JPS61168233A - 半導体装置の修理方法 - Google Patents

半導体装置の修理方法

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JPS61168233A
JPS61168233A JP752685A JP752685A JPS61168233A JP S61168233 A JPS61168233 A JP S61168233A JP 752685 A JP752685 A JP 752685A JP 752685 A JP752685 A JP 752685A JP S61168233 A JPS61168233 A JP S61168233A
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JP
Japan
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semiconductor chip
mounting substrate
mounting
semiconductor device
chip
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JP752685A
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Yoshiaki Hanabusa
英 善明
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、半導体装置の修理(repaj、r)方法に
係り、特にフリップ・チップ方式半導体装置の修理技術
に適用して有効な技術に関するものである。
〔背景技術〕
フリップ・チップ方式マルチチップモジュール等の半導
体装置は、不良品の半導体チップが発生した場合、それ
を新しい良品の半導体チップと交換して再び使用してい
る。この不良の半導体チップと新しい良品の半導体チッ
プとの交換は、不良品の半導体チップの半田バンプ等の
突起電極を溶して真空チャックで吸い上げて、塔載基板
から半導体チップを取りはずしていた。
しかしながら、この方法では、半導体チップを塔載基板
から取りはずした後の塔載基板上に、半田バンプ等の突
起電極の材料が残る。この残った突起電極の材料の高さ
が不均一であるため、新しい良品の半導体チップを塔載
基板に取り付けた場合、半導体チップと塔載基板との接
合が適切にできないということを、本発明者は見出した
フリップ・チップ方式半導体装置において、前記のよう
に、半導体チップと塔載基板との接続が適切でないと、
例えば、半導体チップと塔載基板との熱膨張係数差によ
って、半田接合部に半田バンプの歪みを発生する。周囲
湿度の変化や半導体チップの発熱の変化等によって、歪
みが繰り返されると、半田バンプは、クリープ疲労によ
って寿命にいたる(例えば、日経マグロウヒル社発行の
[日経エレク1へロニクス、別冊no2.1984.6
.11、pl、14J参照)。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、半導体チップを突起電極を介して塔載
基板に塔載するフリップ・チップ方式半導体装置の修理
方法において、前記半導体チップを塔載基板から取りは
ずす際に、塔載基板側にそれぞれ一定量の突起電極を残
すか、あるいは、はとんど残さないようにし、それを使
用して新しい半導体チップと塔載基板を適切に接合する
ことができる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、半導体チップ側又は塔載基板側から前記突起
電極を加熱しながら、半導体チップ又は塔載基板を振動
させて取りはずすことにより、塔載基板上にそれぞれ一
定量の半田バンプ等の突起電極を残すか、あるいは、は
とんど残さないようにし、それを使用して新しい半導体
チップと塔載基板との接続を適切に接合することができ
るようにしたものである。
以下、本発明の構成について、実施例とともに説明する
なお、全図において、同一の機能を有するものは同一の
符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
〔実施例I〕
第1図及び第2図は、本発明の実施例Iの半導体装置の
修理方法を説明するための図であり、第1図は、その修
理方法の実施装置の要部構成を示す断面図、第2図は、
その実施装置の動作を説明するための図である。
第1図及び第2図において、1は半導体チップ、2は半
田バンプ等からなる突起電極、3は塔載基板である。4
はその中央部に貫通孔又は貫通溝4にして載置するため
のものである。5は赤外線ランプであり、前記貫通孔又
は貫通溝4Aに向けて赤外線を照射するためのものであ
る。6はその中央部に真空室6Aを有する真空挟持治具
であり、図示していない支持装置に、水平及び上下方向
に移動可能に支持されている。この真空挟持治具6は、
図示していない超音波振動装置等の振動装置によって微
小振動するようになっている。また、真空挟持治具6の
真空室6Aは、図示していない真空ポンプに接続されて
いる。
次に、本実施例Iの修理方法を第1図及び第2図を用い
て説明する。
半導体装置の塔載基板3を下側にして載置台4に載せ、
載置台4の中央部の貫通孔又は貫通溝4Aの位置に不良
品の半導体チップ1の部分がくるように位置調整する。
次に、真空挟持治具6の真空室6Aを真空ポンプで真空
にして半導体チップ1を吸引挟持し、それを超音波振動
装置等の振動装置によって水平方向(第1図の左右矢印
方向)に微小振動させながら、赤外線ランプ5により赤
外線を載置台4の貫通孔又は貫通溝4Aに向けて照射す
る。これにより、半導体装置の塔載基板3側から加熱さ
れて行くので、半田バンプ等の突起電極2の塔載基板3
側から加熱される。そして、突起電極2と塔載基板3と
の界面部の突起電極2の材料が溶は始めると、半導体チ
ップ1が水平方向に微小振動されているため、突起電極
2は塔載基板3から剥離される。この時、真空挟持治具
6を第2図に示すように、上方向(図示の上向きの矢印
方向)に移動させて半導体チップを取りはずす。
これにより、塔載基板3の半導体チップ1が取り除かれ
た部分には、半[lバンプ等の突起電極2の材料はほと
んど残っていない。
したがって、この塔載基板3の載置面がほぼ平滑面とな
っているので、その上に新しい良品の半導体チップ1.
の突起電極2を適切に接合することができる。これによ
り、再生された信頼性の高い、長寿命の半導体装置を得
ることができる。
〔実施例■〕
第3図及び第4図は、本発明の実施例Hの半導体装置の
修理方法を説明するための図であり、第3図は、その修
理方法の実施装置の要部構成を示す断面図、第4図は、
