JPS61166117A - 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 - Google Patents

耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法

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JPS61166117A
JPS61166117A JP60007951A JP795185A JPS61166117A JP S61166117 A JPS61166117 A JP S61166117A JP 60007951 A JP60007951 A JP 60007951A JP 795185 A JP795185 A JP 795185A JP S61166117 A JPS61166117 A JP S61166117A
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atomic
thin film
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Shigeki Hamada
隆樹 浜田
Tetsuharu Hayakawa
早川 徹治
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Sumitomo Special Metals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明kl.、[く(RはYを含む希土類元素のうち
少なくどーt)1種)、B,Feを主成分とする永久磁
石の耐食性を改善した希土類・ボロン・鉄系永久磁石の
製造方法に関する。
前原技術 現在の代表的な永久磁石月利は、アルニ],ハートフ■
ラ,イトおよび希土類]パル1〜磁石である。
近年の]パル1への1京利事情の不安定化に伴ない、]
バパルを20〜30wt%含むアルニコ磁石の需要は減
り、鉄の酸化物を主成分とする安価なハードフエライ1
〜が磁石{1判の主流を占めるようになった。
一方、希土類]パル1へ磁石は]パル[〜を50−60
wt%も含むうえ、希土類鉱石中にあまり含まれていな
いSmを使用するため大変高価であるが、他の磁石に比
べて、磁気特性が格段に高いため、主として小型C゛付
加価値の高い磁気回路に多用されるようになった。
本出願人1;1先に、高価<r SmやCoを含有しな
い新しい高性能永久磁石どじてFe − B−R系四{
はYを含む希土類元素のうら少<r <とも1種)永久
磁石を提案しIJ(特願昭57−145072号)。こ
の永久磁石は、RとしてNdヤ)Prを中心とする資源
的に豊富な軽希土類を用い、Feを主成分として258
GOe以上の極めて高いエネルギー積を示すJぐれた永
久磁石である。
しかしなから、−に記のすぐれた磁気12■性をイjす
るFe−BR系磁気異方・111焼結体からイする永久
磁石は主成分として、空気中で酸化し次第に安定41酸
化物を牛成し易い希1類元系及び鉄を含Mづ−るため、
磁気回路に組込んだ場合に、磁石表面に牛成りる酸化物
により、磁気回路の出力低下及び“磁気回路間のぼらつ
きを惹起し、また、表面酸化物の脱落による周辺)成孔
への汚染の問題があった。
そこで、II−、jj頼人(ユ先に、上記の[θ−B−
n系)1く久磁石の耐食性の改善のため、磁石体表面に
無電解めっき法あるいIJ、電解めっき法により耐食性
金属めつき層を被覆した永久磁石(特願昭58−162
35()弓〉及び16石体表面にスプレー法あるいは浸
漬法によって耐食・1(1樹脂層を被覆した永久磁石を
jT案(特願昭58−171907号)した。
しかし、前者のめつぎ法では永久磁石体か焼結体であり
有孔′14のため、この孔内にめっき前処理で酸性溶液
また(、J、アルカリ刊溶液か残留し、経年変化とども
に発錆Jる恐れがあり、またl浸i 1′i体の1薬品
・PIか劣るため、めっさ[1、rに磁石表面か腐食さ
れで1f;省・1ノド防良゛111が劣る問題かあった
1゜また後者のス/用ノー法による樹脂の塗)支に【。
1、方向・1」かあるため、被処理物表面全体に均一な
(ら1脂被肱を施−りの1、二多大の工程2手間を要1
)、’1.!Jに形状か複1111イ昌“C形r[、i
体に均一19みの被11r、5をメ11ハすことLJ、
囲動であり、よた浸油法で1..1. e−1脂被膜厚
みか不均一にイfす、製品−)1法1:?!l磨か悪い
問題があった3゜発明σ耳]的 この発明(、jl、希土類・小ロン・鉄を主成分ど覆る
新規な永久磁石の耐食・1)1の改p1を1」的どじ、
腐食・1ノ1某晶等を使用、残mざぜることイfく、密
着・1(1゜防食性にりぐれた酬食刊薄膜を磁石体表面
に均一厚みで設(Jることか−(゛さろ永久磁石の製)
告方法を目的どしでいる1゜ 弁明の(11J成と効果 この発明1は、真空容器内に導入したアルゴン/jスま
た(J15反応・1」ガスの単独あるいは混合ガスをス
パッター電源により111電し、イオン化された前記ガ
スを電界に−C加速させでコーティング(Aからなるタ
ーグツ1〜板に衝突してコーティング原子を放出さl!
