用いてクロマトグラフィーにかけ、
ヘキサンがら１回再結Ｊｌせ、５−　（ｐ−ブチルフェ
ニル）−２−（２Ｅ−（）ランス−４−プロビルシクロ
ヘキシル）ビニル〕ピリミジン４４ｇを得た。融点（Ｃ
−＃）１２４℃、透明点（＃−Ｉ）２０１５℃。

同様の方法において、次の化合物を製造した：５−（ｐ
−ブチルフェニル）−２−（２−（）ランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）エチル〕ピリミジン；融点（Ｃ−
５，４）８５℃、Ｓ、４−Ｎ１１２２℃、透明点（＃−
Ｉ）１２１℃、５−（ｐ−ブチルフェニル）−２−（ｐ
−プロピルフェネチル′）ピリミジン＋Ｉｌｔ点（Ｃ−
５，４）８９℃、Ｓ、４−Ａ’ｌ　Ｇ　９．５℃、透明
点（Ｎ−１）１０９、５℃、 ５−　（）ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２
−（ｐ−ブチルフェネチル）ピリミジン；融点（Ｃ−５
）５１’Ｃ１透明点（ＳＢ−Ｉ）１４０、５℃、 ５−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２−
［２−（）ランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチ
ル〕ピリミジン；融点（Ｃ−５Ｂ）８２−５℃、透明点
（ＳＢ−Ｉ）ｔｊｏ、ｓ℃、５−ブチル−２−（２−（
トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル〕ピリ
ミジン；融点（Ｃ−１）２２−５℃、 ５−ブチル−２−（ｐ−ブトキシフェネチル）ピリミジ
／；融点（Ｃ−１）４３℃。

実施例２ メタノール６〇−中の粗製の３−メトキシ−２−（２−
（）ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチルコア
クロレイン２−５ＩＩ及びｐ−プロピルベンズアミジン
塩酸塩２．ｏＩＩの溶液を、ナトリウム０．５１及びメ
タノールｌＯ−から製造したナトリウムメチレートで滴
下処理し、生じた懸濁液を室温で一夜攪拌した。その後
、混合物を濃塩酸の添加によってｐＨ値５に調節した。

沈殿物を炉別し、ジクロロメタンに溶解した。この溶液
を水で洗浄して中性にし、硫酸ナト・リウム上で乾燥し
、そして濃縮した。精製するために、生じた５−（２−
（）ランス−４−インチルシクロヘキシル）エチル）−
２−（ｐ−ｆロピル７玉ニル）ピリミジン（？、３１）
をシリカグル４０Ｉ上で、ヘキサン／酢酸エチル（１９
：’１容量比）を用いてりａｉトゲラフイーにかけ、次
にヘキサンから再結晶させた。収量ＺＩＪｉｌ；融点（
（？−、５）６４℃、７６℃及び１０３℃でｓ−ｓ転位
、透明点＜Ｓ、ｔ−１）１６４°ｃ。

出発物質として用いた３−メ４トキシー２−〔２−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチルコアクロ
レインは次の如くして製造した二Ｇ）　無水ジエチルエ
ーテル５００ｍｔ中の（トランス−４−縁ブチルシクロ
ヘキシル）アセチルクロライド７６．　Ｉ　Ｉｆの溶液
を攪拌しながら、反応混合物が強く沸騰しすぎないよう
にして、無水ジエチルエーテル７５０ｄ中の水素化リチ
ウムアルミニウム１２５ｙの懸濁液に滴下した。この混
合物を更に２時間攪拌し、次にまずアセトン３０−１そ
の抜水７５ｄで滴下処理した。次に反応混合物を３Ｎ塩
酸で酸性にし、有機相を分離し、水相をジエチルエーテ
ル２００−で逆抽出した。合液した有機相を水で洗浄し
て中性にし、硫酸ナトリウム上で乾鰐し、濃縮し、帯黄
色液体として２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）エタノール６２６Ｉが得られた。

ｂ）　　Ｎ−ブロモコハク酸イミド５α１９を、攪拌し
且つ水浴で冷却しながら３０分以内に、温度が３０℃以
上に上昇しないようにして、ジクロロメタン１６〇−中
の２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エタ
ノール４９．６．９及び）Ｉ７７エールホスフイン７１
．９１ｉの溶液に一部ツつ加えた。次いで混合物を更に
３時間攪拌し、次に懸濁液を吸引戸別し、Ｆ液を回転蒸
発機で濃縮した。未だ温い残渣（２相）を振盪しながら
ヘキサン２００−で徐々に処理した。細かい粒状の橙色
沈殿物を吸引戸別し、ヘキサンで数回すすいだ。

ｐ液を濃縮し、得られた粗製のトランス−１−（２−ブ
ロモエチル）−４−ペンチルシクロヘキサンを真空下で
蒸留した。収量：主留出物５３．３９；沸点９３〜９９
°Ｃ／約ｏ、１ｒｏｒｒ−、純度９＆２チ。