その実施装置の動作を説明するための図である。
第3図に示す本実施例■の実施装置は、第1図に示す実
施装置の真空挟持治具6の材料を金属等の熱伝湛の良い
材料で構成し、その側部に発熱コイル7を設けたもので
ある。
本実施例Hの修理方法は、第3図に示す実施装置から理
解できるように、前記実施例■の修理方法の加熱手段を
、半導体チップ1側から行うようにしたものである。こ
のようにすることにより、半導体装置の半導体チップ1
側から加熱されて行くので、半田バンプ等の突起電極2
の半導体チップ1側から加熱される。そして、突起電極
2と半導体チップ1との界面部の突起電極2の材料が溶
は始めると、半導体チップlが水平方向(第3図の左右
矢印方向)に微小振動されているため、塔載基板4から
突起電極2は塔載基板2から剥離される。この時、真空
挟持治具6を、第4図に示すように、上方向(図示の上
向きの矢印方向)に移動させて半導体チップは取りはず
される。これにより、塔載基板3の半導体チップ1が取
り除かれた部分にはほぼ原形の一定量の突起電極2が残
る。
したがって、この塔載基板3に残された突起電極2は、
それぞれほぼ原形の一定量であるので、その上に新しい
良品の半導体チップ1を適切に接合する8とができる。
これにより、再生された信頼性の高い長寿命の半導体装
置を得ることができ     する。   。
また、前記塔載基板3に一定量の半田バンプ等の突起電
極材料が残り、それが修理再生時にそのまま使用するこ
とができるので、新しい半導体チップに突起電極2を設
ける工程を省略することができる。
〔効果〕
以上説明したように、本願で開示した新規な技術によれ
ば、次に述べるような効果を得ることができる。
(1)前記半導体チップ側又は塔載基板側から前記突起
電極を加熱しながら、半導体チップ又は塔載基板を微小
振動させて取りはずすことにより、一定量の半田バンプ
等の突起電極が残るようにするか、あるいは、残らない
ようにすることできるので、それを使用して新しい半導
体チップと塔載基板とを適切に接合することができる。
(2)前記(1)により、再生された信頼性の高い長寿
命の半導体装置を得ることができる。
(3)前記(1)の半導体チップ側から加熱した場合に
は、塔載基板にほぼ原形のままの一定量の=8− 半田バンプ等の突起電極材料が残り、それを修理再生時
にそのまま使用できるので、新しい半導体チップに突起
電極2を設ける工数を省略することができる。
以上、本発明を実施例にもとずき具体的に説明したが、
本発明は、前記実施例に限定されるものでなく、その要
旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは
言うまでもない。
例えば、前記実施例では、加熱手段として赤外線ランプ
又は発熱コイルを用いたが、熱風を送風するようにして
もよい。
また、前記実施例では、半導体チップ側に振動を与える
ようにしたが、塔載基板側を振動させるようにしてもよ
い。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は、本発明の実施例■の半導体装置の
修理方法を説明するための図であり、第1図は、その修
理方法の実施装置の要部構成を示す断面図、 第2図は、その実施装置の動作を説明するための図であ
る。 第3図及び第4図は、本発明の実施例Hの半導体装置の
修理方法の装置を説明するための図であり、 第3図は、その修理方法の実施装置の要部構成を示す断
面図、 第4図は、その実施装置の動作を説明する図である。 図中、1・・・半導体チップ、2・半田バンプ等の突起
電極、3・・・塔載基板、4・・・載置台、4A・・・
貫通孔又は溝、5・・・赤外線ランプ、6・真空挟持治
具、6A・・・真空室、7・発熱コイルである。 =11−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体チップを突起電極を介して塔載基板に塔載す
    るフリップ・チップ方式半導体装置の修理方法において
    、前記半導体チップ側又は塔載基板側から前記突起電極
    を加熱しながら、半導体チップ又は塔載基板を振動させ
    て取りはずすようにしたことを特徴とする半導体装置の
    修理方法。 2、前記加熱手段として、熱線を用いることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の半導体装置の修理方法。 3、前記加熱手段として、発熱コイルを用いることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置の修理
    方法。 4、前記半導体チップ又は塔載基板を振動させて取りは
    ずす手段として、半導体チップを真空挟持して振動させ
    る真空挟持振動装置を用いたことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の半導体装置の修理方法。
JP752685A 1985-01-21 1985-01-21 半導体装置の修理方法 Pending JPS61168233A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001097278A1 (en) * 2000-06-12 2001-12-20 Advanced Micro Devices, Inc. Solder bump and wire bonding by infrared heating
US8444044B2 (en) 2008-03-10 2013-05-21 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods for forming wire bonds

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2001097278A1 (en) * 2000-06-12 2001-12-20 Advanced Micro Devices, Inc. Solder bump and wire bonding by infrared heating
US6384366B1 (en) 2000-06-12 2002-05-07 Advanced Micro Devices, Inc. Top infrared heating for bonding operations
US8444044B2 (en) 2008-03-10 2013-05-21 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods for forming wire bonds

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