、容゛器内に配置するR  (RはYを含む希土類元素
のうら少1.> くとも1種)8原子%〜3()原子%
、B  21i子%−28原子%、Fe42原子%〜・
90原子%を主成分とし主相か正方晶相からなる永久磁
石体表面に、耐食性薄膜層を形成被覆してなることを特
徴りる耐食11のすぐれた永久磁りの製造方法である。
すなわち、この発明は、R(RはYを含む希土類元素の
うち少なくとも1種)8原子%〜30原子%、B 2原
子%〜281京子%、Fe42原子%〜90原子%を主
成分とし主相が正方晶相からなる永久磁石体表面に、ス
パッタリング法により、Aρ、 Ni、 Cr。
Cu、Co等の金属またはぞの合金あるいは5jOz 
、 A&203 、  Cr2O3、TLN 、  A
&l’l 、  TLC等の耐食’14. H膜層を形
成被覆してなることを特徴する耐食性のすぐれた永久磁
石の製造方法である。
この発明は、水系永久磁石表面に生成する酸化物を抑制
づるため、該表面に均一で、強固かつ安 5一 定’+r耐食・1(1薄膜層を形成刃る製造方法であり
、本発明により形成されlJ耐食性薄膜により、磁石体
表面の酸化か抑制され、又、腐食性の葉品等を使用、残
留させることが4rいため、磁気特性か劣化することイ
tく、かつ長期にわたって安定する利点かある。。
この発明にJ3Uプるスパッタリング法は、減圧したア
ルゴン雰囲気中で、形成被膜すべぎコーティング材料を
陰極ターゲラ1〜4flとし、]−ティング材利を被着
さける永久磁石体を陽極として、少なくとも2種間に電
圧を加え、雰囲気ガスをイオン化し、生じた陽イオンが
電界により加速されて大きな運動エネルギーを′bって
陰極表面に衝突し、表面原子をカソードスパッタリング
し、このたたき出された原子が陽極の磁石体表面に凝縮
して薄膜を形成被覆さぜるbのである。
スパッタリング法としては、二極スパッタリング、バイ
アス・スパッタリング等の直流スパッタリング、非対称
交流スパッタリング、高周波スパッタリングの交流スパ
ッタリング、ざらにゲッタ・スパッタリング、プ′ラズ
マ・スパッタリングかあり、12fに、直流二極スパッ
タリング、高周波スパッタリング、−ゾシズマ・スパッ
タリングにd3いζ、高真空アルゴン雰囲気中に、 N
2 、02.  C2H2゜Co2等の反応″1ノ1ガ
スの少なくとも1種を導入してlJり出されlj原子と
反応さIJで、例えば′、ターゲラ1〜3屈等の王1¥
化物、酸化物、あるい(J、炭化物の化合物ン’(D膜
を牛成さlる反応・l’lスパッタリングかおり、こ1
′シらいり−れの方法ら形成被首する−コーティング]
A利の1.’! ’?=’jや厚み、被棺側永久磁石体
形状ヤ)作業・1ノ1イ1どにlLト、iし−て適宜選
定適用することができる1、 ターゲラl゛−JAたる]−ティング材料【Jl、/V
、Nj。
Cr、 Cu、 Co簀の金属またはその合金あるいI
J、’ 5jD2゜△#203 、  Cr2O3、T
jl’l 、  /VN 、  Tic等、水系永久磁
石の耐食性を向1−さけることができる金属ヤ)合金、
ヒラミックス、金属等の窒化物、酸化物、あるい【Jl
、炭化物の化合物か好Jニジい。
また、この発明において、永久磁石体に形成り−る耐食
・1ノ1薄膜か金属の湯合は、単一ターゲラ1〜か好ま
しく、また、合金の輪台は、複数ターゲットの使用か望
ましい。
また、この発明方法により、永久磁石表面に形成した耐