Ｃ）　シアン化ナトリウム９．１’ｌｌ、　ヨウ化ナト
リウム０．２１　＆及びジメチルスルホキシド１７５−
の混合物を９８℃に加熱した。次に加熱を止め、混合物
をトランス−１−（２−ブロモエチル）−４−インチル
シクロヘキサン４５．３．９’ｆ２０分以内に滴下処理
し、これによって温度が１１５℃に上昇した。反応混合
物を更に１時間１００℃に保持し、次に放冷し、氷水６
００−に注ぎ、ジエチルエーテル各２００−で３回抽出
した。抽出液を水各１５０１ｎｔで３回洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、濃縮し、褐色油として３−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）ゾロビオニトリル
３６．２１が得られた。

ｄ）　乾燥トルエン７５０ｍ１中の３−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）プロピオニトリル３６．１
１の溶液を、窒素下にて０℃で６０分以内に、トルエン
中の水素化ジイソブチルアルミニウムの２０％（容量％
）溶液２２５７！で滴下処理した。この混合物を更に０
℃で１時間、次に室温に加温しながら３時間攪拌した。

次いで反応混合物を０，５Ｎ硫酸２．５４’中に注ぎ、
ジエチルエーテル各１ノで３回抽出した。抽出液を飽和
炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、濃縮し、粗製の３−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）グロックナール３５．８ｇが得
られた。

ｇ）　　ツアイトシュリフト・７ユール・ナツールフオ
ルシュ、／　ｆ　（Ｚ　、ＮｔｔｔｕｒｆＯｒｌｔｅｈ
’ａｂｔＬＱ　）　３４土、１５３５（１９７９）に記
載されたトランス−４−ペンチルシクロヘキサンカルボ
キシアルデヒドとの反応と同様の方法において、３−（
トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）プロパナール
をｔａｒｔ−ブチルメチルエーテル中でメトキシメチル
−トリフェニルホスホニウムクロライド及びカリウムｔ
ａｒｔ−ブチレートと反応させて１−メトキシ−４−（
トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−ブテン
を生成させ、このものをオルトギ酸メチル中の三フッ化
ホウ素エーテラートによって（２−（）ランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）エチルコマロンジアルデヒドテ
トラ、メチルアセタールに転化し、このアセタールを水
１当量及びトルエンスルホン酸の触媒量と共に加熱する
ことによって、最終的に粗製の３−メトキシ−２−〔２
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチルコ
アクロレインが得られた。

実施例３ メタノール６０ゴ中の２−（ｐ−ブチルフェニル）−３
−エトキシアクロレイン３．ｏｇ及びｐ−（トランス−
４−プロピルシクロへ、−？シル）ベンズアミジン塩酸
塩３．８ｇの溶液を、ナトリウム０．６ｇ及びメタノー
ル１０ｔｄから製造したナトリウムメチレート′溶液で
滴下処理し、生じた懸濁液を室温で一夜攪拌した。その
後、混合物を濃塩酸の添加によってｐＨ値５に調節した
。沈殿物を炉別し、そしてジクロロメタンに溶解した。

この溶液を水で洗浄して中性にし、硫酸す）　ＩＪウム
上で乾燥し、そして濃縮した。精製するために、得られ
た５−（ｐ−ブチルフェニル）−ｚ−［ｐ−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル〕ピリミジン
をシリカゲル３０Ｉ上で、トルエンを用いてクロマトグ
ラフィーにかけ、次に酢酸エチルから再結晶させた。収
量：３．３ＪＦｉ融点（（：’−５）１５０℃、Ｓ−＃
１７４℃、透明点（＃−７）３３２℃。

