JPS611639A - 酢酸誘導体の製法 - Google Patents

酢酸誘導体の製法

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JPS611639A
JPS611639A JP12281984A JP12281984A JPS611639A JP S611639 A JPS611639 A JP S611639A JP 12281984 A JP12281984 A JP 12281984A JP 12281984 A JP12281984 A JP 12281984A JP S611639 A JPS611639 A JP S611639A
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JP
Japan
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compound
formula
alkyl group
alkyl
amide
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Pending
Application number
JP12281984A
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English (en)
Inventor
Kosuke Yamauchi
孝介 山内
Kaneaki Hattori
服部 兼明
Shunichi Ikeda
俊一 池田
Kenji Nakao
中尾 健二
Kentaro Tamaoki
玉置 健太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KH Neochem Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は消炎鎮痛作用を有するプロピオン酸誘導体等の
酢酸誘導体の新規な製法に関する。
さらに詳しくは一般式(1) (式中、Arは置換もしくは非置換アリール基又は複素
環基を示し、“Rは水素もしくはアルキル基を示し、R
・およびR・は同一、もしくは異な9てよく、アルキル
基を示すかまたはR1とR2が一体となって環状アセタ
ールを形成してもよい)で表わされる化合物を (イ)塩基物質もしくはアミド類及び (ロ)一般式(2)もしくは(3) z、NSF3’      (2) CIS02 NGO(3) (式中、2はアルキル基を示す)で表される化合物の存
在下に転位反応させることを特徴とする一般式(4) ■ (式中、Arは前記と同義を示し、R3は水素、アルキ
ル基あるいは置換アルキル基を示す)で表される酢酸誘
導体の製法に関する。
A、rにおけるアリール基としては炭素数6〜1゜のア
リール例えばフェニル、ナフチル等が包含される。置換
アリールの置換基とし、では炭素数1−5のアルキル例
えばメチル、エチル、プロピル1ブチル、イソブチル、
ペンチル等、置倹アルキル(アルキル部分は前記と同義
を示し、置換基としてはフェニル、ハロゲン、ヒドロキ
シル、アミノ等が例示される)、炭素数1−6のアルコ
キシ例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ
フェノキシ、ハロゲン例えば塩素原子、フッ素原子、臭
素原子、アリール基例えばフェニル基1置換フエニル基
(置換基はここで定義される基)。
炭素数1−7のアシル基例えばアセチル、プロピオニル
、フェニルカルボニル等、ヒドロキシル。
アミノ、シクロヘキシル、ニトロ、N、0又はSを含む
複素環基等が包含され、複素環基としては酸素、硫黄又
は窒素を含む5〜6員環もしくはこれに前記置換アリー
ルの置換基、前記アリール基あるいは他の複素環基が結
合した基が包含され、さらに下記の如き基(前記定義に
含まれろ基もあるが代表例として示す)もArに包含さ
れる。
(R’ と水素又はハロゲン原子を示し、R5はフッ素
又は塩素原子、八cはアセチル基を示す)等が例示され
る。R’ 、R2,R及びZにおけるアルキル基として
は炭素数1〜5のアルキル基例えば、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチルが例示される。R3の置換
アルキル基の置換基としてはヒドロキシル基等が例示さ
れる。
以下において一般式(1)、(2) ・・・・で表され
る化合物・を化合物(1)、(2)・・ という。
化合物(4)は解熱作用あるいは消炎鎮痛作用を有する
きわめて有用な医薬品として知られている。〔ファルマ
シア、Vol、 11 、 No、  7 、 515
(1975>、東工試ニュース(化学工業資料)Vol
、 13 、 No、  4. 85 (1975) 
〕。又化合物(4)の1部は他の化合物(4)の原料と
もなりつる。又ピレスロイド系化合物(殺虫剤)の酸部
分の原料ともなる。
従来より、化合物(4)の製法としては種々の方法が知
られている。
これらの中、化合物(1)を原料として、化合物(4)
を製造する方法は化合物(1)のヒドロキシル基をトシ
ル化したのち、たとえば、炭酸カルシウム水溶液中で加
熱処理をして、化合物(4)とする方法が知られている
のみである。〔上積ら、Te、trahedronLe
tters、 22  No、43.4305 (19
81)。〕容易に合成しつる化合物(1)を原料として
、前述のようにトシル化工程を加えることなく、化合物
(4)を得る方法を研究した結果、収率よく製造しうる
方法が見い出された。
本発明によれば、化合物(1)を(イ)塩基物質あるい
はアミド類及び(ロ)化合物(2)もしくは(3)の存
在下に転位反応させることによって高収率で化合物(4
)を得ることができる。この反応は1.2位の全く新規
な転位反応である。
本発明の実施に際しては、有機溶媒に溶解した化合物(
1)に塩基物質あるいはアミド類1、及び化合物(2)
もしくは(3)を加えて反応さけて、化合物(1)の転
位反応を行わせる。
反応に使用される有機溶媒としては反応に不活性な溶媒
がいずれも用いられるが例えばベンセン。
トルエン等の芳香族炭化水素、メチレンクロリド。
クロロホルム等のハロゲン化化合物等があげられ塩基物
質としてはピリジン、T−ピコリン、イミダゾール、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルアミン、イソプロピル
アミン等の芳香族あるいは脂肪族アミンの第1アミン、
第2アミン、第3アミン類さらにt−ブトオキシカリウ
ム、等のアルコキシド類や、酢酸カリウム、安息香酸ナ
トリウム。
安息香酸カルシウム等の有機酸アルカリ金属塩あるいは
アルカリ土類金属塩類を例示することができる。さらに
ナトリウムアミド等の金属アミド類や塩基性レジンたと