食・1ノ1薄膜の厚み(J5.30μm以下の厚みか得
られる。。
永久磁石の限定理由 この発明の永久磁石に用いる斉十類元索Rは、8原子%
〜30 Iil r%のNd、 Pr、 I)y、 l
lo、 Tbのうち少イtくとも1種、あるいはさらに
、l−a、 Sm、 ce、 Gd、 Eu、Pm、丁
111.Yl)、Yのうら少イrくども1種を含むもの
か好Jjシい。
父、通例1くのうら1種をらっ−C足りるが、実用上1
1.2種以にの混合物(ミツシミ1メタル、ジジム等)
を人手−1の便宜等の理由により用いることができ、5
i11. ’l’、 l a、 Ce、 G(I等t5
1.他のR1特にNd、 Pr等との)捏合物として用
いることかできる。。
なお、この1くは紳希土類元素でなくてもよく、I業−
1人丁1+l (’#、 /、t 111i4囲で製造
上不可避な不純物を含イ了り−るもので゛ら差支えない
R(Yを含む希ト類元累のうち少なくとも1種)(よ、
新規イγ上記系永久磁石における、必須元素てあつ−C
18原子%未満では、結晶構造がα−鉄と同−J/Is
造の立り晶組織とイするため、高磁気特性、特に高保磁
力か(Qられり゛、30原子%を越えると、Rリッヂ4
1非磁性相が多くイ【す、残留磁束密度(Br)が低下
【ノて、−りぐれた特性の永久磁石が得られない。よっ
て、希十煩元素は、8原子%〜30原子%の範囲ど覆る
、。
Bは、新規イγ上記系永久!1′Fiにお【プる、必須
元素であって、2原子%未満ては、菱面体組織となり、
高い保磁力(illc)は得られず、28原子%を越え
ると、Bリッヂ4r非磁性相が多くなり、残留磁束密度
(Br)が低下Jるため、すぐれた永久磁石が得られな
い。J、って、13は、2原子%〜28原子%の範囲ど
する。
1”ei;t、新規な−に記系永久磁石において、必須
元素であり、42原子%未満では残留磁束密度(Br)
が低下【ノ、90原子%を越えると、高い保磁力か得ら
れないので、[eは42原子%〜90原子%の含有とす
る。
また、この発明による永久磁石用合金において、Feの
一部をCoで16換することは、得られる磁石の磁気時
・l’lを1員うことなく、温度特性を改善することか
できるか、Co首換足がFeの50%を越えると、逆に
磁気特性が劣化りるため、好ましくない。
また、この発明による永久磁石は、R,B、Feの他、
T業的生産上不町避的不純物の存在を許容できるか、B
の一部を4.0原子%以下のC13,5原子%以下のP
、2.5原子客)以下のS、3,5原子%以下のCUの
うら少’xT <ど−t)1種、合計量で/1.0原子
%以下で直換することにより、永久磁石の製造・l’l
改善、低価r6化がFIT能である。
また、下記添加元素のうら少なくとも1種は、R−B−
Fe系永久磁r1に対してその保磁力等を改善あるいは
製造性の改善、低価格化に効果があるため添加する。し
かし、保磁力改善のための添加に伴ない残留(6束密度
(Br)の低下を招来覆るので、従来のハードフ■ライ
l−磁石の残留磁束密度と同等以上となる範囲での添加
が望ましい。
9.5原子%以下の八1.4.5原子%以下のTi、9
.5原子%以上のV、8.5原子%以下のCr、8.0
原子%以下のHn、5原子%以下の81.12.5原子
%以上のltl b、10.5原子%以−トのIa19
.5原子%以下の■0.9.5原子%以上の訃1.2.