同様の方法において、次の化合物を製造した：５−（ｐ
−ブチルフェニル）−２−（ｐ−へキシルフェニル）ピ
リミジン：　融点（’　−Ｓ、４　）　ｅ７、８　℃、
透明点（５，４−Ｉ）１８３℃、５−（ｐ−ブチルフェ
ニル）−ｇ−（ｐ−ヘゲチルフェニル）ピリミジン；融
点（（’−５，４）９８．８℃、透明点（Ｓ、４−１）
１８２℃、５−（ｐ−ブチルフェニル）−２−（ｐ−ペ
ンチルフェニル）ピリミジン；融点（（１’−５，４）
１ｏａｏ℃、透明点（５，４−７）１８４７℃。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも１種の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、Ｙは窒素を表わし、そしてＺはＣＨ を表わすか、またはＺは窒素を表わし、そ してＹはＣＨを表わし；ｎは数０または２ を表わし；環Ａ及びＢは１，４−フェニレ ンまたはトランス−１，４−シクロヘキシ レンを表わし；Ｒ＾１はｐ−アルキルフェニル、トラン
   ス−４−アルキルシクロヘキシ ル或いは、ｎが数２を表わすか、または環 Ａ及びＢの双方が１，４−フェニレンを表 わす限りにおいては、またアルキルを表わ し；そしてＲ＾２及びＲ＾１におけるアルキル残基は直
   鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿１＿０−アルキルを表わす、 の化合物及び少なくとも１種の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、Ｒ＾３は直鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿１＿０−アルキル
   を表わし；Ｒ＾４はアルキル、アルコキシ、ｐ−アルキ
   ルフェニル、ｐ−アルコキシフ ェニル、トランス−４−アルキルシクロヘ キシル、４′−アルキル−４−ビフェニリル、ｐ−（ト
   ランス−４−アルキルシクロヘキ シル）フェニル、２−（トランス−４−ア ルキルシクロヘキシル）エチル、ｐ−〔２ −（トランス−４−アルキルシクロヘキシ ル）エチル〕フェニルまたは２−〔ｐ− （トランス−４−アルキルシクロヘキシル）フェニル〕
   エチルを表わし；Ｒ＾４におけるアルキル残基は直鎖状
   のＣ＿１〜Ｃ＿１＿０−アルキルを表わし、そしてＲ＾
   ４におけるアルコキシ残基は直鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿１＿
   ０−アルコキシを表わす、 の化合物或いは一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼III 式中、環Ｃは１，４−フェニレンまたはト ランス−１，４−シクロヘキシレンを表わ し；Ｒ＾５は直鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿１＿０−アルキルを
   表わし；そしてＲ＾６は直鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿１＿０−
   アルキルまたは直鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿１＿０−アルコキ
   シを表わす、 の化合物を含有する液晶混合物。 ２、式 I の化合物１〜４０重量％、好ましくは３〜２
   ０重量％並びに式II及びIIIの化合物３〜７０重量％、
   好ましくは２０〜５０重量％を含有する特許請求の範囲
   第１項記載の液晶混合物。 ３、ｎが数０を表わし、環Ａ及びＢが１，４−フェニレ
   ンを表わし、そしてＲ＾１がアルキルまたはトランス−
   ４−アルキルシクロヘキシルを表わす特許請求の範囲第
   １項または第２項記載の液晶混合物。 ４、Ｒ＾２及びＲ＾１におけるアルキル残基が直鎖状の
   Ｃ＿３〜Ｃ＿７−アルキルを表わす特許請求の範囲第１
   〜３項のいずれかに記載の液晶混合物。 ５、Ｒ＾４がアルキル、アルコキシ、トランス−４−ア
   ルキルシクロヘキシル、ｐ−（トランス−４−アルキル
   シクロヘキシル）フェニルまたは２−〔ｐ−（トランス
   −４−アルキルシクロヘキシル）フェニル〕エチル、好
   ましくはアルコキシを表わす特許請求の範囲第１〜４項
   のいずれかに記載の液晶混合物。 ６、環Ｃがトランス−１，４−シクロヘキシレンを表わ
   し、そしてＲ＾６が直鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿６−アルコキ
   シを表わす特許請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載
   の液晶混合物。 ７、電子−光学目的のために特許請求の範囲第１〜６項
   のいずれかに記載の液晶混合物の使用。 ８、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、Ｙは窒素を表わし、そしてＺはＣＨ を表わすか、またはＺは窒素を表わし、そ してＹはＣＨを表わし；ｎは数０または２ を表わし；環Ａ及びＢは１，４−フェニレ ンまたはトランス−１，４−シクロヘキシ レンを表わし；Ｒ＾１はｐ−アルキルフェニル、トラン
   ス−４−アルキルシクロヘキシ ル或いは、ｎが数２を表わす限りにおいて は、またアルキルを表わし；そしてＲ＾２及びＲ＾１に
   おけるアルキル残基は直鎖状のＣ＿１〜Ｃ＿１＿０−ア
   ルキルを表わす、 の化合物。 ９、ａ）Ｙが窒素を表わし、そしてＺがＣＨを表わす式
   I の化合物を製造するために、一般式▲数式、化学式
   、表等があります▼ＸIII の化項合を塩基の存在下において一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ＸIV 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、ｎ並びに環Ａ及びＢは特許請求
   の範囲第８項記載の意味を有し、 そしてＲ＾１＾０はアルキルを表わす、 の化合物の酸付加塩と反応させるか、 ｂ）Ｚが窒素を表わし、そしてＹがＣＨを表わす式 I
   の化合物を製造するために、一般式▲数式、化学式、表
   等があります▼ＸＶ の化合物を塩基の存在下において一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ＸVI 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、ｎ並びに環Ａ及びＢは特許請求
   の範囲第８項記載の意味を有し、 そしてＲ＾１＾０はアルキルを表わす、 の化合物の酸付加塩と反応させるか、或いはｃ）ｎが数
   ２を表わす式 I の化合物を製造するために、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ＸVI 式中、Ｒ＾２、Ｙ、Ｚ並びに環Ａ及びＢは特許請求の範
   囲第８項記載の意味を有し、そ してＲ＾１はｐ−アルキルフェニル、トランス−４−ア
   ルキルシクロヘキシルまたはア ルキルを表わす、 の化合物を触媒的に水素添加する ことを特徴とする特許請求の範囲第８項に定義した式
   I の化合物の製造方法。 １０、電子−光学目的のために特許請求の範囲第８項に
   定義した式 I の化合物の使用。