えば弱塩基性レジンW A −31(商品名;ダイヤイ
オン)等も用いられる。
アミド類としてはジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ピロリドンあるいはN−ベンジルピロリドン
等のアミド類を例示することができる。
これらの塩基物質、アミド類の使用量はその種類により
異なるが化合物(1)に対して少なくとも1倍モル使用
するのが好ましい。またその種類によっては溶媒として
も使用することができる。これらは単独で用いてもよく
、また混合物として使用してもよい。
化合物(2)あるいは化合物(3)としてはジエチルア
ミノサルファトリフルオライド、ジメチルアミノサルフ
ァトリフルオライド、クロロスルホニルイソシアナート
等が用いられる。
反応は−100〜150℃好ましくは一60〜100℃
の範囲で行われる。この温度範囲において反応時間は一
般に1分から20時間である。
活性炭等を共存せしめることによって反応がスムースに
進行する。
このようにして得られた反応生成物は常法によって単離
、生成される。例えばハロゲン化水素酸と塩基との塩が
不溶性の場合は反応液を濾過して、これらを除く。これ
らの塩が溶解しているときは、そのまま後処理を行う。
後処理は、必要であれば反応液を濃縮して、溶媒あるい
は過゛剰のアミン類、アミド類を除く。残渣に水を加え
、生成物を有機溶媒、例えばクロロホルムで抽出する。
クロロホルム溶液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィーで目的物質を分画して、高品質の化合物(4
)を高収率で得ることができる。6以下実施例を示す。
実施例1゜ ジエチルアミノサルファートリフルオライド2、70 
gを塩化メチレン20+++1に溶解し、−78℃に冷
却した。その中に、α−ヒドロキシ−p−イソブチルプ
ロピオフェノンジメチルアセタール4、17 gと塩化
メチレン50m1の溶液を同温度で滴下しさらに3時間
攪拌した。ついで5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
、クロロホルム50m1で3回抽出した。クロロホルム
層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し
た。油状残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(n−
ヘキサン−酢酸エチル系溶媒で展開)にて精製して、2
−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸メチル1.
82 gとα−ヒドロキシ−p−イソブチルプロピオフ
ェノンジメチルアセクール1.83g’を得た。(収率
89%) 実施例2、 α−ヒドロキシ−p−インブチルプロピオフェノンジメ
チルアセクール250mgをピリジン1mlと塩化メチ
レン3mlの混合溶媒に溶解し、水冷下、クロロスルホ
ニルイソシアネート220■と塩化メチレン1mlの溶
液を滴下した。同温度で3時間攪拌した後、ガスクロマ
トグラフィーを用いて定量分析を行ったところ、2−(
4−イソブチルフェニル)プロピオン酸メチルの収率は
51%であった。
ガスクロマトグラフィー条件 カラム 2%DBGS on Gas Chrom口3
IIIIIIφ 1.’ 5m Glassカラム温度
 100→200℃ 注入口温度 200℃ また、試料をN、O−ビス(トリメチルシリル)アセト
アミド、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルシリルク
ロリドを用いてトリメチルシリル化を行った後、以下の
条件でガスクロマトグラフィーによる分析を行ったとこ
ろ、2−(4−インブチルフェニル)プロピオン酸が生
成していた。
ガスクロマトグラフィー カラム 2%5R−52on ChroIIlosor
b W3mmφ 3m Glass カラム温度 165→260℃ 注入口温度 270℃ 実施例3゜ α−ヒドロキシ−p−7エニルブロピオフエノンジメチ
ルアセタール272mlを塩化メチレン2LI+1に溶
解し、−78℃に冷却した。ついでジエチルアミノサル
ファートリフルオライド320mgと塩化メチレンll
T11の溶液を滴下し、同温度で2.5時間攪拌した。
反応混合物をガスクロマトグラフィーを用いて定量分析
を行ったところ、2−(4−ビフェニリル)プロピオン
酸メチルの収率は84%であった。
ガスクロマトグラフィー条件 カラム 5%5ilar IOC,Chrom、oso
rb W3祁φ 1mGIass カラム温度 20−0℃ 特許出願人(102>協和醗酵工業株式会社代表者 加
 藤 幹 夫 手続補正基(自発) 昭和59年 9月30日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、Arは置換もしくは非置換アリール基又は複素
    環基を示し、Rは水素もしくはアルキル基を示し、R^
    1およびR^2は同一もしくは異なってよく、アルキル
    基を示すかまたはR^1とR^2が一体となって環状ア
    セタールを形成してもよい)で表される化合物を (イ)塩基物質もしくはアミド類及び (ロ)一般式(2)もしくは(3) Z_2NSF_3(2) ClSO_2NCO(3) (式中、Zはアルキル基を示す)で表される化合物の存
    在下に転位反応させることを特徴とする一般式(4) ▲数式、化学式、表等があります▼(4) (式中、Arは前記と同義を示し、R^3は水素、アル
    キル基あるいは置換アルキル基を示す)で表される酢酸
    誘導体の製法。
JP12281984A 1984-06-14 1984-06-14 酢酸誘導体の製法 Pending JPS611639A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5414108A (en) * 1992-08-11 1995-05-09 Biogal Gyogyszergrar Process for the preparation of carboxylic acids and derivatives of them

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5414108A (en) * 1992-08-11 1995-05-09 Biogal Gyogyszergrar Process for the preparation of carboxylic acids and derivatives of them

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