5原子%以下のSt)、7原子%以下のGe、3!i 
nA子%Jス下のSn、  5.5原子%以下の7r、
6.0原子%以下の旧、5.0原子%以下の5i15.
5原子%以下のllfのうち少なくとも1種を添加含有
、但し、2種以上含有する場合15j1、その最大含有
fTi iJ、当該添加元素のうち最大値を右−りるも
のの原子自分比%以上の含有させることにより、永久磁
石の高保磁力化が可能になる。
結晶相は主相か正方品であることか、微細で均一な合金
粉末より、すぐれた磁気時・1(1を有jる焼結永久磁
石を作製覆るのに不可欠である。
したがって、この発明の永久磁石は、RとしてNdヤP
rを中心とづる資源的に豊富な軽希土類を主に用い、F
e、B、R,を主成分と覆ることにより、25 HG 
Oθ以トの極めて高いエネルキー積並びに、高残留磁束
密度、高保磁力を有し、かつ高い耐食性−11= を右ヅる、すぐれた永久磁石を安価にjIIることかて
ぎる1゜ J:だ、この発明の永久磁石用合金は、粒径が1〜10
0.izmの範囲にある正方品系の結晶構造を右Jる化
合物を主相どし、体積比で1%〜50%の昇磁・1)1
相(lv2化物相を除く)を含むことを特徴どする。
また、この発明の永久磁石1(J5、磁場中プレス成型
り−ることにJ、り磁気的異y)・l’l磁石か得られ
、また、無磁界中でプレス成型することにより、磁気的
等方fJ磁fイを得ることができる。
この発明による永久磁YAは、保磁力1llc≧1KO
s、残留磁束密度Br〉旧く(′A、を示し、最大工ネ
ルキー情(Bll)maXはハードフエライ1へと同等
以上となり、最も好ましい組成範囲では、(Bl)■a
X≧10 HG Oθを示し、最大値は25HGOel
x十に達する。
また、この発明永久磁石用合金粉末のRの主成分かその
50%以上を1!Y希土類金属が占める場合で、R12
原子%〜20[皇子%、1F /11京子京子24原子
%、Fe 65原子%〜821京子%、を主成分とづる
とき、焼結磁石の場合最もすぐれた磁気特性を示し、特
に軽希土類金属かNdの場合には、(Bll)maxは
その最大ll1Jか358GOθ」ス十に達づる。
実施例 実施例1 出発原料として、純度99.9%の電解鉄、819.4
%を含有し残部はFe及びΔg、 Sj、 C等の不純
物からなるフェロボロン合金、純度99.7%双−Vの
Ndを使用し、これらを高周波溶解し、その後水冷銅鋳
型に鋳)盾【ハ15Nd−8B −77Faなる組成の
鋳洩を191こ。
その後インボッI〜を、スタンプミルにより粗粉砕し、
次にボールミ゛ルにより微粉砕し、粒度31Imの微粉
末を得た。
この微粉末を金型に挿入し、12 kosの磁界中で配
向し、1.5jJの圧力で成形した。
jqられた成形体を、1100°C,1時間、 Ar中
、の条141で焼結し、その後放冷し、さらにAr中の
で600’C,2時間の時効処理を施して、永久磁石を
作製した。
得られた永久磁石から外径2OmmX内1F1.10 
mm X厚み1.5mm寸法に試験片を切り出した。
次に、真空度5x 10−5 Torrの真空容器内に
、陽極として上記試験片を入れ、ざらにArガスを1.
2x 10−2 Torrとなるまで導入し、電極間に
150Wの電圧を加えて放電を起こし、陰極ターゲット
月にC○−18,5Cr合金片を使用して、5時間のス
パッタリングを行ない、]二記試験鋏片面に、ターゲッ
ト祠と同組成の薄膜を形成した1、試験片表面に形成し
た薄膜厚みは5β[口であった。
この試験片に耐食性試験と耐食性試験後の薄膜の密着強
度試験を行なった。また、耐食性試験前後の磁気特性を
測定した。試験結果及び測定結果は第1表に示す。
また、比較のため、上記試験片に、トリクレンにて3分
間溶剤脱脂し、5%Na OHにて60°C,3分間の
アルカリ脱脂した後、2%NCRにて室温、10秒間の
酸洗しワット浴にて、電流密度4A/dm2゜浴温度6
0°C,20分間の条件にて、電気ニッケルめっきを行
ない表面に10.qm厚みのニッケルめっき層召イ1り
るl111☆試験)1(比較例)を得た。この試験j1
に1八[1の実施例1と同一の試験及び測定を行イγい
、その結果を174様に第1表に承り。
耐食″1)1試験(、jl、上記試験片を60 °C(
7) ’(KA fA 9 [)% ’7)湿19の雰
囲気に、5[10It;’1間放冒した場合の試j)k
 J−1−外hす状況−(= しって評価し7J116
Lだ、密着強度試験(;15、耐食刊試験後の一ト配試
11尖j1を、イ;11bテ〜シーC1+n+n間隔の
4VI Ii1部分を引張り、薄11431+¥iか剥
臼1りるか否か(無剥自1]明「1故/仝千月[1故)
て゛h士価じl’−0 夫施は 真空度!ix 10−6 Torrの真空容器内に、陽
極どして実7+fI!例′1と同一の試験片を入れ、ざ
らにArガスを0.8X 10−3 TOrl’どなる
まで導入し、電極間に150Wの電11−を加えて放電
を起こし、陰極ターゲラ1〜4旧ご1 [)Ommφ×
51皿の純度99439%のNi1Aを使用しτ、51
)4間のスパッタリングを行イ^い、1−記試験片表面
に、ターゲタ1〜月と同組成の助IP!を形成した。試
験片表面に形成した薄膜厚み(,15Bmであった3゜ この試験バーに実施例1ど同様の耐食性試験と耐食・l
’l試験後の薄膜の密着強度試験を行ない、また、耐食
・1)1試験前後の磁気’Rr性を測定した。試験結果
及び測定結果は第1表に示す。
実施例33 真空度りX 1()−6Iorrの真?:!容器内に、
陽極として実施例1ど同一の試験片を入れ、ざらにAr
ガスを1.2x 10−21orrとなるFJjで導入
し、電極間に170Wの電圧を加えて放電を起こし、陰
極ターゲラ1〜4Jに100 mmφX !]mmの紳
1i9’1.!39%のsLo24gを使用して、3時
間のスパッタリングを行ない、上記試験片表面に、ター
ゲラ1へ(Δと同組成のa1j膜を形成した。試験)1
表曲に形成した薄膜厚みは51Imであった、1 この試験片に実)+(!i例1ど同様の耐食性試験と耐
食・l’l試験後の薄膜の密着強度試験を行ない、また
、’flF1食・1)1試験前俊の磁気特性を測定した
。試験結果及び測定結果は第1表に示づ−0 第1表の試験及び測定結果に明らかイ【ように、この発
明による耐食″1ノ1薄膜は、比較例に対して、膜厚が
所要厚みでかつ格段にずぐれた均一度が得られている−
にめ、永久磁石体の酸化が確実に防止されており、磁気
性・1ノ1の劣化がなく、比較例に対しで磁気特性の向
上か若しいことが分る。
以下余白

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 真空容器内に導入したアルゴンガスまたは反応性ガ
    スの単独あるいは混合ガスをスパッター電源により放電
    し、イオン化された前記ガスを電界にて加速させたコー
    ティング材からなるターゲット板に衝突してコーティン
    グ材原子を放出させ、容器内に配置するR(RはYを含
    む希土類元素のうち少なくとも1種)8原子%〜30原
    子%、B2原子%〜28原子%、Fe42原子%〜90
    原子%を主成分とし主相が正方晶相からなる永久磁石体
    表面に、耐食性薄膜層を形成被覆してなることを特徴す
    る耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法。
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